溶铜设备和铜箔制备系统技术方案

本申请提供了一种溶铜设备和铜箔制备系统。其中，溶铜设备包括：罐体、承载板、过滤板、喷淋头和进气管，罐体围设形成溶解腔，承载板设于溶解腔内，承载板用于承载金属铜，过滤板设于溶解腔内，且位于承载板的下方，承载板和过滤板之间间隔设置形成清理腔，罐体的侧壁开设有至少一个清理口，清理口连通清理腔，喷淋头设于溶解腔内，且位于承载板的上方，喷淋头用于喷洒溶解液，进气管位于过滤板的下方，进气管用于充入溶解金属铜的反应气体。本申请的技术方案能够使反应气体顺利与回收的铜箔接触，保证化学反应速率，避免溶解化学反应终止。避免溶解化学反应终止。避免溶解化学反应终止。

【技术实现步骤摘要】
溶铜设备和铜箔制备系统


[0001]本申请涉及铜箔生产
，特别涉及一种溶铜设备和铜箔制备系统。

技术介绍

[0002]溶解回收的铜箔过程中，铜箔中可能存在一些杂物，这些杂物难以溶解。在长期进行回收铜箔的溶解过程中，这些难溶杂物会堆积在承载板的表面，对由下向上穿过承载板的反应气体形成封堵。而在溶解回收的铜箔时，氧气是一种参与溶解化学反应的重要气体，承载板的表面一旦被封堵，氧气无法穿过承载板，氧气无法接触到铜箔，这样在溶解铜箔的化学反应中会缺少重要的氧气参与，由此导致铜箔溶解生产工作进展缓慢，化学反应速率下降，严重时会导致化学反应终止。

技术实现思路

[0003]本申请的一个目的在于提供一种溶铜设备和铜箔制备系统，能够使反应气体顺利与回收的铜箔接触，保证化学反应速率，避免溶解化学反应终止。
[0004]根据本申请的一个方面，本申请提供一种溶铜设备，所述溶铜设备包括：
[0005]罐体，所述罐体围设形成溶解腔；
[0006]承载板，所述承载板设于所述溶解腔内，所述承载板用于承载金属铜；r/>[0007]过本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种溶铜设备，其特征在于，所述溶铜设备包括：罐体，所述罐体围设形成溶解腔；承载板，所述承载板设于所述溶解腔内，所述承载板用于承载金属铜；过滤板，所述过滤板设于所述溶解腔内，且位于所述承载板的下方，所述承载板和所述过滤板之间间隔设置形成清理腔，所述罐体的侧壁开设有至少一个清理口，所述清理口连通所述清理腔；喷淋头，所述喷淋头设于所述溶解腔内，且位于所述承载板的上方，所述喷淋头用于喷洒溶解液；以及进气管，所述进气管位于所述过滤板的下方，所述进气管用于充入溶解金属铜的反应气体。2.根据权利要求1所述的溶铜设备，其特征在于，所述溶铜设备还包括可视窗，所述可视窗转动设置于所述清理口，以打开或关闭所述清理口。3.根据权利要求2所述的溶铜设备，其特征在于，所述可视窗包括窗框和透明板，所述窗框转动连接于所述清理口的边缘，所述透明板嵌设于所述窗框内。4.根据权利要求1至3中任一项所述的溶铜设备，其特征在于，所述承载板的表面设置多个第一通孔，所述过滤板的表面设置多个第二通孔，所述第一通孔的开孔面积为S1，所述第二通孔的开孔面积为S2，则满足：S1≥S2。5.根据权利要求1至3中任一项所述的溶铜设备，其特征在于，所述承载板的表面设置多个第一通孔，所述过滤板的表面设置多个第二通孔，所述第一通孔的开孔面积为S1，所述第二通孔的开孔面积为S2，则满足：...

【专利技术属性】
技术研发人员：高青有，陈磊，周季贵，黄建仁，尹卫华，
申请(专利权)人：深圳惠科新材料有限公司，
类型：新型
国别省市：