本申请涉及一种半导体用显影液生产装置，涉及显影液生产技术领域；其包括反应釜和设置于反应釜内的搅拌组件，还包括驱动组件以及设置于反应釜下方的支撑台，所述反应釜与支撑台之间预留有空隙，所述反应釜下端设置有连接球，所述连接球远离反应釜处的一侧插设于支撑台上，所述反应釜与支撑台之间还设置有插杆，所述插杆直径大于所述空隙的高度，所述驱动组件用于驱动插杆以连接球为中心做圆周运动，以使得所述反应釜以连接球为中心做圆周摆动。本申请具有优化对显影液原料的搅拌效果的作用。申请具有优化对显影液原料的搅拌效果的作用。申请具有优化对显影液原料的搅拌效果的作用。
【技术实现步骤摘要】
一种半导体用显影液生产装置
[0001]本申请涉及显影液生产
，尤其是涉及一种半导体用显影液生产装置。
技术介绍
[0002]在制造半导体、液晶、印刷电路板等电子元部件时，显影液在制造过程中作为清洗剂、触刻剂被广泛使用。
[0003]相关授权公告号为CN207614839U的中国专利，公开了一种显影液生产线，包括原料输送管路、原料泵、带有搅拌器的主反应釜、过滤机、产品储罐；原料输送管路的进料端与原料罐相连，原料输送管路的另一端与主反应釜进料端相连，原料泵与原料输送管路相连，过滤机的进料口通过管路与主反应釜相连，过滤机的出料口通过管路与产品储罐的进料口相连；在生产过程中，首先将原料输送管路进料端连接的软管插入原料罐，然后启动原料罐路上的原料泵向主反应釜内送料，接着启动搅拌器对反应釜内的原料进行搅拌，以加速反应，反应指定时间之后，开启主反应釜的出料口并开启过滤机，通过过滤机过滤产品中的杂质并将产品输送至产品储罐内，最终完成生产。
[0004]针对上述中的相关技术，专利技术人发现上述搅拌器只是带有搅拌桨的搅拌轴，由于搅拌桨相对搅拌轴的安装位置固定，因此搅拌器仅能对原料罐内位于搅拌桨周围的原料进行搅拌，从而易出现对整个原料罐内的原料搅拌不均匀，进而影响生产出的显影液质量的情况。
技术实现思路
[0005]为了改善相关技术中对显影液原料搅拌不均进而导致生产出的显影液质量不佳的技术问题，本申请提供一种半导体用显影液生产装置。
[0006]本申请提供的一种半导体用显影液生产装置，采用如下的技术方案：一种半导体用显影液生产装置，包括反应釜和设置于反应釜内的搅拌组件，还包括驱动组件以及设置于反应釜下方的支撑台，所述反应釜与支撑台之间预留有空隙，所述反应釜下端设置有连接球，所述连接球远离反应釜处的一侧插设于支撑台上，所述反应釜与支撑台之间还设置有插杆，所述插杆直径大于所述空隙的高度，所述驱动组件用于驱动插杆以连接球为中心做圆周运动，以使得所述反应釜以连接球为中心做圆周摆动。
[0007]通过采用上述技术方案，由于插杆的直径大于空隙高度，因此当插杆插入反应釜与支撑台之间时，反应釜将朝远离插杆的方向倾斜，而当驱动组件带动插杆以连接球为中心做圆周运动时，反应釜将以连接球为中心做圆周摆动，此时预先投入反应釜内的原料将在摆动中的反应釜的作用下在反应釜内移动，再通过搅拌组件实现对原料的进一步搅拌，优化搅拌效果。
[0008]作为优选，所述驱动组件包括带有齿槽的第一环板、与第一环板相啮合的主动齿轮、插设于主动齿轮中心处的主杆以及用于驱动主杆转动的电机；所述连接球位于第一环板的中心位置，所述第一环板上的齿槽啮合连接于主动齿轮周壁，所述第一环板背离齿槽
处的一侧连接于插杆端部；所述搅拌组件包括搅拌轴以及设置于搅拌轴侧壁的搅拌桨；所述支撑台上还设置有联动件，所述联动件用于在主杆转动时带动搅拌轴自转。
[0009]通过采用上述技术方案，当启动电机时，主杆自转，此时插杆将在第一环板和主动齿轮的带动下以连接球为中心做周向转动，与此同时，搅拌轴将在联动件的带动下转动，此时原料将在双重作用力的冲击下被均匀搅拌和反应。
[0010]作为优选，所述反应釜顶壁设置有盖板，所述盖板中部开设有安装孔，所述搅拌轴贯穿安装孔并插设于反应釜内，所述安装孔内壁设置有伸缩罩，所述伸缩罩其中一端连接于安装孔内壁，另一端套接于搅拌轴周壁。
[0011]通过采用上述技术方案，伸缩罩的设置在不阻碍搅拌轴自转的前提下，使得反应釜上端封口，避免反应釜在转动过程中，反应釜内的原料溅出反应釜的情况。
[0012]作为优选，所述插杆转动连接于第一环板侧壁，所述插杆周壁套接有从动齿轮，所述支撑台上设置有与从动齿轮相啮合的齿块，所述齿块沿第一环板周向分布，且所述齿块用于与从动齿轮相啮合配合以使得插杆自转。
[0013]通过采用上述技术方案，插杆在以连接球为中心做圆周运动时，还会在从动齿轮和齿块的带动下实现自转，自转的设置可以实现插杆与反应釜底壁之间、插杆与支撑台之间从滑动摩擦变为滚动摩擦，减小插杆周壁与反应釜底壁之间、插杆周壁与支撑台之间的磨损。
[0014]作为优选，所述插杆靠近反应釜处的周壁设置有若干个凸起，全部所述凸起沿插杆周向均匀排布，所述凸起用于在插杆自转时与反应釜底壁相接触并顶推反应釜底壁，所述反应釜靠近边沿处的底壁沿反应釜周向设置有弹性件，所述弹性件用于与支撑台相接触。
[0015]通过采用上述技术方案，在反应釜倾斜并以连接球为中心进行圆周运动时，距离插杆最远处的弹性件将与支撑台相接触，以起到支撑反应釜的作用，而在插杆自转时，当凸起转至与反应釜底壁相接触时，反应釜将在凸起的抵推下增大倾斜角度，弹性件受到压缩，待凸起转至脱离反应釜底壁时，反应釜将在自重作用以及弹性件弹力作用下重新恢复初始的倾斜角度，而随着凸起的循环往复的移动，反应釜将在凸起和弹性件的带动下震动，进一步晃匀反应釜内的原料，优化搅拌效果。
[0016]作为优选，所述弹性件包括限位环板、复位弹簧以及对接环板，所述反应釜底壁沿其周向开设有环槽，所述限位环板插设于环槽内，且所述限位环板沿环槽槽深方向滑移，所述复位弹簧位于环槽内，且所述复位弹簧其中一端连接于环槽槽底，另一端连接于限位环板端壁，所述限位环板远离复位弹簧除的一端与对接环板相连，所述对接环板位于环槽外部，且所述对接环板侧壁沿其周向设置有便于与支撑台相抵接的第一弧面。
[0017]通过采用上述技术方案，对接环板上的第一弧面实现了对接环板与支撑台的平滑接触，限位环板的设置限制了对接环板的移动方向，使得对接环板可以沿环槽深度方向稳定地往复滑移。
[0018]作为优选，所述插杆靠近反应釜处的一端设置有第二弧面，所述第二弧面设置有柔性垫，所述柔性垫与反应釜底壁相抵。
[0019]通过采用上述技术方案，第二弧面和柔性垫的设置进一步实现了插杆与反应釜底壁相互接触位置的磨损，实现插杆与反应釜的稳定接触。
[0020]作为优选，所述反应釜底壁沿其周向贯穿开设有环孔，所述环孔内壁设置有弹力带，所述插杆靠近弹力带处的一端转动连接有顶推板，所述顶推板位于反应釜与支撑台之间，且所述顶推板与弹力带外表面相抵，且所述弹力带与顶推板相抵的部位朝靠近反应釜内部处的位置凸出设置。
[0021]通过采用上述技术方案，当插杆以连接球为中心做圆周运动时，顶推板随顶杆一并移动，且顶推板在移动过程中始终与弹力带相抵，因此顶推板在移动过程中将顶推弹力带，以使得弹力带朝反应釜内部凹陷，此时原本位于弹力带上的原料将在抵推下脱离弹力带，从而减少反应釜底壁上的原料的沉积沉淀，进一步实现原料的搅拌均匀性。
[0022]作为优选，所述支撑台上设置有限位架，所述限位架上预留有供反应釜插设并摆动的让位孔，所述反应釜外侧壁贴合于让位孔内壁；所述让位孔内壁还转动连接有限位伸缩杆，所述限位伸缩杆另一端转动于反应釜侧壁。
[0023]通过采用上述技术方案，限位架和让位孔的设置实现了反应釜以连接球为中本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种半导体用显影液生产装置，包括反应釜(2)和设置于反应釜(2)内的搅拌组件(5)，其特征在于：还包括驱动组件(4)以及设置于反应釜(2)下方的支撑台(1)，所述反应釜(2)与支撑台(1)之间预留有空隙，所述反应釜(2)下端设置有连接球(11)，所述连接球(11)远离反应釜(2)处的一侧插设于支撑台(1)上，所述反应釜(2)与支撑台(1)之间还设置有插杆(3)，所述插杆(3)直径大于所述空隙的高度，所述驱动组件(4)用于驱动插杆(3)以连接球(11)为中心做圆周运动，以使得所述反应釜(2)以连接球(11)为中心做圆周摆动。2.根据权利要求1所述的半导体用显影液生产装置，其特征在于：所述驱动组件(4)包括带有齿槽的第一环板(41)、与第一环板(41)相啮合的主动齿轮(42)、插设于主动齿轮(42)中心处的主杆(43)以及用于驱动主杆(43)转动的电机(44)；所述连接球(11)位于第一环板(41)的中心位置，所述第一环板(41)上的齿槽啮合连接于主动齿轮(42)周壁，所述第一环板(41)背离齿槽处的一侧连接于插杆(3)端部；所述搅拌组件(5)包括搅拌轴(51)以及设置于搅拌轴(51)侧壁的搅拌桨(52)；所述支撑台(1)上还设置有联动件(6)，所述联动件(6)用于在主杆(43)转动时带动搅拌轴(51)自转。3.根据权利要求2所述的半导体用显影液生产装置，其特征在于：所述反应釜(2)顶壁设置有盖板(24)，所述盖板(24)中部开设有安装孔(241)，所述搅拌轴(51)贯穿安装孔(241)并插设于反应釜(2)内，所述安装孔(241)内壁设置有伸缩罩(242)，所述伸缩罩(242)其中一端连接于安装孔(241)内壁，另一端套接于搅拌轴(51)周壁。4.根据权利要求2所述的半导体用显影液生产装置，其特征在于：所述插杆(3)转动连接于第一环板(41)侧壁，所述插杆(3)周壁套接有从动齿轮(31)，所述支撑台(1)上设置有与从动齿轮(31)相啮合的齿块(13)，所述齿块(13)沿第一环板(41)周向分布，且所述齿块(13)用于与从动齿轮(31)相啮合配合以使得插杆(3)自转。5.根据权利要求1所述的半导体用显影液生产装置，其特征在于：所述插杆(3)靠近反应釜(2)处的周壁设置有若干个凸起(32)，全部所述凸起(32)沿插杆(3)周向均匀排布，所述凸起(32)用于...
【专利技术属性】
技术研发人员：童晨，吴海燕，陈桂红，孙元，韩成强，
申请(专利权)人：昆山晶科微电子材料有限公司，
类型：发明
国别省市：
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