制造显示装置的装置制造方法及图纸

本申请涉及用于制造显示装置的装置。用于制造显示装置的装置包括：掩模组件；以及第一磁体和第二磁体，掩模组件包括：掩模框架；以及掩模片，设置在掩模框架上，掩模片包括：第一主体部分，包括第一开口；以及第二主体部分，连接到第一主体部分并且包括第二开口，并且第二主体部分与第一磁体和第二磁体中的每一个的至少一部分重叠。少一部分重叠。少一部分重叠。

【技术实现步骤摘要】
制造显示装置的装置
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2021年4月21日在韩国知识产权局提交的第 10
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2021
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0051828号韩国专利申请的优先权和权益，所述韩国专利申请的全部内容通过引用并入本文中。


[0003]一个或多个实施方式涉及制造显示装置的装置。

技术介绍

[0004]移动电子装置被广泛使用。除了诸如移动电话的小型化电子装置之外，作为移动电子装置的平板个人计算机(PC)近来已经被广泛使用。
[0005]为了支持各种功能，移动电子装置包括向用户提供诸如图像的可视信息的显示装置。近来，因为驱动显示装置的部件被小型化，所以电子装置中的显示装置的比例逐渐增加，并且还正在研发可从平坦状态弯曲成一定角度的结构。
[0006]应当理解，该
技术介绍
部分旨在部分地为理解该技术提供有用的背景。然而，该
技术介绍
部分还可以包括在本文中所公开的主题的相应有效申请日之前不是相关领域的技术人员已知或理解的部分的思想、构思或认识。

技术实现思路

[0007]通常，为了在制造显示装置的同时沉积精确的图案，例如，可以通过使用磁体将显示衬底紧密附接到包括掩模片的掩模组件。由于在掩模片内存在有效体积差，可以由于磁力而产生排斥力，并且可以由于排斥力而降低沉积精度。
[0008]因此，一个或多个实施方式包括具有改善的制造装置的沉积精度的掩模组件以及制造显示装置的装置。然而，这种技术问题是示例，并且本公开不限于此。
[0009]另外的方面将部分地在随后的描述中阐述，并且部分地将从描述中显而易见，或者可以通过实施本公开来习得。
[0010]根据一个或多个实施方式，用于制造显示装置的装置可以包括：掩模组件；以及第一磁体和第二磁体，其中掩模组件可以包括：掩模框架；以及掩模片，设置在掩模框架上，掩模片可以包括：第一主体部分，包括第一开口；以及第二主体部分，连接到第一主体部分并且包括第二开口，并且第二主体部分与第一磁体和第二磁体中的每一个的至少一部分重叠。
[0011]第一磁体可以在掩模片的长度方向上与第二磁体间隔开。
[0012]掩模组件可以包括在与掩模片的长度方向相交的方向上延伸并且支承掩模片的支承框架。
[0013]在平面图中，第二主体部分可以与支承框架的至少一部分重叠。
[0014]平面图中，第一开口的面积可以与第二开口的面积不同。
[0015]第一主体部分的上表面的每单位面积的第一主体部分的第一开口的数量可以大
于第二主体部分的上表面的每单位面积的第二主体部分的第二开口的数量。
[0016]掩模片可以包括连接到第一主体部分并且包括第三开口的第三主体部分。
[0017]第三主体部分可以不与支承框架重叠。
[0018]第三主体部分的上表面的每单位面积的第三主体部分的第三开口的数量可以等于第二主体部分的上表面的每单位面积的第二主体部分的第二开口的数量。
[0019]第二主体部分可以在掩模片的长度方向上具有第一宽度，并且第三主体部分可以在掩模片的长度方向上具有小于第二主体部分的第一宽度的第二宽度。
[0020]根据实施方式的以下描述和附图，这些和/或其它方面将变得显而易见并且更容易理解。
附图说明
[0021]从以下结合附图的描述中，本公开的实施方式的以上和其它方面、特征和优点将变得更加明显，在附图中：
[0022]图1是根据实施方式的显示装置的示意性立体图；
[0023]图2是沿着图1的线I
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I'截取的根据实施方式的显示装置的示意性剖视图；
[0024]图3是根据实施方式的布置或设置在显示装置的第一显示区域和第二显示区域中的子像素和透射区域的配置的示意性平面图；
[0025]图4是沿着图3的线II
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II'和线III
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III'截取的根据实施方式的显示装置的示意性剖视图；
[0026]图5是根据实施方式的用于制造显示装置的装置的示意性剖视图；
[0027]图6是图5中所示的掩模组件的示意性立体图；
[0028]图7是图6中所示的掩模片的示意性平面图；
[0029]图8是与图7的区域A对应的根据实施方式的用于制造显示装置的装置的掩模片的一部分的放大图；
[0030]图9是与图7的区域B对应的根据实施方式的用于制造显示装置的装置的掩模片的一部分的放大图；
[0031]图10是与图7的区域C对应的根据实施方式的用于制造显示装置的装置的掩模片的一部分的放大图；以及
[0032]图11是根据实施方式的用于制造显示装置的装置的示意性平面图。
具体实施方式
[0033]现在将详细参考实施方式，附图中示出了实施方式的示例，其中，相同的附图标记始终表示相同的元件。在这一点上，实施方式可以具有不同的形式，并且不应被解释为限于本文中所阐述的描述。因此，下面仅通过参考附图来描述实施方式，以解释说明书的方面。
[0034]在说明书和权利要求中，为了其含义和解释的目的，术语“和/ 或”旨在包括术语“和”和“或”的任何组合。例如，“A和/或B”可以理解为意指“A、B或A和B”。术语“和”和“或”可以以结合或分离的意义使用，并且可以理解为等同于“和/或”。在整个公开内容中，表述“a、b和c中的至少一个”表示仅a、仅b、仅c、a和b 两者、a和c两者、b和c两者、a、b和c中的全部或其变型。
[0035]由于本公开允许各种变化和多个实施方式，因此将在附图中示出并在书面描述中描述实施方式。将参考在下面参照附图详细描述的实施方式来阐明本公开的效果和特征。然而，本公开不限于以下实施方式，并且可以以各种形式来实现。
[0036]应当理解，尽管术语第一、第二等可以在本文中用于描述各种元件，但是这些元件不应被这些术语所限制。这些术语仅用于将一个元件与另一元件区分开。例如，在不脱离本公开的范围的情况下，第一元件可以被称为第二元件，并且类似地，第二元件可以被称为第一元件。
[0037]如本文中所使用的，单数形式“一(a)”、“一个(an)”和“该(the)”旨在也包括复数形式，除非上下文另外清楚地指示。
[0038]应当理解，如本文中所使用的，术语“包括(comprise)”、“包括 (comprising)”、“包括(include)”和/或“包括(inlcuding)”及其变化指定所述特征或组件的存在，但不排除一个或多个其它特征或组件的添加。
[0039]将进一步理解，当层、区域或组件被称为在另一层、区域或组件“上”时，其可直接或间接地在另一层、区域或组件上。例如，可以存在居间层、区域或组件。
[0040]应当理解，在说明书中，当元件(或区域、层、部分等)被称为在另一元件“上”、“连接到”或“联接到”另一元件时，它可以直接设置在上述另一元件上、直接连接到或直接联接到上述另一元件，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.制造显示装置的装置，其特征在于，所述装置包括：掩模组件；以及第一磁体和第二磁体，所述掩模组件包括：掩模框架；以及掩模片，设置在所述掩模框架上，所述掩模片包括：第一主体部分，包括第一开口；以及第二主体部分，连接到所述第一主体部分并且包括第二开口，以及所述第二主体部分与所述第一磁体和所述第二磁体中的每一个的至少一部分重叠。2.根据权利要求1所述的制造显示装置的装置，其特征在于，所述第一磁体在所述掩模片的长度方向上与所述第二磁体间隔开。3.根据权利要求2所述的制造显示装置的装置，其特征在于，所述掩模组件包括在与所述掩模片的所述长度方向相交的方向上延伸的支承框架，所述支承框架支承所述掩模片。4.根据权利要求3所述的制造显示装置的装置，其特征在于，在平面图中，所述第二主体部分与所述支承框架的至少一部分重叠。5.根据权利要求4所述的制造显示装置的装置，其特征在于，在平面图中，所述第一开口的面积与所述第二开口的面积不同。6.根据权利要求5所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：李丞赈，金相勳，文在晳，朴钟圣，安鼎铉，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：新型
国别省市：