用于液态氮的自对准真空馈通制造技术

本发明专利技术涉及一种光源，其包含：可旋转滚筒；排气管，其耦合到所述可旋转滚筒以从所述可旋转滚筒的内部排出氮气；进料管，其位于所述排气管内以将液态氮提供到所述可旋转滚筒的所述内部；及外壳，其用于包围所述排气管的至少一部分。所述光源还包含位于所述排气管与所述外壳之间以允许所述排气管与所述可旋转滚筒一起旋转的旋转空气轴承。一起旋转的旋转空气轴承。一起旋转的旋转空气轴承。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于液态氮的自对准真空馈通
[0001]相关申请案
[0002]本申请案主张2020年4月7日申请的美国临时专利申请案第63/006,690号及2020年6月19日申请的美国临时专利申请案第63/041,124号的优先权，所述申请案的全文出于所有目的以引用方式并入。


[0003]本公开涉及例如极紫外(EUV)光源的光源中液态氮的真空馈通。

技术介绍

[0004]EUV光源可包含具有涂覆有固体氙的外表面的旋转滚筒。通过激光照射外表面上的氙来形成发射EUV光的等离子体。将液态氮进给到滚筒的内部中以使外表面保持低温。从滚筒的内部排出氮气。传统上，氮进料管及排气管延伸穿过旋转滚筒的转轴的中部。此类布置限制可行滚筒架构。

技术实现思路

[0005]因此，需要其中氮进料管及排气管从滚筒的致动解耦合的滚筒架构。
[0006]在一些实施例中，一种光源包含：可旋转滚筒；排气管，其耦合到所述可旋转滚筒以从所述可旋转滚筒的内部排出氮气；进料管，其位于所述排气管内以将液态氮提供到所述可旋转滚筒的所述内部；及外壳，其用于包围所述排气管的至少一部分。所述光源还包含位于所述排气管与所述外壳之间以允许所述排气管与所述可旋转滚筒一起旋转的旋转空气轴承。
[0007]在一些实施例中，一种操作光源的方法包含：旋转滚筒；通过进料管将液态氮提供到所述滚筒的内部；及从所述滚筒的所述内部通过耦合到所述滚筒的排气管排出氮气。所述进料管位于所述排气管内。所述方法还包含使用所述排气管与包围所述排气管的至少一部分的外壳之间的旋转空气轴承来允许所述排气管与所述滚筒一起旋转。
附图说明
[0008]为更好理解各种描述实施例，应结合以下图式参考以下具体实施方式。
[0009]图1是根据一些实施例的EUV光源的横截面侧视图。
[0010]图2是根据一些实施例的图1的EUV光源的馈通组合件的横截面侧视图。
[0011]图3是根据一些实施例的图1的EUV光源的馈通组合件及滚筒组合件的透视图。
[0012]图4A是根据一些实施例的具有常平架的馈通组合件的透视图。
[0013]图4B及4C是根据一些实施例的图4A的馈通组合件的横截面侧视图。
[0014]图5是根据一些实施例的操作光源的方法的流程图。
[0015]所有附图及说明书中的相同元件符号是指对应部件。
具体实施方式
[0016]现将详细参考其实例说明在附图中的各种实施例。在以下详细描述中，阐述大量具体细节以提供对各种描述实施例的透彻理解。然而，所属领域的一般技术人员应明白，可在没有这些具体细节的情况下实践各种描述实施例。在其它例子中，没有详细描述众所周知的方法、程序、组件、电路及网络以免不必要地模糊实施例的方面。
[0017]图1是根据一些实施例的极紫外(EUV)光源100的横截面侧视图。EUV光源100包含真空室102(例如钢坯铝室)。真空泵110(例如涡轮泵)提供真空室102中的真空。激光束103通过激光物镜104及伴随护膜引入到真空室102中。激光物镜104将激光束103聚焦于涂覆有固体氙的滚筒118的外表面上。当激光束103照射滚筒118的外表面上的氙时，其引发发射EUV光105的等离子体。反射镜106收集EUV光105的部分且导引所收集的EUV光105穿过真空室102中的窗口108。滚筒118经旋转且也垂直平移以允许其外表面上的不同区域暴露于激光束103。氙可随着滚筒118旋转及平移而喷射到滚筒118的外表面上以维持氙涂层。
[0018]馈通组合件112将液态氮提供到滚筒118的内部以使滚筒118的表面保持低温且因此维持氙涂层。液态氮在EUV光源100的操作期间蒸发掉。馈通组合件112还从滚筒118排出所得氮气。根据一些实施例，馈通组合件112在图2中更详细展示(如下文将描述)。
[0019]滚筒118收容于滚筒组合件114中，滚筒组合件114耦合到馈通组合件112。滚筒组合件114还包含旋转滚筒118的旋转电机116。旋转电机116独立于馈通组合件112耦合到滚筒118。滚筒组合件114具有从水冷输入126接收水的水冷滚筒盖。在滚筒组合件114下方且因此在滚筒118下方是在垂直方向上线性平移滚筒118(即，上下移动滚筒)的平移电机120。平移电机120也独立于馈通组合件112耦合到滚筒118。对应线性载台致动器124致动平移电机120。重量补偿波纹管122也位于滚筒组合件114下方。
[0020]图2是根据一些实施例的EUV光源100(图1)的馈通组合件112的横截面侧视图。进料管202延伸到滚筒118(图1)中以将液态氮提供到滚筒118的内部。排气管204从滚筒118的内部排出氮气。进料管位于排气管204内(例如，在排气管204中间)(例如，使得进料管202及排气管204同轴)。排气管204机械地耦合到滚筒118。例如，螺母206将排气管204耦合到滚筒118(例如，如图3中所展示)。螺母206与排气管204及滚筒118一起旋转。替代地，可使用另一适合耦合机构将排气管204耦合到滚筒118。
[0021]外壳214(例如不锈钢外壳)包围排气管204的至少一部分。旋转空气轴承212位于外壳214与排气管214之间以允许排气管204与滚筒118一起旋转：排气管204与滚筒118一起旋转，而外壳214不旋转。旋转空气轴承212包含排气管204与外壳214之间的窄间隙中的加压气体(例如大体上没有微粒空气)的薄膜。此加压气体薄膜充当排气管204与外壳214之间的大体上无摩擦界面。旋转滚筒118的旋转电机116(图1)独立于排气管204耦合到滚筒118。因此，旋转电机116引起滚筒118旋转，且滚筒118的旋转引起排气管204旋转。在一些实施例中，进料管202固定且不与排气管204及滚筒118一起旋转。
[0022]如图2中所展示，进料管202及排气管204在滚筒118上方垂直延伸。旋转空气轴承212允许排气管204与滚筒118一起垂直平移：排气管204与滚筒118一起垂直平移，而外壳214不垂直平移。垂直平移滚筒118的平移电机120(图1)独立于排气管204耦合到滚筒118。因此，平移电机120引起滚筒118垂直平移，且滚筒118的垂直平移引起排气管204垂直平移。在一些实施例中，进料管202固定且不与排气管204及滚筒118一起垂直平移。
[0023]排气管204具有外层208下方的隔热材料210。例如，隔热材料210焊接钛。隔热材料210隔离外层208及旋转空气轴承212与排气管204的内部的冷气，因为冷气会引起旋转空气轴承212发生故障。尽管排气管204中存在冷氮气，但隔热材料210可允许外壳214处于或接近室温。在另一实例中，排气管204的内层与外层之间的真空间隙(例如真空间隙406，图4B到4C)提供隔热。
[0024]排气管204从滚筒118延伸到具有输出228的室226。排气管204终止在室226中。室226从排气管204接收氮气且通过输出22本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种光源，其包括：可旋转滚筒；排气管，其耦合到所述可旋转滚筒以从所述可旋转滚筒的内部排出氮气；进料管，其位于所述排气管内以将液态氮提供到所述可旋转滚筒的所述内部；外壳，其用于包围所述排气管的至少一部分；及旋转空气轴承，其位于所述排气管与所述外壳之间以允许所述排气管与所述可旋转滚筒一起旋转。2.根据权利要求1所述的光源，其进一步包括用于旋转所述可旋转滚筒的电机；其中所述电机独立于所述排气管耦合到所述可旋转滚筒。3.根据权利要求1所述的光源，其中：所述排气管及所述进料管垂直延伸；所述可旋转滚筒能够垂直平移；且所述旋转空气轴承允许所述排气管与所述可旋转滚筒一起垂直平移。4.根据权利要求3所述的光源，其进一步包括：第一电机，其独立于所述排气管耦合到所述可旋转滚筒以旋转所述可旋转滚筒；及第二电机，其独立于所述排气管耦合到所述可旋转滚筒以垂直平移所述可旋转滚筒。5.根据权利要求4所述的光源，其中：所述第二电机位于所述可旋转滚筒下方；且所述排气管及所述进料管在所述可旋转滚筒上方延伸。6.根据权利要求3所述的光源，其进一步包括：凸缘，其用于调平所述外壳；及线性空气轴承，其位于所述外壳与所述凸缘之间以调节所述外壳及所述排气管相对于所述凸缘的水平平移。7.根据权利要求6所述的光源，其进一步包括具有连接到所述凸缘的第一端及连接到所述外壳的第二端的波纹管。8.根据权利要求3所述的光源，其进一步包括耦合到所述外壳以调节所述外壳及所述排气管的倾斜的常平架。9.根据权利要求8所述的光源，其中所述常平架包括用于调节所述外壳及所述排气管的水平平移的衬套。10.根据权利要求1所述的光源，...

【专利技术属性】
技术研发人员：S，
申请(专利权)人：科磊股份有限公司，
类型：发明
国别省市：