【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术大体上涉及缺陷检验，且更特定来说，涉及降低缺陷检验中的散粒噪声。
技术介绍
1、通常在半导体制造工艺中使用检验系统来识别可导致经制造装置的性能降级或失效的制造工艺的缺陷。随着经制造特征大小继续缩小，制造缺陷的大小也缩小。这导致与此类缺陷相关联的更弱可测量信号及缺陷检验期间的更低信噪比(snr)。因此，需要开发用于解决上述缺陷的系统及方法。
技术实现思路
1、根据本公开的一或多个实施例，描述一种检验系统。在一些实施例中，所述检验系统包含控制器，所述控制器包含经配置以执行程序指令的一或多个处理器。在一些实施例中，所述程序指令致使所述一或多个处理器接收样本的第一扫描路径的第一组重复扫描带的至少第一部分。在一些实施例中，所述程序指令致使所述一或多个处理器通过平均化所述第一组重复扫描带的所述第一部分而产生图像。平均化所述第一组重复扫描带的所述第一部分降低所述图像中的噪声。在一些实施例中，所述程序指令致使所述一或多个处理器使用所述图像检测所述样本的检验区中的一或多个缺陷。
2、在...
【技术保护点】
1.一种检验系统，其包括：
2.根据权利要求1所述的检验系统，其中以下一者：
3.根据权利要求2所述的检验系统，其中所述图像是所述平均检验图像；其中所述程序指令致使所述一或多个处理器：
4.根据权利要求3所述的检验系统，其中所述检验系统在扫描模式中从所述第一组重复扫描带的所述第一部分产生所述多个检验图像。
5.根据权利要求2所述的检验系统，其中所述程序指令致使所述一或多个处理器从所述平均检验图像减去所述参考图像以产生差异图像。
6.根据权利要求5所述的检验系统，其中所述程序指令致使所述一或多个处理器基于所述差...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种检验系统，其包括：
2.根据权利要求1所述的检验系统，其中以下一者：
3.根据权利要求2所述的检验系统，其中所述图像是所述平均检验图像；其中所述程序指令致使所述一或多个处理器：
4.根据权利要求3所述的检验系统，其中所述检验系统在扫描模式中从所述第一组重复扫描带的所述第一部分产生所述多个检验图像。
5.根据权利要求2所述的检验系统，其中所述程序指令致使所述一或多个处理器从所述平均检验图像减去所述参考图像以产生差异图像。
6.根据权利要求5所述的检验系统，其中所述程序指令致使所述一或多个处理器基于所述差异图像检测所述检验区中的一或多个缺陷。
7.根据权利要求5所述的检验系统，其中所述程序指令致使所述一或多个处理器：
8.根据权利要求5所述的检验系统，其中所述程序指令致使所述一或多个处理器将所述一或多个缺陷分类为滋扰或所关注缺陷中的至少一者。
9.根据权利要求2所述的检验系统，其中所述程序指令致使所述一或多个处理器在平均化所述第一部分之前对准所述第一组重复扫描带的所述第一部分。
10.根据权利要求9所述的检验系统，其中所述程序指令致使所述一或多个处理器使用同步内插对准所述第一部分。
11.根据权利要求2所述的检验系统，其包括一或多个光学检验子系统；其中所述一或多个光学检验子系统产生所述第一扫描路径的所述第一组重复扫描带；其中所述控制器通信地耦合到所述一或多个光学检验子系统。
12.根据权利要求11所述的检验系统，其包括载物台；其中所述载物台平移，从而致使所述一或多个光学检验子系统产生所述第一扫描路径的所述第一组重复扫描带。
13.根据权利要求12所述的检验系统，其包括编码器或干涉仪中的一或多者；其中所述编码器或所述干涉仪中的一或多者经配置以监测所述载物台的所述平移；其中所述程序指令致使所述一或多个处理器控制所述载物台的所述平移以对准所述第一扫描路径的所述第一组重复扫描带。
14.根据权利要求11所述的检验系统，其中所述一或多个处理器从所述一或多个光学检验子系统接收所述第一扫描路径的所述第一组重复扫描带的至少所述第一部分。
15.根据权利要求11所述的检验系统，其中所述一或多个光学检验子系统包括两个或更多个光学检验子系...
【专利技术属性】
技术研发人员：A·塞兹希内尔，P·麦克布赖德，I·巴塔查里亚，R·M·丹恩，
申请(专利权)人：科磊股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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