自清洁射频导纳开关制造技术

本实用新型专利技术涉及一种自清洁射频导纳开关，包括本体、过程连接件和探头，过程连接件为中空管状结构，一端与本体相连，另一端安装有探头，探头一端伸入到过程连接件内部一定距离，过程连接件上设置有用于固定射频导纳开关的连接结构；设有偏转片，偏转片固定于探头远离本体一端的侧面；过程连接件端部孔内设有密封导向构件，探头置于密封导向构件的孔内；过程连接件孔内设有弹性构件，弹性构件一端与过程连接件固定连接，另一端与探头靠近本体一端固定连接。射频导纳开关工作时，靠偏转片附着物料的重力作用，及时清除附着物料，彻底杜绝因附着物料发生的误动作，不需要额外消耗能源动力，结构简单，可靠性高，没有高成本的部件，成本低。本低。本低。

【技术实现步骤摘要】
自清洁射频导纳开关


[0001]本技术涉及射频导纳开关，特别涉及一种自清洁射频导纳开关，属于仪表自动化


技术介绍

[0002]射频导纳开关又称射频导纳物位计或射频导纳料位计，是一种从电容式物位测量仪表基础上发展起来的、更可靠、更准确、适用性更广的物位测量仪表。导纳的含义为电学中阻抗的倒数，它由电阻性成分、电容性成分、电感性成分综合而成，射频即高频无线电波谱，所以射频导纳可以理解为用高频无线电波测量导纳。射频导纳开关工作时，其探头与物料容器壁及物料形成导纳值，物位变化时，导纳值相应变化，变送器单元将测量导纳值转换成物位信号输出，实现物位测量。射频导纳开关综合处理了电阻性成分、电容性成分、电感性成分三种信息，可以在一定程度上克服探头附着物料所造成的测量误差，提高了测量精度和可靠性，又因其价格较低、通用型强，被广泛应用于石油、化工、冶金、电力、医药、食品、造纸、建材等工业领域容器内除尘灰、煤粉、液体、粘稠物料等各类物料的物位测量。
[0003]在干燥粉末物料(如除尘灰、煤粉、碳粉等)的测量场合，测量精度要求几厘米级别时，为了防止探头附着物料导致误动作，可以将射频导纳开关向下倾斜约20
°
安装。然而如果测量精度要求更高，则须要水平安装射频导纳开关，这样探头上就不可避免附着物料，当附着物料达到一定量时射频导纳开关就会产生误动作，严重干扰正常生产。
[0004]专利CN201702136U公开了一种射频导纳探头的在线除尘装置，在探头上方设置一吹扫单元，外接气源通过吹扫单元的吹扫口对探头上部进行吹扫；这样可以将探头附着物料清除，但需要额外的外接气源；并且无法实时了解附着物料到了何种程度，只能定期或不定期吹扫，若吹扫时间设置不合理仍会发生附着物料导致的误动作。

技术实现思路

[0005]为了解决上述问题，本技术提供一种自清洁射频导纳开关。
[0006]本技术所采用的技术方案是：
[0007]一种自清洁射频导纳开关，包括本体、过程连接件和探头，本体由盖体、壳体、变送器单元、连接导线、电缆接口组成；过程连接件为中空管状结构，其一端与本体相连，另一端安装有探头，探头一端伸入到过程连接件内部一定距离，过程连接件上设置有用于固定射频导纳开关的连接结构，可将射频导纳开关固定于物料容器壁上；设有偏转片，偏转片固定于探头远离本体一端的侧面；过程连接件端部孔内设有密封导向构件，探头置于密封导向构件的孔内，密封导向构件在允许探头可以绕其轴线灵活转动的前提下，还可以防止物料进入射频导纳开关内部；过程连接件孔内设有弹性构件，弹性构件一端与过程连接件固定连接，另一端与探头靠近本体一端固定连接。
[0008]为了不影响射频导纳开关测量精度，偏转片由绝缘材料制作。
[0009]优选的，密封导向构件为轴承组件。
[0010]为了占用空间小、便于安装、工作可靠，弹性构件为平面涡卷弹簧。
[0011]优选的，平面涡卷弹簧为发条弹簧。
[0012]优选的，平面涡卷弹簧为游丝。
[0013]本技术的工作过程如下：
[0014]射频导纳开关刚刚投入工作时，探头及偏转片上均没有附着物料，弹性构件处于自由状态。随着工作时间的延续，物料逐渐附着在探头和偏转片上，因偏转片设置在探头的一侧，偏转片上附着的物料的重力给予探头一个绕其轴线的力矩，该力矩使探头克服弹性构件的刚性而绕其轴线转动一定的角度。当偏转片上附着的物料足够多时，探头因物料的重力转动的角度足以使探头及偏转片上附着的物料克服其安息角掉落。在偏转片上附着的物料掉落的一瞬间，力矩释放，探头在弹性构件的弹性力矩作用下反向转动恢复原位，这样就实现了射频导纳开关的自清洁。
[0015]本技术的有益效果如下：
[0016]1、靠偏转片附着物料的重力作用清除射频导纳开关探头附着物料，不需要额外消耗能源动力；
[0017]2、根据射频导纳开关工作灵敏度、物料的密度和安息角等，设置偏转片的大小和弹性构件的刚度特性，可以实现附着物料的及时清除，彻底杜绝了因附着物料发生的误动作；
[0018]3、结构简单，可靠性高，没有高成本的部件，成本低。
附图说明
[0019]本技术附图1页，共3幅：
[0020]图1是自清洁射频导纳开关结构示意图；
[0021]图2是A
‑
A剖视图；
[0022]图3是B向局部视图。
[0023]图中标识说明：1
‑
本体；2
‑
过程连接件；3
‑
探头；4
‑
偏转片；5
‑
密封导向构件；6
‑
弹性构件。
具体实施方式
[0024]本技术的具体实施方式将结合实施例及附图进行说明。
[0025]实施例1，如附图1
‑
3所示：
[0026]自清洁射频导纳开关，包括本体1、过程连接件2和探头3，本体1由盖体、壳体、变送器单元、连接导线、电缆接口组成；过程连接件2为中空管状结构，其一端与本体1相连，另一端安装有探头3，且探头3一端伸入到过程连接件2内部一定距离，过程连接件2上设置有用于固定射频导纳开关的螺纹结构，可将射频导纳开关固定于物料容器壁上；设有偏转片4，偏转片4固定于探头3远离本体1一端的侧面；过程连接件2端部孔内设有密封导向构件5，探头3置于密封导向构件5的孔内，密封导向构件5在允许探头3可以绕其轴线灵活转动的前提下，还可以防止物料进入射频导纳开关内部；过程连接件2孔内设有弹性构件6，弹性构件6一端与过程连接件2固定连接，另一端与探头3靠近本体1一端固定连接。
[0027]偏转片4由绝缘材料制作，密封导向构件5为轴承组件，弹性构件6为平面涡卷弹
簧。
[0028]射频导纳开关刚刚投入工作时，探头3及偏转片4上均没有附着物料，弹性构件6处于自由状态。随着工作时间的延续，物料逐渐附着在探头3和偏转片4上，因偏转片4设置在探头3的一侧，偏转片4上附着的物料的重力给予探头3一个绕其轴线的力矩，该力矩使探头3克服弹性构件6的刚性而绕其轴线转动一定的角度。当偏转片4上附着的物料足够多时，探头3因物料的重力转动的角度足以使探头3及偏转片4上附着的物料克服其安息角掉落。在偏转片4上附着的物料掉落的一瞬间，力矩释放，探头3在弹性构件6的弹性力矩作用下反向转动恢复原位，这样就实现了射频导纳开关的自清洁。
[0029]需要说明的是，上述实施例都是本技术的个案，它们的作用之一是便于对本技术的理解，而不应认为是为对本技术做出的限制。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种自清洁射频导纳开关，包括本体、过程连接件和探头，其特征在于：本体由盖体、壳体、变送器单元、连接导线、电缆接口组成；过程连接件为中空管状结构，其一端与本体相连，另一端安装有探头，探头一端伸入到过程连接件内部一定距离，过程连接件上设置有用于固定射频导纳开关的连接结构；设有偏转片，偏转片固定于探头远离本体一端的侧面；过程连接件端部孔内设有密封导向构件，探头置于密封导向构件的孔内；过程连接件孔内设有弹性构件，弹性构件一端与过程连接件固...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘勇，于智育，闫明月，张蕾，汤彦玲，
申请(专利权)人：山东省冶金设计院股份有限公司，
类型：新型
国别省市：