一种覆铜板光刻用UV固化PCB干膜的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种覆铜板光刻用UV固化PCB干膜的制备方法，包括丙烯酸树脂低聚物的合成；感光树脂胶液的制备；感光干膜的制备。本发明专利技术将丙烯酸树脂低聚物，不同能量下反应的光反应单体，低能量光引发剂，高能量光引发剂与助剂制成感光树脂胶液，涂布在PET上，采用UV固化的涂布工艺取代现有的热固化涂布工艺，先经过低能量UV照射固化，得到PCB干膜，客户在经过高能量UV照射后，将所需要的底片图案转移到PCB板材上，本发明专利技术的方法在生产的过程中，不会有VOC气体的排放，环保、经济、高效。高效。

【技术实现步骤摘要】
一种覆铜板光刻用UV固化PCB干膜的制备方法


[0001]本专利技术属于感光材料
，涉及感光干膜的制备，尤其涉及一种覆铜板光刻用UV固化PCB干膜的制备方法。

技术介绍

[0002]感光干膜为杜邦公司1968年开发，自此在图形转移上得到广泛应用，感光干膜已成为现代电子领域、特别是印刷电路板领域的重要材料。近年来，随着电子设备的小型化、轻薄化，市场对线路板的要求越来越高，如何实现极窄线宽线距成为各大线路板厂商的终极目标，而感光干膜是实现这一目标的核心电子材料。
[0003]由于后段客户需要曝光将底片的线路转移至线路板上，因此现有的感光光膜的制备都是将丙烯酸树脂低聚物加上光引发剂、活性丙烯酸树脂以及其他助剂，加上大量的溶剂，利用烘箱将溶剂烘干成膜的方式，收卷制备。
[0004]现有的感光光膜的制备需要消耗大量的有机溶剂，烘箱的热量，导致生产产生大量的VOC气体产生，不利于环境的保护。

技术实现思路

[0005]本专利技术为了解决上述问题，提供了一种覆铜板光刻用UV固化PCB干膜的制备方法，涂布使用的树脂固含量在100％，本专利技术的固化方式为UV固化，在生产的过程中，不会有VOC气体的排放，达到环保、经济、高效的生产方式。
[0006]为了实现上述目的，本专利技术采用以下技术方案：
[0007]一种覆铜板光刻用UV固化PCB干膜的制备方法，包括以下步骤：
[0008]1)丙烯酸树脂低聚物的合成：将羟基丙烯酸酯单体、丙烯酸酯单体、引发剂与相对分子质量控制剂的混合物加入容器中，水浴条件下反应一段时间后降温反应，得到丙烯酸树脂低聚物；
[0009]2)感光树脂胶液的制备：将步骤1)得到的丙烯酸树脂低聚物、光反应单体组合物、第一光引发剂、第二光引发剂与助剂加入容器中，混合均匀，得到感光树脂胶液；
[0010]3)感光干膜的制备：将步骤2)得到的感光树脂胶液涂布于PET上，在273nm的光下照射，收卷，得到PCB感光干膜。
[0011]在本专利技术中，本专利技术将丙烯酸树脂低聚物，不同能量下反应的光反应单体，低能量光引发剂，高能量光引发剂与助剂制成感光树脂胶液，涂布在PET上，采用UV固化的涂布工艺取代现有的热固化涂布工艺，先经过低能量UV照射固化，得到PCB干膜，客户在经过高能量UV照射后，将所需要的底片图案转移到PCB板材上。
[0012]本专利技术的方法在生产的过程中，不会有VOC气体的排放，环保、经济、高效。
[0013]作为本专利技术的一种优选方案，步骤1)中，按重量份数计，所述羟基丙烯酸酯单体，丙烯酸酯单体，引发剂，相对分子质量控制剂依次为：羟基丙烯酸酯单体10
‑
15份，丙烯酸酯单体8
‑
15份，引发剂0.05
‑
0.2份与相对分子质量控制剂1
‑
1.5份。
[0014]作为本专利技术的一种优选方案，所述引发剂为偶氮二异丁腈，所述相对分子质量控制剂为十二硫醇。
[0015]作为本专利技术的一种优选方案，步骤1)中，先在78
‑
82℃的条件下反应35
‑
45min，然后降温至65
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75℃，反应90
‑
150min。
[0016]作为本专利技术的一种优选方案，步骤2)中，所述光反应单体组合物为质量比4
‑
6:2
‑
4:1
‑
3的EOEOEA、IBOA与LA的组合物。
[0017]作为本专利技术的一种优选方案，步骤2)中，第一光引发剂为UV1173，第二光引发剂为UV819。
[0018]作为本专利技术的一种优选方案，步骤2)中，按重量份数计，丙烯酸树脂低聚物、光反应单体组合物、第一光引发剂、第二光引发剂与助剂依次为：丙烯酸树脂低聚物75
‑
85份、光反应单体组合物15
‑
25份、第一光引发剂0.1
‑
0.8份、第二光引发剂0.1
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0.5份与助剂0.8
‑
1.2份。
[0019]作为本专利技术的一种优选方案，步骤2)中，所述助剂为流平剂、OP粉与PS粉的组合物。
[0020]与现有技术相比，本专利技术具有以下有益效果：
[0021]1)本专利技术的制备方法步骤简单，制得的PCB干膜性能好；
[0022]2)本专利技术的制备方法采用UV固化方式，不耗费大量有机溶剂，不需要烘箱的热量，不会有VOC气体的排放，经济环保。
具体实施方式
[0023]下面将结合本专利技术实施例，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0024]本专利技术中所用的原料，均可从市场购得。
[0025]实施例1
[0026]本实施例提供了覆铜板光刻用UV固化PCB干膜的制备方法，包括：
[0027]1)丙烯酸树脂低聚物的合成：
[0028]在装有搅拌器、冷凝管、恒压漏斗、通氮气管的四口烧瓶中，加入羟基丙烯酸酯单体、丙烯酸酯单体、引发剂、相对分子质量控制剂的混合物。首先，在室温下，将10g甲基丙烯酸甲酯、13g丙烯酸羟丙酯、3g甲基丙烯酸、0.1g偶氮二异丁腈、1.1g十二硫醇在烧杯中混合，形成透明溶液。其次，在恒温水浴锅温度为80℃条件下反应40min，最后降低温度至70℃反应2h。调节羟基丙烯酸酯单体和丙烯酸酯单体的物质的量比以及引发剂、相对分子质量控制剂的质量，得到相对分子质量不同的羟基丙烯酸酯树脂。
[0029]2)感光树脂胶液的制备：
[0030]称取80g丙烯酸树脂低聚物，按照质量比EOEOEA：IBOA：LA＝5:3:2，总计称取20g的光反应单体组合物，称取0.5g的光引发剂1173，0.2g的光引发剂819，1g的流平剂6501，0.05g的OP粉，0.05g的PS粉，倒在四口烧瓶中，混合搅拌均匀，得到感光树脂胶液。
[0031]3)感光干膜的制备：
[0032]将步骤2)得到的感光树脂胶液，涂布在PET上面，用滤光片，选择273nm以下的光的波长，照射。照射的时间确定：用41阶能量尺曝光，在最佳显影速度下显影，选定光阶为20格的曝光能量，为最佳曝光能量；测试胶膜的凝胶率，在30％左右，收卷，得到PCB干膜。
[0033]实施例2
[0034]本实施例提供了覆铜板光刻用UV固化PCB干膜的制备方法，包括：
[0035]1)丙烯酸树脂低聚物的合成：
[0036]在装有搅拌器、冷凝管、恒压漏斗、通氮气管的四口烧瓶中，加入羟基丙烯酸酯单体、丙烯酸酯单体、引发剂、相对分子质量控制剂的混合物。首先，在室温下，将11g甲基丙烯酸甲酯、10g丙烯酸羟丙酯、2g甲基丙烯酸、0.05g偶氮二异丁腈、本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种覆铜板光刻用UV固化PCB干膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：1)丙烯酸树脂低聚物的合成：将羟基丙烯酸酯单体、丙烯酸酯单体、引发剂与相对分子质量控制剂的混合物加入容器中，水浴条件下反应一段时间后降温反应，得到丙烯酸树脂低聚物；2)感光树脂胶液的制备：将步骤1)得到的丙烯酸树脂低聚物、光反应单体组合物、第一光引发剂、第二光引发剂与助剂加入容器中，混合均匀，得到感光树脂胶液；3)感光干膜的制备：将步骤2)得到的感光树脂胶液涂布于PET上，在273nm的光下照射，收卷，得到PCB感光干膜。2.根据权利要求1所述的一种覆铜板光刻用UV固化PCB干膜的制备方法，其特征在于，步骤1)中，按重量份数计，所述羟基丙烯酸酯单体，丙烯酸酯单体，引发剂，相对分子质量控制剂依次为：羟基丙烯酸酯单体10
‑
15份，丙烯酸酯单体8
‑
15份，引发剂0.05
‑
0.2份与相对分子质量控制剂1
‑
1.5份。3.根据权利要求1或2所述的一种覆铜板光刻用UV固化PCB干膜的制备方法，其特征在于，所述引发剂为偶氮二异丁腈，所述相对分子质量控制剂为十二硫醇。4.根据权利要求1所述的一种覆铜板光刻用UV固化PCB干膜的制备方法，其特征在于，步骤1)中，先在78
‑
82℃的...

【专利技术属性】
技术研发人员：江叔福，郑伟，李宝成，
申请(专利权)人：浙江铭天电子新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：