真空泵系统及真空泵技术方案

本发明专利技术涉及一种真空泵系统及真空泵。本发明专利技术的课题在于抑制真空泵内部的反应生成物的生成并维持排气性能。真空泵系统(100)包括第一真空泵(1)及第二真空泵(3)。第二真空泵(3)与第一真空泵(1)的第一排气口(19)连接。第二真空泵(3)具有泵部(5)及捕集部(7)。泵部(5)具有第二转子(51)。捕集部(7)中堆积由通过泵部(5)的吸气自第一排气口(19)导入第三内部空间(S3)的气体生成的反应生成物。(S3)的气体生成的反应生成物。(S3)的气体生成的反应生成物。

【技术实现步骤摘要】
真空泵系统及真空泵


[0001]本专利技术涉及一种真空泵系统及真空泵。

技术介绍

[0002]真空泵有包括涡轮叶片泵部及拖曳泵部的真空泵，其中所述涡轮叶片泵部包含固定叶片与旋转叶片，所述拖曳泵部设置于较涡轮叶片泵部而言更靠排气下游侧。包括所述真空泵的真空泵系统例如可用作使执行干式蚀刻、或化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition，CVD)等工艺的工艺腔室内成为高真空的手段。
[0003]在真空泵系统用于使工艺腔室内成为高真空的情况下，在真空泵系统中所含的真空泵、真空泵以外的其他装置(例如干式泵)和/或气体配管中有可能生成反应生成物并堆积。真空泵系统中的反应生成物的生成需要抑制。原因在于：若在真空泵的内部反应生成物堆积，则真空泵的零件(例如转子)与反应生成物有可能接触。另外，原因在于：若在所述其他装置及气体配管中反应生成物堆积，则会降低真空泵系统的排气能力。
[0004]作为抑制真空泵内部的反应生成物的生成的方法，已知有使真空泵内部升温的方法。例如，在专利文献1中，通过加热器对真空泵的主体进行加热来使内部升温本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空泵系统，其特征在于，包括：第一真空泵；以及第二真空泵，与所述第一真空泵的排气口连接，所述第二真空泵包括：泵部，具有转子；以及捕集部，所述捕集部中堆积由通过所述泵部的吸气自所述排气口导入内部空间的气体生成的反应生成物。2.根据权利要求1所述的真空泵系统，其中，还包括冷却所述捕集部的冷却部。3.根据权利要求1或2所述的真空泵系统，其中所述捕集部配置于较所述泵部而言更靠铅垂方向下侧。4.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：渡边耕太，
申请(专利权)人：株式会社岛津制作所，
类型：发明
国别省市：