真空泵制造技术

本发明专利技术的课题在于抑制反应产物生成于基座等。本发明专利技术的真空泵包括转子、定子、基座、加热器、及盖构件。转子包括多段转子叶片、及转子圆筒部。定子包括多段定子叶片、及定子圆筒部。基座收纳转子及定子。加热器对定子圆筒部进行加热。盖构件覆盖位于比转子圆筒部及定子圆筒部的排气下游侧的端部更靠排气下游侧的基座的内壁面。盖构件的一端在第三内部空间与定子圆筒部的排气下游侧的端部接触。盖构件的另一端从第三内部空间延伸至与转子圆筒部的内周面重叠的位置。面重叠的位置。面重叠的位置。

【技术实现步骤摘要】
真空泵


[0001]本专利技术涉及一种真空泵。

技术介绍

[0002]真空泵有包括如下部件者：涡轮叶片泵部，包括固定叶片与旋转叶片；牵引泵部，设置于比涡轮叶片泵部更靠排气下游侧的位置。所述真空泵例如可作为使执行干式蚀刻、或化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition，CVD)等工艺的工艺室内成为高真空的方法使用。
[0003]所述工艺是向工艺室内供给气体而执行。因此，于真空泵将所述气体排出时，存在于真空泵的接气面生成反应产物并沉积在接气面的可能性。需要将沉积于接气面的反应产物去除。
[0004]因此，在专利文献1的真空泵中，通过在真空泵的排气路径的接气面设置保护构件防止产物沉积于真空泵，从而无需真空泵的组件更换，降低真空泵的维护成本。
[0005][现有技术文献][0006][专利文献][0007][专利文献1]日本专利特开2017
‑
2856号公报

技术实现思路

[0008][专利技术所要解决的问题][0009]在所述真空泵中，在构成牵引泵部的转子圆筒部的排气下游侧的端部与保护构件的端部之间存在间隙。因此，存在从牵引泵部排出的废气进入转子圆筒部与基座之间的空间、和/或保护构件与基座之间的空间的情况。结果在基座的温度降低的情形时，在基座生成反应产物。另外，存在将基座所生成的反应产物剥离而向排气路径排出的情况。本专利技术的目的在于抑制废气向转子圆筒部与基座之间的空间、和/或保护构件与基座之间的空间流入，而抑制反应产物生成于基座等真空泵的构件。
[0010][解决问题的技术手段][0011]本专利技术的一实施方式的真空泵包括转子、定子、基座、加热器、及盖构件。转子包括多段转子叶片、及转子圆筒部。定子包括多段定子叶片、及定子圆筒部。基座收纳转子及定子。加热器对定子圆筒部进行加热。盖构件覆盖基座的内壁面，所述基座的内壁面形成位于比转子圆筒部及定子圆筒部的排气下游侧的端部更靠排气下游侧的位置的内部空间。盖构件的一端在内部空间与定子圆筒部的排气下游侧的端部接触。盖构件的另一端从内部空间延伸至与转子圆筒部的内周面重叠的位置。
[0012][专利技术的效果][0013]在上述本专利技术的一实施方式的真空泵中，盖构件的另一端从内部空间延伸至与转子圆筒部的内周面重叠的位置。由此，能够通过转子与定子抑制所排出的气体进入转子圆筒部与基座之间的空间、和/或盖构件与基座之间的空间。另外，利用加热器加热定子圆筒
部，而在所述内部空间内，盖构件的一端与定子圆筒部的排气下游侧的端部接触。由此，在加热盖构件的同时，基座的盖构件的附近也被加热。结果可抑制反应产物生成于盖构件及基座。
附图说明
[0014]图1是实施方式的真空泵的截面图。
[0015]图2A是盖构件的平面图。
[0016]图2B是盖构件的A2
‑
A2截面图。
[0017]图3是转子圆筒部与定子圆筒部附近的放大图。
[0018]图4是表示盖构件的安装位置的变形例的图。
[0019]图5是表示盖构件的安装位置的其他变形例的图。
[0020][符号的说明][0021]1：真空泵
[0022]2：壳体
[0023]11：第一端部
[0024]12：第二端部
[0025]13：吸气口
[0026]3：基座
[0027]14：基座端部
[0028]15：内壁面
[0029]15A：底面
[0030]15B：外侧壁面
[0031]15C：内侧壁面
[0032]16：排气口
[0033]4：转子
[0034]21：轴
[0035]22：转子叶片
[0036]23：转子圆筒部
[0037]5：定子
[0038]31：定子叶片
[0039]32：定子圆筒部
[0040]6、6A、6B：盖构件
[0041]61：第一部分
[0042]62：第二部分
[0043]62A：切口部
[0044]63：第三部分
[0045]7：加热器
[0046]8：冲洗气体供给装置
[0047]81：清洗口
[0048]82：气体流路
[0049]9：密封构件
[0050]41A～41D：轴承
[0051]42：马达
[0052]42A：马达转子
[0053]42B：马达定子
[0054]A1：轴线方向
[0055]G1：第一间隙
[0056]G2：第二间隙
[0057]G3：第三间隙
[0058]S1：第一内部空间
[0059]S2：第二内部空间
[0060]S3：第三内部空间
[0061]S4：第四内部空间
具体实施方式
[0062]以下，参照图式对一实施方式的真空泵进行说明。图1是实施方式的真空泵1的截面图。如图1所示，真空泵1包括壳体2、基座3、转子4、及定子5。
[0063]壳体2包括第一端部11、第二端部12、及第一内部空间S1。在第一端部11设置有吸气口13。第一端部11安装于安装对象(未图示)。安装对象例如为半导体制造装置的工艺室。第一内部空间S1连通于吸气口13。第二端部12在转子4的轴线方向(以下简称为“轴线方向A1”)上位于第一端部11的对面。第二端部12连接于基座3。基座3包括基座端部14。基座端部14连接于壳体2的第二端部12。
[0064]转子4包括轴21。轴21沿着轴线方向A1延伸。轴21以能够旋转的方式收纳于基座3中。在轴21与基座3之间形成有第一间隙G1。另外，在转子4的内壁面与基座3之间形成有第二内部空间S2。
[0065]转子4包括多段转子叶片22、及转子圆筒部23。多段转子叶片22分别连接于轴21。多个转子叶片22沿着轴线方向A1互相隔开间隔而配置。虽然省略图示，但多段转子叶片22分别以轴21为中心而呈放射状延伸。此外，在图式中仅对多段转子叶片22的一个标注了符号，省略了其他转子叶片22的符号。转子圆筒部23配置于多段转子叶片22的下方。转子圆筒部23沿着轴线方向A1延伸。
[0066]定子5包括多段定子叶片31、及定子圆筒部32。多段定子叶片31连接于壳体2的内表面。多段定子叶片31在轴线方向A1上互相隔开间隔而配置。多段定子叶片31分别配置于多段转子叶片22之间。虽然省略图示，但多段定子叶片31分别以轴21为中心而呈放射状延伸。此外，在图式中仅对多段定子叶片31的两个标注了符号，省略了其他定子叶片31的符号。定子圆筒部32以与基座3热接触的状态固定。定子圆筒部32在转子圆筒部23的径方向上隔开少许间隙而与转子圆筒部23相向配置。在定子圆筒部32的内周面设置有螺旋状槽。
[0067]如图1所示，在转子圆筒部23与定子圆筒部32的排气下游侧的端部的更下游侧，基座3的内壁面15形成第三内部空间S3。向本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空泵，其中，包括：转子，包括多段转子叶片、及转子圆筒部；定子，包括多段定子叶片、及定子圆筒部；基座，收纳所述转子及所述定子；加热器，对所述定子圆筒部进行加热；以及盖构件，覆盖所述基座的内壁面，所述基座的内壁面形成位于比所述转子圆筒部及所述定子圆筒部的排气下游侧的端部更靠排气下游侧的内部空间，所述盖构件的一端在所述内部空间与所述定子圆筒部的排气下游侧的端部接触，所述盖构件的另一端从所述内部空间延伸至与所述转子圆筒部的内周面重叠的位置。2.根据权利要求1所述的真空泵，其中所述盖构件以环状形成。3.根据权利要求1所述的真空泵，其中所述盖构件包括：第一部分，覆盖所述基座的内壁面的底面；第二部分，覆盖所述基座的内壁面的外侧壁面，连接于所述第一部分；以及第三部分，覆盖所述基座的内壁面的内侧壁面，连接于所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：安田智贵，
申请(专利权)人：株式会社岛津制作所，
类型：发明
国别省市：