【技术实现步骤摘要】
一种用于合金蒸馏的温场结构
[0001]本技术涉及真空蒸馏
,具体涉及一种用于合金蒸馏的温场结构。
技术介绍
[0002]在有色金属生产过程中一般都是先产出粗金属,而后精炼成各种品级的成品。传统的精炼方法是在常压下进行,有火法、湿法、电解法等,但是流程长,污染大。而真空蒸馏冶金方法具有流程短、污染小、金属回收率高的优点,因此目前被普遍应用于有色金属的精炼工艺中,对实现资源高效率利用具有重要意义。但随着科学技术的发展,对真空蒸馏炉的要求越来越高,其中炉体的最高温度和温度稳定性是整个炉体的核心,它决定了真空蒸馏炉的应用场合多寡和产物的纯度高低。因此,蒸馏炉的温场结构的设计非常重要。
[0003]传统的真空蒸馏炉通常是将化合物溶液加热到其中某种元素的沸点,由于在炉体顶部加装有一冷凝装置,用于收集被蒸馏的金属,从而实现蒸馏收集作用。但是这种结构设置存在如下问题:1、由于需要在炉体顶部加装冷凝装置,则使得整个温场的温度均匀性在冷凝装置附近骤变,元素的蒸气会带着杂质一起被冷凝,导致成品纯度不够,需反复多次提纯;2、冷凝装置 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于合金蒸馏的温场结构,包括温场底板、温场外壳、设于温场底板与温场外壳形成的内腔中的坩埚、围绕坩埚外周布置的加热体,其特征在于:所述加热体外侧设有与坩埚同轴心的内保温筒,所述温场外壳的侧壁与内保温筒之间形成环形隔离腔,所述坩埚上沿与内保温筒上沿共同支撑封堵加热体所在空间上方的环形回流盘,所述环形回流盘的上表面为上宽下窄的锥面且锥面的低位端支撑一次冷凝盖,所述锥面的高位端与温场外壳的侧壁之间设有封堵环形隔离腔上方的环形上汇流盘,所述温场底板上设有封堵环形隔离腔下方的环形下汇流盘,所述温场外壳的顶面与一次冷凝盖之间设有二次冷凝盖,所述二次冷凝盖的侧壁下端支撑于环形上汇流盘的内沿上方,所述一次冷凝盖、二次冷凝盖、环形回流盘和环形上汇流盘包围形成回流腔体,所述一次冷凝盖的侧壁上设有与回流腔体连通的通孔Ⅰ,所述二次冷凝盖的侧壁上设有与回流腔体连通的通孔Ⅱ,所述环形上汇流盘的底面设有与环形隔离腔相通的通孔Ⅲ,所述环形下汇流盘底部设有石墨制成品导管,所述温场底板、温场外壳、内保温筒、一次冷凝盖、二次冷凝盖、环形回流盘、环形上汇流盘和环形下汇流盘均采用石墨硬毡材料制成。2.根据权利要求1所述的用于合金蒸馏的温场结构,其特征...
【专利技术属性】
技术研发人员:佟辉,
申请(专利权)人:沈阳中科汉达科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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