一种一维码识别设备及识别方法技术

本发明专利技术公开了一种一维码识别设备及识别方法，所述设备包括：主控制器、光源组件、拍摄组件；所述光源组件和所述拍摄组件的相对位置关系固定；所述光源组件用于向目标区域投射引导光线，所述引导光线在所述目标区域形成矩形光斑；所述目标区域中包括一维码；所述拍摄组件的光学传感器为CMOS图像传感器，所述拍摄组件用于拍摄所述目标区域，以确定目标图像；所述目标图像中包括所述引导光线对应的矩形光斑；所述主控制器用于，根据所述目标图像中的所述矩形光斑的位置，确定所述目标图像中的待识别区域；针对所述待识别区域进行一维码识别。别。别。

【技术实现步骤摘要】
一种一维码识别设备及识别方法


[0001]本专利技术涉及光学仪器
，尤其涉及一种一维码识别设备及识别方法。

技术介绍

[0002]一维码，即通常所谓的“条码”，是通过将条码条和空隙按规则排列，以记录特定信息的可识别标识。由于一维码记录信息具有线性特点，所以通常使用基于CCD（Charge Coupled Device，即电荷耦合元件）线性图像传感器的设备进行一维码识别。
[0003]CCD设备只成像一维码中的一行图像数据，即可完成对于一维码的识别。所以涉及的数据量较少，对于运算资源的占用很低，而且识别速度较快。但是也因其只识别一行图像数据，所以在一维码出现一定损坏的情况下，就可能导致无法获取足够的图像信息，从而无法完成识别。

技术实现思路

[0004]本专利技术提供一种一维码识别设备及识别方法，以实现对于一维码的识别。
[0005]第一方面，本专利技术提供了一种一维码识别设备，包括：主控制器、光源组件、拍摄组件；所述光源组件和所述拍摄组件的相对位置关系固定；所述主控制器与所述光源组件电性连接，所述主控制器与所述拍摄组件电性连接；所述光源组件用于向目标区域投射引导光线，所述引导光线在所述目标区域形成矩形光斑；所述目标区域中包括一维码；所述拍摄组件的光学传感器为CMOS图像传感器，所述拍摄组件用于拍摄所述目标区域，以确定目标图像；所述目标图像中包括所述引导光线对应的矩形光斑；所述主控制器用于，根据所述目标图像中的所述矩形光斑的位置，确定所述目标图像中的待识别区域；针对所述待识别区域进行一维码识别。
[0006]优选的，所述光源组件包括：发光器、控制电路、遮光件以及透镜结构；所述控制电路与所述发光器电性连接；所述发光器包括发光二极管，用于产生所述引导光线；所述控制电路用于控制所述发光器的开启和关闭；所述遮光件和透镜结构用于控制所述引导光线的光路，以使所述引导光线在所述目标区域投射形成矩形光斑。
[0007]优选的，还包括：电源组件和对外接口。
[0008]第二方面，本专利技术提供了一种一维码识别方法，所述方法应用于第一方面所述的一维码识别设备中，包括：确定CMOS图像传感器中，与引导光线投射的矩形光斑对应的传感区域；向目标区域投射所述引导光线，以在所述目标区域形成所述矩形光斑；所述目标区域中包括一维码；
针对所述目标区域采集目标图像，所述目标图像中包括所述矩形光斑；将所述目标图像与所述传感区域对应的图像范围确定为待识别区域；针对所述待识别区域进行一维码识别。
[0009]优选的，所述确定CMOS图像传感器中，与引导光线投射的矩形光斑对应的传感区域包括：根据光源组件和拍摄组件的相对位置关系进行校准，以确定所述传感区域。
[0010]优选的，所述根据光源组件和拍摄组件的相对位置关系进行校准，以确定所述传感区域包括：向校准区域投射所述引导光线，以在所述校准区域形成矩形光斑；针对所述校准区域采集校准图像，所述校准图像中包括所述矩形光斑；基于图像识别技术，确定所述校准图像中矩形光斑的中线在所述CMOS图像传感器中的位置；根据所述矩形光斑的中线在所述CMOS图像传感器中的位置，确定所述传感区域。
[0011]优选的，基于图像识别技术，确定所述校准图像中矩形光斑的中线在所述CMOS图像传感器中的位置包括：确定所述矩形光斑的第一边和第二边在所述CMOS图像传感器中的位置，所述第一边平行于所述第二边；根据第一边和第二边在所述CMOS图像传感器中的位置，确定所述中线在所述CMOS图像传感器中的位置。
[0012]优选的，所述根据所述矩形光斑的中线在所述CMOS图像传感器中的位置，确定所述传感区域包括：确定偏移数值；根据所述中线在所述CMOS图像传感器中的位置，以及所述偏移数值，确定所述传感区域的第三边和第四边在所述CMOS图像传感器中的位置。
[0013]优选的，根据所述中线在所述CMOS图像传感器中的位置，以及所述偏移数值，确定所述传感区域的第三边和第四边在所述CMOS图像传感器中的位置包括：将所述中线向第一方向偏移满足所述偏移数值的像素数量，以确定所述传感区域的第三边在所述CMOS图像传感器中的位置；将所述中线向第二方向偏移满足所述偏移数值的像素数量，以确定所述传感区域的第四边在所述CMOS图像传感器中的位置。
[0014]第三方面，本专利技术提供了一种一维码识别装置，所述装置置于第一方面所述的一维码识别设备中，包括：校准模块，用于确定CMOS图像传感器中，与引导光线投射的矩形光斑对应的传感区域；光控模块，用于控制所述光源组件向目标区域投射所述引导光线，以在所述目标区域形成所述矩形光斑；所述目标区域中包括一维码；拍摄控制模块，用于控制所述拍摄组件针对所述目标区域采集目标图像，所述目标图像中包括所述矩形光斑；图像识别模块，用于将所述目标图像与所述传感区域对应的图像范围确定为待识
别区域；针对所述待识别区域进行一维码识别。
[0015]本专利技术提供了一种一维码识别设备及识别方法，通过识别图像范围更小的待识别区域，实线了低算量的一维码识别，避免了对于运算资源的过度占用；识别设备采用CMOS图像传感器，相比CCD设备提升了经济性；同时避免了CCD设备单行识别的技术方案，提升了一维码识别的容错率。
[0016]上述的非惯用的优选方式所具有的进一步效果将在下文中结合具体实施方式加以说明。
附图说明
[0017]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0018]图1为本专利技术一实施例提供的一种一维码识别设备的结构示意图；图2为本专利技术一实施例提供的一种一维码识别设备的成像光路示意图；图3为本专利技术一实施例提供的一种一维码识别设备中CMOS图像传感器的成像示意图；图4为本专利技术一实施例提供的一种一维码识别方法的流程示意图；图5为本专利技术一实施例提供的一种一维码识别方法的校准过程中CMOS图像传感器的成像示意图；图6为本专利技术一实施例提供的一种一维码识别装置的结构示意图。
具体实施方式
[0019]为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合具体实施例及相应的附图对本专利技术的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0020]基于CCD线性图像传感器的识别设备，通常专用于针对一维码进行识别。CCD设备只成像一维码中的一行图像数据，即可完成对于一维码的识别。其优点是识别过程涉及的数据量较少，对于运算资源的占用很低，而且识别速度较快。但是也因其只识别一行图像数据，所以其缺点在于一旦一维码出现一定损坏的情况下，就可能导致无法获取足够的图像信息，从而无本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种一维码识别设备，其特征在于，包括：主控制器、光源组件、拍摄组件；所述光源组件和所述拍摄组件的相对位置关系固定；所述主控制器与所述光源组件电性连接，所述主控制器与所述拍摄组件电性连接；所述光源组件用于向目标区域投射引导光线，所述引导光线在所述目标区域形成矩形光斑；所述目标区域中包括一维码；所述拍摄组件的光学传感器为CMOS图像传感器，所述拍摄组件用于拍摄所述目标区域，以确定目标图像；所述目标图像中包括所述引导光线对应的矩形光斑；所述主控制器用于，根据所述目标图像中的所述矩形光斑的位置，确定所述目标图像中的待识别区域；针对所述待识别区域进行一维码识别。2.根据权利要求1所述设备，其特征在于，所述光源组件包括：发光器、控制电路、遮光件以及透镜结构；所述控制电路与所述发光器电性连接；所述发光器包括发光二极管，用于产生所述引导光线；所述控制电路用于控制所述发光器的开启和关闭；所述遮光件和透镜结构用于控制所述引导光线的光路，以使所述引导光线在所述目标区域投射形成矩形光斑。3.根据权利要求1或2所述设备，其特征在于，还包括：电源组件和对外接口。4.一种一维码识别方法，其特征在于，所述方法应用于如权利要求1~3任意一项所述的一维码识别设备中，包括：确定CMOS图像传感器中，与引导光线投射的矩形光斑对应的传感区域；向目标区域投射所述引导光线，以在所述目标区域形成所述矩形光斑；所述目标区域中包括一维码；针对所述目标区域采集目标图像，所述目标图像中包括所述矩形光斑；将所述目标图像与所述传感区域对应的图像范围确定为待识别区域；针对所述待识别区域进行一维码识别。5.根据权利要求4所述方法，其特征在于，所述确定CMOS图像传感器中，与引导光线投射的矩形光斑对应的传感区域包括：根据光源组件和拍摄组件的相对位置关系进行校准，以确定所述传感区域。6.根据权利要求5所述方法，其特征在于，所述根据光源组件和拍摄组件的相对位置关系进行校准，以确定所述传感区域包括：向校准区域投射所述引导光线，以在所述校准区域形成矩形光斑；针对所述校准区...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨会峰，樊旭川，李萌，周容容，
申请(专利权)人：北京紫光青藤微系统有限公司，
类型：发明
国别省市：