一种用于单晶炉CCD相机清洁装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种用于单晶炉CCD相机清洁装置，包括设于单晶炉炉盖（1）上的CCD组件（2），CCD组件（2）包括相连的底座（21）、安装座（22）和防护罩（23）；防护罩（23）内设有相机组件（24），相机组件（24）的底部固定在安装座（22）上，安装座（22）的外侧连有压缩空气进气管（3），其上连有电磁阀（4），且其出气端穿过安装座（22）的侧壁与一组清扫喷头（5）相连；安装座（22）的一侧设有除尘口（22a），除尘口（22a）正对着清扫喷头（5），除尘口（22a）上连有相配合的防护盖（6）。本实用新型专利技术的优点是有效清洁玻璃，减少数据测量偏差，提高单晶硅拉制效率，改善单晶硅棒的品质和产量。晶硅棒的品质和产量。晶硅棒的品质和产量。

【技术实现步骤摘要】
一种用于单晶炉CCD相机清洁装置


[0001]本技术涉及光伏制造
，尤其涉及一种用于单晶炉CCD相机清洁装置。

技术介绍

[0002]现有的单晶炉，对于晶体生长的自动控制大多采用CCD相机，CCD相机利用视觉图像采集与处理技术，来实现晶体生长过程的监控。使用时将CCD相机安装至单晶炉炉盖顶部的观察窗处，CCD相机的摄像头朝向炉内设置，用于观测、拍摄炉内液面，在单晶拉制过程中的调温、引晶、放肩、转肩、等径阶段来测量液面温度、液面到导流筒的距离以及单晶硅棒直径等数据，为单晶拉制过程提供控制参数依据。
[0003]但是，在运行过程中，随着时间变长，CCD观察视窗玻璃会逐步附着灰尘，导致CCD显示液面温度、液面到导流筒的距离以及单晶硅棒直径等数据发生偏差，需要不时地拆开防护罩，清理视窗玻璃，并重新调整CCD相机各项参数，这种方式一定程度上影响了单晶硅的拉制。

技术实现思路

[0004]本技术目的就是为了解决现有CCD相机清洁操作繁琐、效率低、拖慢拉制进度的问题，提供了一种用于单晶炉CCD相机清洁装置，可以在不拆防护罩的前提下对玻璃进行有效清洁，减少数据测量偏差，无须重新调整相机参数，提高单晶硅拉制效率，改善单晶硅棒的品质和产量。
[0005]为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：
[0006]一种用于单晶炉CCD相机清洁装置，包括设置在单晶炉炉盖上的CCD组件，CCD组件包括一个与单晶炉炉盖相连的底座，底座上连有一个环状的安装座，安装座上连接一个防护罩，以用于保护内部的设备；<br/>[0007]防护罩内设有相机组件，相机组件的底部固定在安装座上，安装座的外侧连接一根压缩空气进气管，压缩空气进气管上连有电磁阀，且其出气端穿过安装座的侧壁与一组设于安装座内的清扫喷头相连，清扫喷头正对着相机组件的镜头下方设置，以便于通过喷吹对镜头玻璃的灰尘进行清扫；
[0008]安装座的一侧设有除尘口，除尘口正对着清扫喷头设置，除尘口上连有一个相配合的防护盖，以便于将灰尘由除尘口排出。
[0009]进一步地，所述除尘口的外侧设有卡槽，其包括相互平行的上卡槽和下卡槽，上卡槽设于除尘口的上部，下卡槽设于除尘口的下部。
[0010]进一步地，所述防护盖为L型板，其包括水平板和竖直板，水平板的端部设有一条上卡块，竖直板的下端设有一条下卡块，上卡块与上卡槽对应嵌合，下卡块与下卡槽对应嵌合，以用于防护盖与除尘口的连接。
[0011]进一步地，所述清扫喷头设为喇叭状开口，压缩空气进气管与一组支管垂直相连，支管穿过安装座的侧壁与清扫喷头相连。
[0012]进一步地，所述安装座内连有一个环状的水平安装台，水平安装台与安装座同轴设置，相机组件固定于水平安装台上。
[0013]本技术的技术方案中，通过改变原有的清洁方式，通过在防护罩内设置压缩空气喷头，实现压缩空气自动吹灰，在不拆防护罩的前提下即可清洁CCD视窗玻璃，减少了因视窗玻璃积灰导致液面温度、液面到导流筒的距离以及单晶硅棒直径等数据测量偏差，改善了单晶硅棒的品质和产量。
附图说明
[0014]图1为本技术的用于单晶炉CCD相机清洁装置内部结构图一；
[0015]图2为本技术的用于单晶炉CCD相机清洁装置内部结构图二；
[0016]图3为本技术的CCD组件外形图；
[0017]图4为本技术的CCD组件装配图；
[0018]图5为本技术的除尘口结构图一；
[0019]图6为本技术的除尘口结构图二；
[0020]图7为本技术的除尘口剖视图；
[0021]图8为本技术的防护盖立体图。
具体实施方式
[0022]实施例1
[0023]为使本技术更加清楚明白，下面结合附图对本技术的一种用于单晶炉CCD相机清洁装置进一步说明，此处所描述的具体实施例仅用于解释本技术，并不用于限定本技术。
[0024]参见图3和图4，一种用于单晶炉CCD相机清洁装置，包括设置在单晶炉炉盖1上的CCD组件2，其特征在于：
[0025]参见图1、图2和图3，CCD组件2包括一个与单晶炉炉盖1相连的底座21，底座21上连有一个环状的安装座22，安装座22上连接一个防护罩23，以用于保护内部的设备；
[0026]防护罩23内设有相机组件24，安装座22内连有一个环状的水平安装台11，水平安装台11与安装座22同轴设置，相机组件24固定于水平安装台11上；
[0027]安装座22的外侧连接一根压缩空气进气管3，压缩空气进气管3上连有电磁阀4，压缩空气进气管3与一组支管10垂直相连，支管10穿过安装座22的侧壁与一组设于安装座22内的清扫喷头5相连，清扫喷头5设为喇叭状开口；
[0028]参见图1、图5和图6，清扫喷头5正对着相机组件24的镜头下方设置，安装座22的一侧设有除尘口22a，除尘口22a正对着清扫喷头5设置，除尘口22a上连有一个相配合的防护盖6，以便于将灰尘由除尘口排出；
[0029]参见图7和图8，除尘口22a的外侧设有卡槽7，其包括相互平行的上卡槽71和下卡槽72，上卡槽71设于除尘口22a的上部，下卡槽72设于除尘口22a的下部，防护盖6为L型板，其包括水平板6a和竖直板6b，水平板6a的端部设有一条上卡块8，竖直板6b的下端设有一条下卡块9，上卡块8与上卡槽71对应嵌合，下卡块9与下卡槽72对应嵌合，以用于防护盖与除尘口的连接。
[0030]使用本技术的单晶炉CCD相机清洁装置作业时，压缩空气进气管3连接外部压缩空气管道，将安装在除尘口22a的防护盖6打开，控制打开电磁阀4，压缩空气通过管路从清扫喷头5排出，压缩空气将附着在玻璃上的灰尘由除尘口22a排出，达到清洁目的，同时可使用薄竹片包裹无尘纸通过除尘口22a对玻璃进行二次擦拭，达到清洁目的，清洁过程无需对CCD防护罩拆装及CCD相机位置挪动，清洁完毕后将除尘口的防护盖盖好即可。
[0031]本技术的装置结构精巧、操作方面，可以有效对CCD相机进行清洁，提高工作效率和清扫效果，减少数据测量偏差，无须重新调整相机参数，提高单晶硅拉制效率，改善单晶硅棒的品质和产量。
[0032]除上述实施例外，本技术还可以有其他实施方式。凡采用等同替换或等效变换形成的技术方案，均落在本技术要求的保护范围。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于单晶炉CCD相机清洁装置，包括设置在单晶炉炉盖（1）上的CCD组件（2），其特征在于：CCD组件（2）包括一个与单晶炉炉盖（1）相连的底座（21），底座（21）上连有一个环状的安装座（22），安装座（22）上连接一个防护罩（23）；防护罩（23）内设有相机组件（24），相机组件（24）的底部固定在安装座（22）上，安装座（22）的外侧连接一根压缩空气进气管（3），压缩空气进气管（3）上连有电磁阀（4），且其出气端穿过安装座（22）的侧壁与一组设于安装座（22）内的清扫喷头（5）相连，清扫喷头（5）正对着相机组件（24）的镜头下方设置；安装座（22）的一侧设有除尘口（22a），除尘口（22a）正对着清扫喷头（5）设置，除尘口（22a）上连有一个相配合的防护盖（6）。2.根据权利要求1所述的用于单晶炉CCD相机清洁装置，其特征在于：所述除尘口（22a）的外侧设有卡槽（7），其包括相互平行的上卡槽（71）和下卡槽...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵刚，王军磊，王艺澄，
申请(专利权)人：包头美科硅能源有限公司，
类型：新型
国别省市：