一种磁控溅射真空镀膜机制造技术

技术编号:35361764 阅读:12 留言:0更新日期:2022-10-29 18:00
本实用公开了一种磁控溅射真空镀膜机,本实用,包括电箱,所述电箱一侧的一端安装有控制面板,所述电箱顶部的中间位置安装有真空舱,所述真空舱靠近控制面板一端的中间位置安装有第一法兰,所述真空舱远离第一法兰一端的中间位置安装有第二法兰,所述真空舱远离控制面板一侧的中间位置安装有第三法兰,所述真空舱顶部靠近控制面板一侧的两端均安装有安装架,所述真空舱顶部靠近控制面板一侧的两端均通过安装架安装有电缸,所述真空舱靠近控制面板一侧的两端均活动安装有活动板。本实用,工作人员可以往将没有固定被镀件的镀件安装挂板上固定被镀件,节约了大量的时间,使得工作人员能够在规定时间内完成订单,有利于工厂的发展。发展。发展。

【技术实现步骤摘要】
一种磁控溅射真空镀膜机


[0001]本实用涉及磁控溅射
,具体为一种磁控溅射真空镀膜机。

技术介绍

[0002]若是传统的磁控溅射真空镀膜机内的靶材使用完后,工作人员将消耗完的靶材从磁控溅射真空镀膜内拆卸下来比较复杂,并且会浪费大量的时间,使得工作人员的工作效率低下,而且传统的磁控溅射真空镀膜机在对被镀件进行镀膜时,工作人员需要将一件件被镀件放置在镀件放置杆上,然后再由磁控溅射真空镀膜机对被镀件进行镀膜,使得工作人员在放置被镀件时需要消耗大量的时间,容易造成工厂无法在规定的时间内完成订单,不利于工厂的发展。

技术实现思路

[0003]本实用的目的在于提供一种磁控溅射真空镀膜机,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0004]为实现上述目的,本实用提供如下技术方案:一种磁控溅射真空镀膜机,包括电箱,所述电箱一侧的一端安装有控制面板,所述电箱顶部的中间位置安装有真空舱,所述真空舱靠近控制面板一端的中间位置安装有第一法兰,所述真空舱远离第一法兰一端的中间位置安装有第二法兰,所述真空舱远离控制面板一侧的中间位置安装有第三法兰,所述真空舱顶部靠近控制面板一侧的两端均安装有安装架,所述真空舱顶部靠近控制面板一侧的两端均通过安装架安装有电缸,所述真空舱靠近控制面板一侧的两端均活动安装有活动板,所述活动板靠近控制面板一侧的中间位置安装有观察窗,所述真空舱内部安装有磁控溅射装置。
[0005]优选的,所述磁控溅射装置包括承载件和靶材,所述真空舱内部顶端和底端的中间位置均安装有承载件和靶材,所述承载件内部安装有第一磁极和第二磁极,所述真空舱内部顶端和底端的两端均安装有无杆电缸,所述无杆电缸的输出端安装有连接杆,所述连接杆靠近安装架的一端安装有支撑杆,所述支撑杆靠近控制面板的一侧安装有镀件安装挂板,所述真空舱靠近第三法兰一侧的两端均安装有基板安装板,所述基板安装板的内部安装有基板。
[0006]优选的,所述真空舱两端的中间位置和远离控制面板一端的中间位置均开设有通风口,所述真空舱上通风口、第一法兰、第二法兰和第三法兰之间的尺寸相适配,所述真空舱两端靠近控制面板的一端均开设有滑槽,所述真空舱上滑槽的尺寸和活动板的尺寸相适配,所述真空舱通过滑槽与活动板之间滑动连接。
[0007]优选的,所述活动板顶部的中间位置设置有连接块,所述电缸的输出端与活动板上的连接块相连接,所述安装架一端的中间位置开设有安装孔,所述安装架上的安装孔尺寸和电缸的尺寸相适配。
[0008]优选的,所述真空舱内部顶端和底端的两端均开设有固定槽,所述真空舱上固定
槽的尺寸和无杆电缸的尺寸相适配,所述连接杆靠近安装架的一端均开设有固定孔,所述连接杆上固定孔的尺寸和支撑杆的尺寸相适配。
[0009]优选的,所述真空舱内部顶端和底端的中间位置均开设有安装槽,所述真空舱上安装槽的尺寸和承载件的尺寸相适配,所述承载件内部开设有矩形安装槽,所述承载件上矩形安装槽、第一磁极和第二磁极的尺寸相适配,所述真空舱靠近控制面板一侧顶部和底部的中间位置均开设有矩形放置槽,所述真空舱上矩形放置槽的尺寸和靶材的尺寸相适配,所述基板安装板靠近控制面板的一侧开设矩形凹槽,所述基板安装板上矩形凹槽的尺寸和基板的尺寸相适配。
[0010]与现有技术相比,本实用的有益效果是:该磁控溅射真空镀膜机,若是传统的磁控溅射真空镀膜机内的靶材使用完后,工作人员只需要将消耗完的靶材从真空舱上的矩形放置槽内部抽出,然后工作人员直接将新的靶材直接放置进矩形放置槽内部即可,使得工作人员更换靶材更加的快捷,避免了工作人员在更换靶材时会消耗大量的时间,同时工作人员在往磁控溅射真空镀膜机内部放置被镀件时,工作人员可以直接往镀件安装挂板上固定被镀件,然后工作人员直接将镀件安装挂板直接挂在支撑杆上即可,并且在被镀件进行镀膜时,工作人员还可以往将没有固定被镀件的镀件安装挂板上固定被镀件,节约了大量的时间,使得工作人员能够在规定时间内完成订单,有利于工厂的发展。
附图说明
[0011]图1为本实用主视结构示意图;
[0012]图2为本实用侧视结构示意图;
[0013]图3为本实用俯视结构示意图;
[0014]图4为本实用内部结构主视图。
[0015]图中:1、电箱;2、控制面板;3、真空舱;4、第一法兰;5、第二法兰; 6、第三法兰;7、安装架;8、电缸;9、活动板;10、观察窗;11、承载件; 12、第一磁极;13、第二磁极;14、无杆电缸;15、连接杆;16、支撑杆; 17、镀件安装挂板;18、基板安装板;19、基板;20、靶材。
具体实施方式
[0016]下面将结合本实用实施例中的附图,对本实用实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本实用的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用保护的范围。
[0017]请参阅图1

4,本实用提供的一种实施例:一种磁控溅射真空镀膜机,包括电箱1,电箱1一侧的一端安装有控制面板2,控制面板2与电箱1、电缸 8和无杆电缸14之间电性连接,电箱1顶部的中间位置安装有真空舱3,真空舱3靠近控制面板2一端的中间位置安装有第一法兰4,工作人员可以通过第一法兰4与真空泵相连通,使真空泵能够将真空舱3内的空气完全抽出,从而改变真空舱3内的环境,真空舱3远离第一法兰4一端的中间位置安装有第二法兰5,通过第二法兰5与气泵相连通,使工作人员能够往真空舱3内输送空气,真空舱3远离控制面板2一侧的中间位置安装有第三法兰6,通过第三法兰6将真空泵与惰性气体气罐相连通,使工作人员能够往真空舱3内输送惰性气体,真空舱3顶部靠近控制面板2一侧的两
端均安装有安装架7,通过安装架7将电缸8稳定牢固的安装在真空舱3上,真空舱3顶部靠近控制面板2一侧的两端均通过安装架7安装有电缸8,真空舱3靠近控制面板2 一侧的两端均活动安装有活动板9,通过真空舱3顶部的电缸8带动活动板9 进行移动,从而达到关闭真空舱3的目的,活动板9靠近控制面板2一侧的中间位置安装有观察窗10,工作人员可以通过观察窗10观察真空舱3内部的被镀件的镀膜情况,真空舱3内部安装有磁控溅射装置。
[0018]在本实施中,磁控溅射装置包括承载件11和靶材20,真空舱3内部顶端和底端的中间位置均安装有承载件11和靶材20,承载件11内部安装有第一磁极12和第二磁极13,通过第一磁极12和第二磁极13为真空舱3内部提供磁场,真空舱3内部顶端和底端的两端均安装有无杆电缸14,无杆电缸14的输出端安装有连接杆15,连接杆15靠近安装架7的一端安装有支撑杆16,支撑杆16靠近控制面板2的一侧安装有镀件安装挂板17,真空舱3靠近第三法兰6一侧的两端均安装有基板安装板18,基板安装板18的内部安装有基板 19,通过靶材20和基板19之间配合,对真空舱3内的被镀件进行镀膜处理。
[0019]在本实施中,真空舱3本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种磁控溅射真空镀膜机,包括电箱(1),其特征在于:所述电箱(1)一侧的一端安装有控制面板(2),所述电箱(1)顶部的中间位置安装有真空舱(3),所述真空舱(3)靠近控制面板(2)一端的中间位置安装有第一法兰(4),所述真空舱(3)远离第一法兰(4)一端的中间位置安装有第二法兰(5),所述真空舱(3)远离控制面板(2)一侧的中间位置安装有第三法兰(6),所述真空舱(3)顶部靠近控制面板(2)一侧的两端均安装有安装架(7),所述真空舱(3)顶部靠近控制面板(2)一侧的两端均通过安装架(7)安装有电缸(8),所述真空舱(3)靠近控制面板(2)一侧的两端均活动安装有活动板(9),所述活动板(9)靠近控制面板(2)一侧的中间位置安装有观察窗(10),所述真空舱(3)内部安装有磁控溅射装置。2.根据权利要求1所述的一种磁控溅射真空镀膜机,其特征在于:所述磁控溅射装置包括承载件(11)和靶材(20),所述真空舱(3)内部顶端和底端的中间位置均安装有承载件(11)和靶材(20),所述承载件(11)内部安装有第一磁极(12)和第二磁极(13),所述真空舱(3)内部顶端和底端的两端均安装有无杆电缸(14),所述无杆电缸(14)的输出端安装有连接杆(15),所述连接杆(15)靠近安装架(7)的一端安装有支撑杆(16),所述支撑杆(16)靠近控制面板(2)的一侧安装有镀件安装挂板(17),所述真空舱(3)靠近第三法兰(6)一侧的两端均安装有基板安装板(18),所述基板安装板(18)的内部安装有基板(19)。3.根据权利要求1所述的一种磁控溅射真空镀膜机,其特征在于:所述真空舱(3)两端的中间位置和远离控制面板(...

【专利技术属性】
技术研发人员:林盟添熊浪汪鸿飞张叶芳
申请(专利权)人:永康市鸿联科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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