一种印制找平机构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种印制找平机构，旨在提供一种能够快速找平的印制找平机构。本实用新型专利技术包括掩膜座，所述掩膜座中设置有掩膜架，所述掩膜架上安装有掩膜，所述掩膜座上设置有定位槽、锁紧件及弹性件，所述掩膜架的一端设置有与所述定位槽配合的定位柱，所述锁紧件驱动所述弹性件锁紧所述掩膜架的另一端。本实用新型专利技术应用于光刻机的技术领域。新型应用于光刻机的技术领域。新型应用于光刻机的技术领域。

【技术实现步骤摘要】
一种印制找平机构


[0001]本技术涉及光刻机的
，特别涉及一种印制找平机构。

技术介绍

[0002]GPP芯片掩模对承片台进行找平的操作，会影响芯片的曝光质量，且掩模寿命有限，更换掩模频度较高，掩模对承片台快速找平，有现实的意义及需求。由于加工及装配误差，即使提高尺寸精度，更换掩模后仍须耗时微调，不够方便直接。因此目前需要研发出一种能够快速找平的印制找平机构。

技术实现思路

[0003]本技术所要解决的技术问题是克服现有技术的不足，提供了一种能够快速找平的印制找平机构。
[0004]本技术所采用的技术方案是：本技术包括掩膜座，所述掩膜座中设置有掩膜架，所述掩膜架上安装有掩膜，所述掩膜座上设置有定位槽、锁紧件及弹性件，所述掩膜架的一端设置有与所述定位槽配合的定位柱，所述锁紧件驱动所述弹性件锁紧所述掩膜架的另一端。
[0005]进一步，所述掩膜座上设置有与所述掩膜架配合的限位组件。
[0006]进一步，所述限位组件包括连接在所述掩膜座两侧上的螺栓，所述掩膜架的两侧均开有限位槽，所述螺栓的头部活动配合在所述限位槽中。
[0007]进一步，所述弹性件为弹簧柱塞。
[0008]进一步，所述掩膜架的一端设置有直槽，所述定位柱位于所述直槽中。
[0009]进一步，所述定位柱为球头销。
[0010]进一步，所述定位槽为弧形定位槽。
[0011]进一步，所述的印制找平机构还包括Z轴移动模组，所述掩膜可通过所述Z轴移动模组沿着承片台的Z轴方向移动。/>[0012]进一步，所述的印制找平机构还包括与所述掩膜配合的激光位移传感器及光栅。
[0013]本技术的有益效果是：
[0014]相对于现有技术的不足，本技术能够实现所述掩膜的接触式找平，不用借助其它面作为辅助基准，简单直接，可精确控制掩模与晶圆的间隙，实现半接触或无接触光刻，从而提高掩模的使用寿命，减少掩模更换次数，节约成本，使得本技术具有能够快速找平及提高掩模使用寿命的优点。
附图说明
[0015]图1是本技术的立体结构示意图；
[0016]图2是本技术的平面结构示意图；
[0017]图3是图2的A部分的局部放大示意图；
[0018]图4是本技术去除掩膜座时的立体结构示意图；
[0019]图5是掩膜座的立体结构示意图；
[0020]图6是掩膜架的立体结构示意图。
[0021]附图标记如下：
[0022]1、掩膜座；2、掩膜架；3、掩膜；5、定位槽；6、锁紧件；9、弹性件；7、定位柱；10、限位组件10；11、螺栓；12、限位槽；13、直槽；15、Z轴移动模组。
具体实施方式
[0023]如图1至图6所示，在本实施例中，本技术包括掩膜座1，所述掩膜座1中设置有掩膜架2，所述掩膜架2上安装有掩膜3，所述掩膜座1上设置有定位槽5、锁紧件6及弹性件9，所述掩膜架2的一端设置有与所述定位槽5配合的定位柱7，所述锁紧件6驱动所述弹性件9锁紧所述掩膜架2的另一端。
[0024]需要说明的是，所述弹性件9为弹簧柱塞，所述掩膜架2的一端设置有直槽13，所述定位柱7位于所述直槽13中，所述定位柱7为球头销，所述定位槽5为弧形定位槽；所述定位柱7及所述定位槽5的数量均为两个，所述锁紧件6及所述弹性件9的数量均为两个，所述锁紧件6为锁紧气缸；在所述弹性件9的弹力作用下，所述掩膜架2的一端通过所述定位柱7定位于所述定位槽5中，使得所述掩膜架2能够多自由度调整。
[0025]相对于现有技术的不足，在本技术中，找平时，所述的印制找平机构位于承片台的上方，所述锁紧件6处于松开的状态下，使得所述掩膜架2及所述掩膜3无动力下降而与承片台接触，从而实现所述掩膜3与承片台的上端面平行，进一步所述锁紧件6驱动所述弹性件9锁紧所述掩膜架2，从而维持平行状态，最后，承片台、承片台上的晶圆以及掩膜3作为整体切换至曝光工位上进行光刻，因此，本技术能够实现所述掩膜3的接触式找平，不用借助其它面作为辅助基准，简单直接，使得本技术具有能够快速找平的优点。
[0026]在某些实施例中，所述掩膜座1上设置有与所述掩膜架2配合的限位组件10。具体地，所述限位组件10包括连接在所述掩膜座1两侧上的螺栓11，所述掩膜架2的两侧均开有限位槽12，所述螺栓11的头部活动配合在所述限位槽12中。具体地，所述掩膜座1两侧均设置有两个螺栓11，所述掩膜架2的两侧均开有两个所述限位槽12，由于所述螺栓11的尾部连接于所述掩膜座1上，所述螺栓11的头部活动配合在所述限位槽12中，使得所述掩膜架2可相对于所述掩膜座1上下移动。
[0027]在某些实施例中，所述的印制找平机构还包括Z轴移动模组15，所述掩膜3可通过所述Z轴移动模组15沿着承片台的Z轴方向移动，所述Z轴移动模组15具体结构可以包括电机、丝杠、导轨及移动座，电机驱动丝杠传动，丝杠与移动座传动，从而使得移动座能够在导轨上上下移动，所述掩膜座1位于移动座上，实现所述掩膜3可沿着承片台的Z轴方向移动，所述掩膜座1与移动座之间还可以设置XYR调整平台。
[0028]在某些实施例中，所述的印制找平机构还包括与所述掩膜3配合的激光位移传感器及光栅，找平后，所述掩膜3沿着承片台的Z轴方向移动时，通过激光位移传感器测量所述掩膜3与承片台上的晶圆之间的距离，并通过光栅反馈确认，实现所述掩膜3与晶圆之间的接触、半接触或无接触，因此，本技术可精确控制掩模与晶圆的间隙，实现半接触或无接触光刻，从而提高掩模的使用寿命，减少掩模更换次数，节约成本。
[0029]虽然本技术的实施例是以实际方案来描述的，但是并不构成对本技术含义的限制，对于本领域的技术人员，根据本说明书对其实施方案的修改及与其他方案的组合都是显而易见的。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种印制找平机构，其特征在于：其包括掩膜座(1)，所述掩膜座(1)中设置有掩膜架(2)，所述掩膜架(2)上安装有掩膜(3)，所述掩膜座(1)上设置有定位槽(5)、锁紧件(6)及弹性件(9)，所述掩膜架(2)的一端设置有与所述定位槽(5)配合的定位柱(7)，所述锁紧件(6)驱动所述弹性件(9)锁紧所述掩膜架(2)的另一端。2.根据权利要求1所述的一种印制找平机构，其特征在于：所述掩膜座(1)上设置有与所述掩膜架(2)配合的限位组件(10)。3.根据权利要求2所述的一种印制找平机构，其特征在于：所述限位组件(10)包括连接在所述掩膜座(1)两侧上的螺栓(11)，所述掩膜架(2)的两侧均开有限位槽(12)，所述螺栓(11)的头部活动配合在所述限位槽(12)中。4.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：吕波，胡超，周沃坤，
申请(专利权)人：珠海市科迪电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：