气浴装置及光刻机制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种气浴装置和光刻机，通过在气浴装置的本体内设置对应进气口设置且朝向远离进气口方向延伸的分流板，以使得从进气口流入的气流能够经气流通道重新分配，以均匀的从出气口流出。而分流板远离进气口弯折设置，从而可以调整气流的流体直径和方向，有效防止了流经气流通道内的气流产生涡旋。同时，通过设置导流板，以延伸气流通道，并进一步的避免涡旋的产生。涡旋的产生。涡旋的产生。

【技术实现步骤摘要】
气浴装置及光刻机


[0001]本专利技术涉及半导体
，特别涉及一种气浴装置装置及光刻机。

技术介绍

[0002]温度控制技术是应用于超精密设备内部的环境控制技术的重点，对于温度敏感区域，通常采用恒温冷却液或恒温空气喷淋(气浴)，来实现该区域高精度的温度等环境参数的控制，以避免外部环境或装备本身其他部分导致的温度等其他参数波动的影响。
[0003]光刻机是一种高精密设备，其内部环境洁净度和部件的温度对光刻精度影响较大。目前气浴是抑制污染、温度控制的主要手段之一。具体的，气浴装置通过向工件台、掩模台、硅片传输装置等关键区域及部件输送恒温恒压的气流，达到控制空间及部件颗粒度、温度的目的。而现有的气浴装置会导致出现涡旋，出风不均等问题。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提供一种气浴装置及光刻机，以解决现有技术中镜气浴装置及光刻机中存在涡旋且出风不均等问题。
[0005]为解决上述问题，本专利技术提供一种气浴装置，所述气浴装置包括：
[0006]本体，所述本体内具有气浴腔，所述本体上还具有至少一进气口和至少一出气口，所述出气口设在所述本体的底部，所述进气口和所述出气口连通所述气浴腔；
[0007]至少一分流板，所述分流板设置在所述气浴腔内，其中，至少一个所述分流板对应一个所述进气口设置，所述分流板远离所述进气口的端部弯折设置，且朝向远离所述进气口的方向延伸，以将由所述进气口流入的气流进行分流至至少两个气流通道中，所述气流经所述气流通道分流后从所述出气口流出；<br/>[0008]至少一导流板，所述导流板位于所述出气口上方，并与所述分流板远离所述进气口的端部固定连接，且朝向远离所述进气口的方向延伸，以延伸所述气流通道。
[0009]可选的，所述分流板的弯折处的形状为非直角形。
[0010]可选的，所述分流板的弯折处的形状为圆弧形，其中，所述圆弧形的弧线对应的圆心角的角度为30
°
～90
°
。
[0011]可选的，所述分流板包括依次连接的第一隔板和弯折板，所述第一隔板靠近所述进风口设置，所述弯折板与所述第一隔板远离所述进气口的端部固定连接。
[0012]可选的，所述导流板包括第二隔板，所述第二隔板与所述弯折板远离所述进气口的一端固定连接，并朝向远离所述进气口方向延伸，以及所述第二隔板的长度大于所述第一隔板的长度。
[0013]可选的，所述导流板还包括至少一个第三隔板，所述第三隔板排布在所述第二隔板的延伸方向上，并与所述第二隔板间隔设置。
[0014]可选的，所述第三隔板与所述第二隔板之间的间隔距离大于所述第二隔板的长度。
[0015]可选的，所述第三隔板至少为两个，至少两个所述第三隔板间隔设置。
[0016]可选的，相邻所述第三隔板之间的间隔距离与所述第三隔板和所述第二隔板之间的间隔距离相等。
[0017]可选的，所述分流板和所述导流板分别至少为两个，至少两个所述分流板依次间隔设置，且至少两个所述导流板依次间隔设置。
[0018]可选的，相邻两个所述导流板之间的间隔距离相等，且相邻两个所述分流板之间的间隔距离相等。
[0019]可选的，所述本体包括底板、形成在所述底板上的侧壁以及盖设在所述侧壁上的顶板，所述底板、所述侧壁以及所述顶板围设形成所述气浴腔，所述进气口形成在所述侧壁上，所述出气口形成在所述底板上，且至少位于所述导流板下方。
[0020]可选的，所述出气口包括多个，多个所述出气口间隔设置，且相邻所述出气口之间的间隔距离相等。
[0021]为解决上述问题，本专利技术还提供一种光刻机，包括如上述任意一项所述的气浴装置。
[0022]本专利技术提供的一种气浴装置中，通过在气浴装置的本体内设置对应进气口设置且朝向远离进气口方向延伸的分流板，以使得从进气口流入的气流能够经气流通道重新分配，以均匀的从出气口流出。而分流板远离进气口弯折设置，从而可以调整气流的流体直径和方向，有效防止了流经气流通道内的气流产生涡旋。同时，通过设置导流板，以延伸气流通道，并进一步的避免涡旋的产生。
附图说明
[0023]图1是本专利技术一实施例的气浴装置的一种结构示意图；
[0024]图2是本专利技术一实施例的气浴装置中的导流板的结构示意图；
[0025]图3是本专利技术一实施例的气浴装置的另一种结构示意图；
[0026]附图标记如下：
[0027]1‑
本体；
[0028]11
‑
底板；
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
12
‑
侧壁；
[0029]2‑
分流板；
[0030]21
‑
第一隔板；
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
22
‑
弯折板；
[0031]3‑
导流板；
[0032]31
‑
第二隔板；
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
32
‑
第三隔板；
[0033]4‑
进气管；
[0034]100
‑
气浴腔；
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
101
‑
气流通道；
[0035]201
‑
进气口；
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
202
‑
出气口。
具体实施方式
[0036]以下结合附图和具体实施例对本专利技术提出的气浴装置和光刻机作进一步详细说明。根据下面说明，本专利技术的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本专利技术实施例的目的。此外，附图
所展示的结构往往是实际结构的一部分。特别的，各附图需要展示的侧重点不同，有时会采用不同的比例。
[0037]图1是本专利技术一实施例的气浴装置的结构示意图。图2是本专利技术一实施例的气浴装置中的分流板的结构示意图。如图1和图2所示，本实施例的所述气浴装置包括：本体1及设置在本体1中的至少一个分流板2和至少一个导流板3。
[0038]其中，所述本体1内具有气浴腔100，所述本体1上还具有至少一进气口201和至少一出气口202，所述出气口202设置在所述本体1的底部，所述进气口201和所述出气口202连通所述气浴腔100。
[0039]以及，所述分流板2设置在所述气浴腔100内，其中，至少一个所述分流板2对应一个所述进气口201设置，所述分流板2远离所述进气口201的端部弯折设置，且朝向远离搜索进气口201的方向延伸，以将由所述进气口201流入的气流进行分流至至少两个所述气流通道101中，所述气流经所述气流通道101分流后从所述出气口202流出。
[0040]所述导流板3位于所述出气口202上方，并与所述分流板2远离所述进气口201的端部固定连接，且本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种气浴装置，其特征在于，所述气浴装置包括：本体，所述本体内具有气浴腔，所述本体上还具有至少一进气口和至少一出气口，所述出气口设在所述本体的底部，所述进气口和所述出气口连通所述气浴腔；至少一分流板，所述分流板设置在所述气浴腔内，其中，至少一个所述分流板对应一个所述进气口设置，所述分流板远离所述进气口的端部弯折设置，且朝向远离所述进气口的方向延伸，以将由所述进气口流入的气流进行分流至至少两个气流通道中，所述气流经所述气流通道分流后从所述出气口流出；至少一导流板，所述导流板位于所述出气口上方，并与所述分流板远离所述进气口的端部固定连接，且朝向远离所述进气口的方向延伸，以延伸所述气流通道。2.如权利要求1所述的气浴装置，其特征在于，所述分流板的弯折处的形状为非直角形。3.如权利要求2所述的气浴装置，其特征在于，所述分流板的弯折处的形状为圆弧形，其中，所述圆弧形的弧线对应的圆心角的角度为30
°
～90
°
。4.如权利要求1所述的气浴装置，其特征在于，所述分流板包括依次连接的第一隔板和弯折板，所述第一隔板靠近所述进风口设置，所述弯折板与所述第一隔板远离所述进气口的端部固定连接。5.如权利要求4所述的气浴装置，其特征在于，所述导流板包括第二隔板，所述第二隔板与所述弯折板远离所述进气口的一端固定连接，并朝向远离所述进气口方向延伸，以及所述第二隔板的长度大于所述第一...

【专利技术属性】
技术研发人员：程斌斌，张洪博，王伟伟，赵建军，颜小龙，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：