一种闭式硅泥干燥系统技术方案

本实用新型专利技术涉及硅泥加工设备领域，具体为一种闭式硅泥干燥系统，包括：第一烘干组件，固定设置在烘箱的内部，用于将硅泥烘干；进料斗，固定设置在烘箱的顶端上，所述进料斗的底端设置在第一烘干组件一端的正上方位置处；敲打组件，转动设置在烘箱的上表面，所述敲打组件包括等间隔的设置在其圆周方向上的弹性伸缩杆，且敲打组件转动时，弹性伸缩杆的活动端可敲打进料斗的外表面，效果是进料斗的宽度较小可将硅泥平铺在第一烘干组件上，避免硅泥堆积在第一烘干组件，影响烘干效果，并在进料斗的一侧设置敲打组件，可反复的敲打进料斗的外表面，避免潮湿的硅泥粘附在进料斗的内表面上，影响加料速度。加料速度。加料速度。

【技术实现步骤摘要】
一种闭式硅泥干燥系统


[0001]本技术涉及硅泥加工设备领域，具体为一种闭式硅泥干燥系统。

技术介绍

[0002]硅泥自身的水分高，需要对硅泥进行烘干处理，市面上的硅泥干燥装置一般是烘干的方式进行干燥的，现有的硅泥加入到烘干设备内一般是通过人工添加的方式，该方式下，不仅影响烘干效率，同时硅泥平铺的不够均匀，硅泥堆积时，会使烘干效果变差，应该对硅泥的处理效果，因此，为了解决上述技术问题，本申请提出一种闭式硅泥干燥系统。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供一种闭式硅泥干燥系统，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0004]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种闭式硅泥干燥系统，包括：
[0005]第一烘干组件，固定设置在烘箱的内部，用于将硅泥烘干；
[0006]进料斗，固定设置在烘箱的顶端上，所述进料斗的底端设置在第一烘干组件一端的正上方位置处；
[0007]敲打组件，转动设置在烘箱的上表面，所述敲打组件包括等间隔的设置在其圆周方向上的弹性伸缩杆，且敲打组件转动时，弹性伸缩杆的活动端可敲打进料斗的外表面。
[0008]优选的，所述第一烘干组件包括第一输送机构以及微波烘烤器，所述第一输送机构固定安装在烘箱的内部，所述微波烘烤器设置在第一输送机构的正上方位置处。
[0009]优选的，所述第一输送机构的宽度方向上固定设置有一对挡板。
[0010]优选的，所述弹性伸缩杆的活动端上转动设置有敲打轮，所述敲打轮的外表面上固定设置有橡胶套。
[0011]优选的，所述敲打组件还包括电机与传动带，所述电机固定安装在烘箱的上表面上；所述传动带的一端套设在电机上，用于驱动弹性伸缩杆转动。
[0012]优选的，所述进料斗上滑动设置有阻挡部。
[0013]优选的，所述第一烘干组件的下方处固定设置有第二烘干组件，所述烘箱的内表面上固定设置有导料板，所述导料板位于第一烘干组件出料端的正下方位置处。
[0014]与现有技术相比，本技术的有益效果是：通过在烘箱的内部设置第一烘干组件与第二烘干组件对硅泥进行烘烤，可有效的提高烘干效果，进料斗的宽度较小可将硅泥平铺在第一烘干组件上，避免硅泥堆积在第一烘干组件，影响烘干效果，并在进料斗的一侧设置敲打组件，可反复的敲打进料斗的外表面，避免潮湿的硅泥粘附在进料斗的内表面上，影响加料速度。
附图说明
[0015]图1为本技术的结构示意图；
[0016]图2为本技术中的剖面结构示意图；
[0017]图3为本技术中第一烘干组件的局部结构示意图；
[0018]图4为本技术中进料斗与敲打组件的结构示意图。
[0019]图中：1、烘箱；2、出料口；3、电机；4、弹性伸缩杆；5、敲打轮；6、进料斗；7、传动带；8、第一输送机构；9、第二输送机构；10、导料板；11、挡板；12、安装部；13、微波烘烤器；14、阻挡部。
具体实施方式
[0020]下面将对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0021]请参阅图1
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4，本技术提供一种闭式硅泥干燥系统：包括：
[0022]第一烘干组件包括第一输送机构8以及微波烘烤器13，第一输送机构8固定安装在烘箱1的内部，微波烘烤器13设置在第一输送机构8的正上方位置处，微波烘烤器13用于将第一输送机构8避免上输送的硅泥烘干，第一烘干组件的下方处固定设置有第二烘干组件，第二烘干组件中包括一第二输送机构9，第二输送机构9的进料端设置在第一输送机构8出料端的正下方位置处，通过第一烘干组件处理的硅泥则被输送到第二输送机构9上，第二输送机构9的正上方也设置有微波烘烤器13，用于对第二输送机构9表面上的硅泥进行二次烘干，提高对硅泥的烘干效果，烘箱1的内表面上固定设置有导料板10，导料板10位于第一烘干组件出料端的正下方位置处，在导料板10的作用下可使第一输送机构8出料端输送的硅泥完全下落在第二输送机构9的进料端上，烘箱1的下表面上固定设置有出料口2，出料口2设置在第二输送机构9出料端的正下方位置处，用于供烘干完成的硅泥通过，烘箱1的一侧可设置出气孔，用于供水汽通过(图中未示出)；
[0023]进料斗6，固定设置在烘箱1的顶端上，进料斗6底端的宽度较小，可供较少量的硅泥通过，可使硅泥平铺在第一输送机构8的外表面上，避免第一输送机构8表面上的硅泥厚度较厚，微波烘烤器13不能充分的对每个硅泥进行烘烤，进料斗6上滑动设置有阻挡部14，阻挡部14通过滑动可控制进料斗6内部通道的开闭，进而控制硅泥能否正常的从进料斗6的底端通过，进料斗6的底端设置在第一输送机构8一端的正上方位置处，用于为第一输送机构8提供硅泥；
[0024]敲打组件，转动设置在烘箱1的上表面，敲打组件包括等间隔的设置在其圆周方向上的弹性伸缩杆4，且敲打组件转动时，弹性伸缩杆4的活动端可敲打进料斗6的外表面，由于潮湿的硅泥容易粘附在进料斗6的外表面上，进料斗6转动的过程中可不断的敲打进料斗6的外表面，使进料斗6震动，进而使粘附在进料斗6内表面上的硅泥可快速的通过进料斗6的底端下落到第一输送机构8上，弹性伸缩杆4的活动端上转动设置有敲打轮5，敲打轮5敲打进料斗6的外表面后，会与进料斗6的表面进行挤压，转动的敲打轮5可在进料斗6的外表面上滚动，进而降低与进料斗6之间的摩擦力，敲打轮5的外表面上固定设置有橡胶套，敲打组件还包括电机3与传动带7，电机3固定安装在烘箱1的上表面上；传动带7的一端套设在电机3上，用于驱动弹性伸缩杆4转动，第一输送机构8的宽度方向上固定设置有一对挡板11，用于对第一输送机构8宽度方向上的硅泥进行阻挡，挡板11上固定设置有安装部12，微波烘
烤器13固定设置在安装部12上。
[0025]尽管已经示出和描述了本技术的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本技术的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本技术的范围由所附权利要求及其等同物限定。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种闭式硅泥干燥系统，其特征在于：包括：第一烘干组件，固定设置在烘箱(1)的内部，用于将硅泥烘干；进料斗(6)，固定设置在烘箱(1)的顶端上，所述进料斗(6)的底端设置在第一烘干组件一端的正上方位置处；敲打组件，转动设置在烘箱(1)的上表面，所述敲打组件包括等间隔的设置在其圆周方向上的弹性伸缩杆(4)，且敲打组件转动时，弹性伸缩杆(4)的活动端可敲打进料斗(6)的外表面。2.根据权利要求1所述的一种闭式硅泥干燥系统，其特征在于：所述第一烘干组件包括第一输送机构(8)以及微波烘烤器(13)，所述第一输送机构(8)固定安装在烘箱(1)的内部，所述微波烘烤器(13)设置在第一输送机构(8)的正上方位置处。3.根据权利要求2所述的一种闭式硅泥干燥系统，其特征在于：所述第一输送机构(8)的宽度方向上固定设置有一对...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈昌龙，查建文，
申请(专利权)人：常州市华夏干燥制粒设备有限公司，
类型：新型
国别省市：