本发明专利技术提供一种能够抑制由整体上滞留于膜的下表面的气泡引起的基板的镀覆品质恶化的技术。镀覆装置(1000)具备镀覆槽(10)、基板保持架(20)以及膜模块(40)，膜模块具备第一膜(41)和第二膜(42)，第二膜具有用于供比第二膜靠下方的第一区域(R1)的镀覆液流入至比第二膜靠上方且比第一膜靠下方的第二区域(R2)的流入口(42c)、和相对于水平方向倾斜并且以随着从阳极室的中央侧朝向阳极室的外缘侧而位于上方的方式倾斜的倾斜部位(42b)。于上方的方式倾斜的倾斜部位(42b)。于上方的方式倾斜的倾斜部位(42b)。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】镀覆装置
[0001]本专利技术涉及镀覆装置。
技术介绍
[0002]以往，作为对基板实施镀覆处理的镀覆装置，公知有所谓的杯式镀覆装置(例如参照专利文献1、专利文献2)。这样的镀覆装置具备：镀覆槽，配置了阳极；和基板保持架，配置于比阳极靠上方的位置，将作为阴极的基板保持为该基板的镀覆面与阳极对置。另外，这样的镀覆装置在镀覆槽的内部的比阳极靠上方且比基板靠下方的部位具有离子交换膜等膜。该膜将镀覆槽的内部划分为比膜靠下方的阳极室、和比膜靠上方的阴极室。上述的阳极配置于阳极室。在对基板的镀覆处理时，基板配置于阴极室。
[0003]专利文献1：日本特开2008
‑
19496号公报
[0004]专利文献2：美国专利第6821407号说明书
[0005]在如上所述的具有膜的杯式镀覆装置中，由于某些原因，有时会在阳极室产生气泡。像这样在阳极室产生气泡，而该气泡整体上滞留于膜的下表面的情况下，存在由该气泡引起的基板的镀覆品质恶化的担忧。
技术实现思路
[0006]本专利技术是鉴于上述情况而完成的，其目的之一在于提供一种能够抑制由整体上滞留于膜的下表面的气泡引起的基板的镀覆品质恶化的技术。
[0007](形态1)
[0008]为了达成上述目的，本专利技术的一个形态所涉及的镀覆装置具备：镀覆槽，具有底壁、和从上述底壁的外缘向上方延伸的外周壁，贮存镀覆液，并且配置有阳极；基板保持架，配置于比上述阳极靠上方的位置，将作为阴极的基板保持为该基板与上述阳极对置；以及膜模块，配置于比上述阳极靠上方且比上述基板靠下方的位置，上述膜模块具备：第一膜，将上述镀覆槽的内部划分为阳极室、和比该阳极室靠下方的阴极室；和第二膜，以不与上述第一膜接触的形态配置于比上述第一膜靠下方且比上述阳极靠上方的部位，上述第二膜具有：流入口，用于供比上述第二膜靠下方的第一区域的镀覆液流入至比上述第二膜靠上方且比上述第一膜靠下方的第二区域；和倾斜部位，相对于水平方向倾斜，并且以随着从上述阳极室的中央侧朝向上述阳极室的外缘侧而位于上方的方式倾斜。
[0009]根据该形态，具备如上所述的第二膜，因此即使是在阳极室产生了气泡的情况下，也能够使该气泡利用浮力沿着第二膜的倾斜部位移动而移动至第二膜的倾斜部位的外缘。由此，能够抑制阳极室中产生的气泡整体上滞留于第一膜及第二膜的下表面。其结果是，能够抑制由整体上滞留于第一膜及第二膜的下表面的气泡引起的基板的镀覆品质恶化。
[0010](形态2)
[0011]也可以构成为，在上述形态1中，上述第一膜具备：延伸部位，在水平方向上延伸；和倾斜部位，以该延伸部位为起点在从该延伸部位远离的方向上向一侧及另一侧延伸，并
且以随着从该延伸部位远离而位于上方的方式倾斜。
[0012](形态3)
[0013]也可以构成为，上述的形态2在上述镀覆槽的上述外周壁设置有用于将上述阴极室的镀覆液从上述阴极室排出的泄放口，上述泄放口设置为从上述第一膜的上述延伸部位到上述泄放口的高度为20mm以内。
[0014]根据该形态，能够容易地将阴极室的镀覆液从阴极室排出。
[0015](形态4)
[0016]也可以构成为，在上述形态1～3中的任意一个形态中，上述膜模块还具备支承上述第二膜的第二膜用支撑部件。
[0017](形态5)
[0018]也可以构成为，在上述形态1～4中的任意一个形态中，上述膜模块还具备支承上述第一膜的第一膜用支撑部件。
[0019](形态6)
[0020]也可以构成为，对于上述形态1～5中的任意一个形态而言，上述镀覆装置还具备以沿着上述第二膜的上述倾斜部位的外缘的方式形成于上述镀覆槽的上述外周壁的收容槽，上述收容槽构成为：暂时收容已移动至上述第二膜的上述倾斜部位的外缘的气泡，并且供上述第一区域的镀覆液及上述第二区域的镀覆液在上述收容槽合流，上述镀覆装置还具备阳极室用排出口，上述阳极室用排出口构成为：与上述收容槽连通，将已收容至上述收容槽的气泡与在上述收容槽流动的镀覆液一起吸入并向上述镀覆槽的外部排出。
[0021]根据该形态，能够使已移动至第二膜的倾斜部位的外缘的气泡暂时收容于收容槽，将该已收容的气泡与第一区域及第二区域的镀覆液一起经由阳极室用排出口向镀覆槽的外部排出。由此，能够有效地抑制气泡滞留于第二膜的下表面。另外，通过气泡暂时收容于收容槽，从而多个较小的气泡能够在该收容槽结合而成为较大的气泡。由此，能够容易地使气泡从阳极室用排出口排出。
[0022](形态7)
[0023]也可以构成为，在上述形态1～6中的任意一个形态中，在上述阴极室中的比上述基板靠下方的位置配置有离子阻抗体，在上述阴极室中的比上述离子阻抗体靠下方且比上述膜模块靠上方的位置，配置有用于调整上述阴极室中的电场的环状的电场调整块，在上述离子阻抗体设置有多个以贯通上述离子阻抗体的下表面与上表面的方式设置的贯通孔，上述电场调整块的内径小于上述离子阻抗体中的设置有多个上述贯通孔的区域亦即冲孔区域的外径。
[0024]根据该形态，通过离子阻抗体，能够实现形成于基板的镀覆皮膜的膜厚的均匀化。另外，通过电场调整块，能够调整阴极室中的电场，因此能够有效地实现镀覆皮膜的膜厚的均匀化。
[0025](形态8)
[0026]也可以构成为，上述形态1～7中的任意一个形态还具备构成为抑制上述第一区域的气泡流入至上述流入口的抑制部件。
[0027]根据该形态，能够抑制第一区域的气泡从流入口流入至第二区域。
[0028](形态9)
[0029]也可以构成为，在上述形态8中，上述抑制部件具备配置于比上述第二膜的上述流入口靠下方的位置并在水平方向上延伸的抑制板。
[0030](形态10)
[0031]也可以构成为，在上述形态8中，上述抑制部件具备：筒部件，配置于比上述第二膜的上述流入口靠下方的位置，并在水平方向上延伸；和连结部件，将上述筒部件的内部与上述流入口连结。
[0032](形态11)
[0033]也可以构成为，对于上述形态1～10中的任意一个形态而言，上述镀覆装置还具备镀覆液流通模块，上述镀覆液流通模块构成为：在对上述基板执行镀覆处理时，使镀覆液在上述阳极室与阳极室用的储液罐之间流通，并且使镀覆液在上述阴极室与阴极室用的储液罐之间流通。
[0034](形态12)
[0035]也可以构成为，在上述形态11中，上述镀覆液流通模块具备压力调整阀，上述压力调整阀配置于使上述阳极室的镀覆液向上述阳极室用的储液罐流通的流路，调整上述阳极室的压力以使上述阳极室的压力成为与上述阴极室的压力相同的值。
[0036]根据该形态，能够通过简单的结构将阳极室的压力控制为与阴极室的压力相同的值。
附图说明
[0037]图1是表示实施方式1所涉及的镀覆装置的整体结构的立体图。
[0038]图2是表示实施方式1所涉及的镀覆装置的整体结构的俯视图。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种镀覆装置，其特征在于，具备：镀覆槽，具有底壁、和从所述底壁的外缘向上方延伸的外周壁，对镀覆液进行贮存，并且配置有阳极；基板保持架，配置于比所述阳极靠上方的位置，将作为阴极的基板保持为该基板与所述阳极对置；以及膜模块，配置于比所述阳极靠上方且比所述基板靠下方的位置，所述膜模块具备：第一膜，将所述镀覆槽的内部划分为阳极室、和比该阳极室靠下方的阴极室；和第二膜，以不与所述第一膜接触的形态配置于比所述第一膜靠下方且比所述阳极靠上方的部位，所述第二膜具有：流入口，用于供比所述第二膜靠下方的第一区域的镀覆液流入至比所述第二膜靠上方且比所述第一膜靠下方的第二区域；和倾斜部位，相对于水平方向倾斜，并且以随着从所述阳极室的中央侧朝向所述阳极室的外缘侧而位于上方的方式倾斜。2.根据权利要求1所述的镀覆装置，其特征在于，所述第一膜具备：延伸部位，在水平方向上延伸；和倾斜部位，以该延伸部位为起点在从该延伸部位离开的方向上向一侧及另一侧延伸，并且以随着从该延伸部位离开而位于上方的方式倾斜。3.根据权利要求2所述的镀覆装置，其特征在于，在所述镀覆槽的所述外周壁设置有用于将所述阴极室的镀覆液从所述阴极室排出的泄放口，所述泄放口设置为从所述第一膜的所述延伸部位到所述泄放口的高度为20mm以内。4.根据权利要求1～3中的任一项所述的镀覆装置，其特征在于，所述膜模块还具备支承所述第二膜的第二膜用支撑部件。5.根据权利要求1～4中的任一项所述的镀覆装置，其特征在于，所述膜模块还具备支承所述第一膜的第一膜用支撑部件。6.根据权利要求1～5中的任一项所述的镀覆装置，其特征在于，所述镀覆装置还具备以沿着所述第二膜的所述倾斜部位的外缘的方式形成于所述镀覆槽的所述外周壁的收容槽，所述收容槽构成为：暂时收容已移动至所述第二膜的所述倾斜部位的外缘的气泡，并且供所述第一区域的镀覆液及...
【专利技术属性】
技术研发人员：富田正辉，增田泰之，
申请(专利权)人：株式会社荏原制作所，
类型：发明
国别省市：
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