一种晶圆级封装芯片外观缺陷检测方法及检测系统技术方案

本发明专利技术公开一种晶圆级封装芯片外观缺陷检测方法及检测系统，在高角度环形光源和低角度环形光源照射下用相机分别对料盘芯片单独成像，根据若干个区域图像模板，对每个所述芯片图像分别提取出对应的区域图像，针对不同所述区域图像采用不同的第二级算法进行处理；将各个第二级算法检测结果汇总，获得单个芯片的检测结果输出，通过循环检测获得每个芯片的检测结果并汇总，获得整个料盘芯片的结果输出；本发明专利技术通过成像和算法相结合，实现对目标缺陷更有效的检出，避免漏检。避免漏检。避免漏检。

【技术实现步骤摘要】
一种晶圆级封装芯片外观缺陷检测方法及检测系统


[0001]本专利技术涉及到晶圆级芯片封装检测
，具体涉及到一种晶圆级封装芯片外观缺陷检测方法及检测系统。

技术介绍

[0002]WLCSP封装技术有别于传统封装方式，在结束前端晶圆制作流程的晶圆上直接完成所有的操作，在整片晶圆上进行封装和测试，然后切割成单片IC小颗粒，从而使WLCSP可以实现与芯片尺寸相同的最小的封装体。切割后芯片颗粒尺寸较小，从几个毫米到十几毫米。芯片制造过程中，由于材料本身原因以及工艺制程问题会产生各种外观缺陷，主要包括锡球不良、线路不良和树脂保护层的不良等。芯片上锡球尺寸越来越小，线路越来越复杂，线宽越来越窄；同时，锡球、线路层和树脂保护层位于不同高度层面，同时聚焦多个高度目标时，容易漏检。总而言之，芯片结构复杂、尺寸小造成上面的缺陷肉眼不容易被发现。
[0003]目前WLCSP芯片封装厂基本采用显微镜下人工目测的方式实施外观缺陷检测，由于产品数量大，人工检测效率很低，且人眼易疲劳，易受外界干扰因素影响，检测效果不稳定，漏检率的管控非常困难。因此采用机器视觉技术替代人眼和人脑，实现自动外观缺陷检测显得越来越重要。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的是针对现有技术存在的问题，提供一种晶圆级封装芯片外观缺陷检测方法及检测系统，通过成像技术与算法的结合，实现对目标缺陷更有效的检出，避免漏检。
[0005]为实现上述目的，本专利技术采用的技术方案是：
[0006]本专利技术提供一种晶圆级封装芯片外观缺陷检测方法，包括以下步骤：
[0007]步骤S1、CAD软件中载入芯片产品设计图，同时选取有代表性的芯片良品图像，将两幅图像融合后局部修正，得到标准模板；并且利用CAD软件的图纸分层功能，将所述标准模板按不同功能区分割为若干个区域图像模板。
[0008]在高角度环形光源和低角度环形光源照射下用相机分别对料盘芯片单独成像；将两次所述单独成像的图像通过设定权值比例合成一幅新的料盘芯片图像；
[0009]具体的，所述高角度环形光源将锡球的上半部的顶部打亮，所述低角度环形光源将锡球的上半部的底部打亮，两次所述单独成像的图像通过算法合成在一起，获取了锡球上半部的三维完整信息，通过比对良品实现对锡球缺陷的有效检出。
[0010]所述高角度环形光源配合相机对芯片的二维缺陷清晰成像，所述低角度环形光源配合相机对芯片的三维缺陷清晰成像，其中二维缺陷为短路、断路等，三维缺陷为划伤、树脂保护层破损等。两组光源的结合使用实现了对芯片上各种缺陷的清晰成像，具体某种缺陷的检测必须结合两幅图像的特征信息做综合处理。
[0011]光学成像系统由高角度红外环形光源和低角度红外环形光源和工业线阵相机组
成，工业线阵相机分别在两个光源下对被测芯片单独成像，然后对两幅图像进行处理实现检测。
[0012]步骤S2、成像系统输入整盘所述料盘芯片图像，通过模板匹配算法分割出整个料盘中每颗芯片的单独区域，获取每个所述单独区域中的芯片图像，对每个所述芯片图像进行第一级检测，所述第一级检测通过设定算法检测芯片的非正常摆设，例如芯片正反面倒置、芯片空缺和芯片偏斜，如果摆设异常，提示操作人员介入做修正，否则进入下一步检测流程；
[0013]步骤S3、根据若干个所述区域图像模板，对每个所述芯片图像分别提取出对应的区域图像，针对不同所述区域图像采用不同的第二级算法进行处理；
[0014]具体的，所述区域图像模板包括线路区图像模板、锡球区图像模板和保护区图像模板；采用第二级传统视觉算法处理线路区图像模板和锡球区图像模板，与芯片实际图像对应区域匹配，通过对比，检测出结构性缺陷；采用第二级AI算法处理保护区图像模板，通过收集各种类型缺陷大量的图像并做相应的缺陷标注，定制设计AI算法模型，将标注后图像数据输入AI算法模型，通过训练调参，逐步优化模型，达到对非结构性缺陷的检测结果。
[0015]需要指出的是，本专利技术的步骤S1中的成像方案与步骤S3中的算法并非单独存在的，而是互相支撑配合，共同实现对目标缺陷更有效的检出，具体体现在，通过高、低角度光源的分别照射芯片独立成像，使芯片的不同高度呈现出具有差距的明亮度，方便从每颗芯片图像中分别提取出不同高度的锡球区、线路区和保护区图像，以便针对不同区域使用对应的算法进行处理。
[0016]步骤S4、将各个第二级算法检测结果汇总，获得单个芯片的检测结果输出，通过循环检测获得每个芯片的检测结果并汇总，获得整个料盘芯片的结果输出。
[0017]上述方案的改进点和相应优点在于，
[0018]其一，采用独特的高、低角度红外环形光源分时成像的打光方案，解决了芯片上不同高度差的区域中不同种类缺陷均能清晰成像的难题，解决了树脂层覆盖下金属线路层的清晰成像问题。
[0019]其二，成像方案与算法并非单独存在的，而是互相支撑配合，共同实现对目标缺陷更有效的检出，具体体现在，通过高、低角度光源的分别照射芯片独立成像，使芯片的不同高度呈现出具有差距的明亮度，方便从每颗芯片图像中分别提取出不同高度的锡球区、线路区和保护区图像，以便针对不同区域使用对应的算法进行处理，实现芯片更加准确的检测结果输出。
[0020]其三，采用两级检测算法框架，分流异常和正常检测；采用并行双层算法，分别采用传统视觉检测算法和AI算法对芯片结构性缺陷和非结构性缺陷分别实施检出，然后合并信息完成对整个芯片的检测。
[0021]进一步的，结合所述标准模板的图像和同批次有相同特征锚点的良品单颗芯片图像，以所述特征锚点为定位点，对准两幅图像后，忽略细节像素级差异，比较两者大的结构性差异，将两者按结构特征做集合逻辑运算得到复合式模板，将所述复合式模板作为下一步的标准模板。
[0022]优点在于，算法上采用复合模板创建和复合图像处理两种特殊算法，通过CAD图纸和实际良品图像形成修正模板，通过对高、低角度两幅图像的合成分析，实现对目标更有效
的检出和降低过检率。
[0023]本专利技术提供一种晶圆级封装芯片外观缺陷检测系统，包括：运送机构、光学检测装置、主控制器、挑料位、挑补料机构、坏料盘位、补料位；
[0024]多个整盘的料盘芯片依次下料被运送到光学检测装置处，光学检测装置采用高角度环形光源和低角度环形光源照射下分别对料盘芯片单独成像，主控制器根据权利要求1的检测方法检测并输出料盘芯片的检测结果；
[0025]然后整盘的所述料盘芯片被运送到挑料位，挑补料机构剔除坏料并将坏料置于坏料盘位处，剔除坏料的所述料盘芯片被运送到补料位；
[0026]挑补料机构将所述料盘芯片的良品补到下个在挑料位被挑出坏料的料盘空位中，获得满盘良品芯片，实现良品和坏料的分拣。
[0027]上述方案通过整合专门设计的光学检测装置、自动化分拣系统、定制的检测软件和检测算法，有效地实现了对此类芯片上各种缺陷的有效检出以及自动化分拣。
[0028]与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种晶圆级封装芯片外观缺陷检测方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、创建单个芯片产品的标准模板，将所述标准模板按不同功能区分割为若干个区域图像模板；在高角度环形光源和低角度环形光源照射下用相机分别对料盘芯片单独成像；将两次所述单独成像的图像通过设定权值比例合成一幅新的料盘芯片图像；S2、成像系统输入整盘所述料盘芯片图像，通过模板匹配算法分割出整个料盘中每颗芯片的单独区域，获取每个所述单独区域中的芯片图像，对每个所述芯片图像进行第一级检测，所述第一级检测通过设定算法检测芯片的非正常摆设，如果摆设异常，提示操作人员介入做修正，否则进入下一步检测流程；S3、根据若干个所述区域图像模板，对每个所述芯片图像分别提取出对应的区域图像，针对不同所述区域图像采用不同的第二级算法进行处理；S4、将各个第二级算法检测结果汇总，获得单个芯片的检测结果输出，通过循环检测获得每个芯片的检测结果并汇总，获得整个料盘芯片的结果输出。2.根据权利要求1所述的一种晶圆级封装芯片外观缺陷检测方法，其特征在于，所述步骤S1具体包括，通过软件载入芯片产品设计图，同时选取有代表性的芯片良品图像，将两幅图像融合后局部修正，得到标准模板；并且利用软件的图纸分层功能，将所述标准模板按不同功能区分割为若干个区域图像模板。3.根据权利要求2所述的一种晶圆级封装芯片外观缺陷检测方法，其特征在于，结合所述标准模板的图像和同批次有相同特征锚点的良品单颗芯片图像，以所述特征锚点为定位点，对准两幅图像后，忽略细节像素级差异，比较两者的结构性差异，将两者按结构特征做集合逻辑运算得到复合式模板，将所述复合式模板作为下一步标准模板。4.根据权利要求1所述的一种晶圆级封装芯片外观缺陷检测方法，其特征在于，所述非正常摆设包括芯片正反面倒置、芯片空缺、芯片偏斜。5.根据权利要求1所述的一种晶圆级封装芯...

【专利技术属性】
技术研发人员：蒋剑峰，郑军，肖鋆，
申请(专利权)人：聚时科技上海有限公司，
类型：发明
国别省市：