本实用新型专利技术提供一种用于氟哌啶衍生物合成的四氟乙烯内衬反应装置，包括反应釜体、四氟乙烯内衬以及密闭机构；反应釜体包括内外相套设的内釜体与外釜体；四氟乙烯内衬贴合于内釜体的内侧；密闭机构设置于外釜体的内侧底部，且能够将内釜体向上顶起，抵触于外釜体的顶盖边缘。本实用新型专利技术提供了一种带有四氟乙烯内衬的氟哌啶衍生物合成反应装置，能够有效防止合成反应过程中所生成的氟化氢游离出来，腐蚀反应装置，对反应装置进行有效保护，延长其使用寿命；结构小巧新颖，操作控制支持完全智能化，具有可靠的实用性；可直接在现有反应装置的基础上进行改装，并且改装成本适中，极其适用于中小型生产企业，具有良好的市场前景。具有良好的市场前景。具有良好的市场前景。
【技术实现步骤摘要】
一种用于氟哌啶衍生物合成的四氟乙烯内衬反应装置
[0001]本技术属于氟哌啶衍生物合成设备领域，具体涉及一种用于氟哌啶衍生物合成的四氟乙烯内衬反应装置。
技术介绍
[0002]在氟哌啶衍生物的合成过程中，会有氟化氢生成，虽然会有碱性缚酸剂吸收，但仍会有少量的氟化氢游离出来。游离的氟化氢对反应装置有很强的腐蚀作用，在长时间的腐蚀作用下，难免会有少量的杂质进入产品中，影响产品的纯度。
[0003]因此，针对以上问题研制出一种新型的反应装置是本领域技术人员所急需解决的难题。
技术实现思路
[0004]为解决上述问题，本技术公开了一种用于氟哌啶衍生物合成的四氟乙烯内衬反应装置。
[0005]为达到上述目的，本技术的技术方案如下：
[0006]一种用于氟哌啶衍生物合成的四氟乙烯内衬反应装置，包括反应釜体、四氟乙烯内衬以及密闭机构；反应釜体包括内外相套设的内釜体与外釜体；四氟乙烯内衬贴合于内釜体的内侧；密闭机构设置于外釜体的内侧底部，且能够将内釜体向上顶起，抵触于外釜体的顶盖边缘。
[0007]进一步地，密闭机构包括下撑杆、上撑杆、下固定片、上调节片、导线、支撑弹簧、压力传感器、电位器以及电源；下撑杆的竖直向上固定于外釜体的内侧底部，顶端沿轴向向内设有支撑槽；上撑杆的底端滑动配合于支撑槽内，顶端连接于内釜体的内部；下固定片为硅钢片，贴合于支撑槽的槽底；上调节片为铁片，贴合于上撑杆的底端；支撑弹簧设置于支撑槽内，两端分别与下固定片以及上调节片相连；导线呈螺旋状均匀缠绕于下固定片的表面，并连接电位器以及电源形成回路；压力传感器与内釜体相配合安装，并与电位器配合相连。
[0008]进一步地，导线所在回路内还连接有开关；开关设置于外釜体的表面。
[0009]进一步地，密闭机构的数量至少为4个，均布于内釜体的底端与外釜体之间，并且所有的密闭机构共用同一个压力传感器、电位器、电源以及开关。
[0010]进一步地，内釜体的底部配合安装有撑板；密闭机构将外釜体的内侧底部与撑板相连接。
[0011]进一步地，压力传感器设置于内釜体的底部与撑板之间。
[0012]本技术的有益效果为：
[0013]1、提供了一种带有四氟乙烯内衬的氟哌啶衍生物合成反应装置，能够有效防止合成反应过程中所生成的氟化氢游离出来，腐蚀反应装置，对反应装置进行有效保护，延长其使用寿命；
[0014]2、设计有创新性的密闭机构，能够根据所添加反应原料的重量进行适应性调节，
将内釜体的四氟乙烯内衬与外釜体顶盖始终保持相抵触，减少腐蚀产生的杂质进入产品中的可能性，显著提高了产品的纯度；
[0015]3、密闭机构利用电生磁产生的磁吸力配合弹簧弹力进行上下位移调节，结构小巧新颖，操作控制支持完全智能化，具有可靠的实用性；
[0016]4、可直接在现有反应装置的基础上进行改装，并且改装成本适中，极其适用于中小型生产企业，具有良好的市场前景。
附图说明
[0017]图1、本技术的结构示意图；
[0018]图2、本技术中密闭机构的结构示意图。
[0019]附图标识列表：四氟乙烯内衬1、密闭机构2、内釜体3、外釜体4、顶盖5、撑板6、下撑杆21、上撑杆22、下固定片23、上调节片24、导线25、支撑弹簧26、压力传感器27、电位器28、电源29、支撑槽30、开关31。
具体实施方式
[0020]下面结合附图和具体实施方式，进一步阐明本技术，应理解下述具体实施方式仅用于说明本技术而不用于限制本技术的范围。
[0021]如图1所示为本技术的结构示意图，本技术为一种用于氟哌啶衍生物合成的四氟乙烯内衬反应装置，包括反应釜体、四氟乙烯内衬1以及密闭机构2。
[0022]反应釜体包括内外相套设的内釜体3与外釜体4；四氟乙烯内衬1贴合于内釜体3的内侧；内釜体3的底部配合安装有撑板6；密闭机构2设置于外釜体4的内侧底部，将外釜体4的内侧底部与撑板6相连接，且能够将内釜体3向上顶起，抵触于外釜体4的顶盖5边缘。
[0023]如图2所示，密闭机构2包括下撑杆21、上撑杆22、下固定片23、上调节片24、导线25、支撑弹簧26、压力传感器27、电位器28以及电源29；下撑杆21的竖直向上固定于外釜体4的内侧底部，顶端沿轴向向内设有支撑槽30；上撑杆22的底端滑动配合于支撑槽30内，顶端连接于内釜体3的内部；下固定片23为硅钢片，贴合于支撑槽30的槽底；上调节片24为铁片，贴合于上撑杆22的底端；支撑弹簧26设置于支撑槽30内，两端分别与下固定片23以及上调节片24相连；导线25呈螺旋状均匀缠绕于下固定片23的表面，并连接电位器28以及电源29形成回路；导线25所在回路内还连接有开关31；开关31设置于外釜体4的表面；压力传感器27设置于内釜体3的底部与撑板6之间，并与电位器28配合相连。
[0024]密闭机构2的数量至少为4个，均布于内釜体3的底端与外釜体4之间，并且所有的密闭机构2共用同一个压力传感器27、电位器28、电源29以及开关31。
[0025]本技术在运行时，首先打开开关31，使得导线25所在回路处于通路状态。打开顶盖5，朝向内釜体3加入反应原料，在原料加入过程中，位于内釜体3底部与撑板6之间的压力传感器27所监测到的压力逐渐增大，通过电位器28调节，使得接入导线25所在回路内的电阻值逐渐增大，电流值逐渐减小，表面缠绕有通电导线25的下固定片23在电生磁原理下，对上调节片24产生吸附力，将下撑杆21沿支撑槽30向内吸引。当电流值减小时，该吸附力也随之减小，上撑杆22在支撑弹簧26的作用下向上撑起，带动内釜体3沿外釜体44向上移动，使得四氟乙烯内衬1抵触于顶盖5边缘，保持整体密封，有效防止氟化氢游离出来，腐蚀装
置。
[0026]需要说明的是，以上内容仅仅说明了本技术的技术思想，不能以此限定本技术的保护范围，对于本
的普通技术人员来说，在不脱离本技术原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰均落入本技术权利要求书的保护范围之内。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于氟哌啶衍生物合成的四氟乙烯内衬反应装置，其特征在于：包括反应釜体、四氟乙烯内衬（1）以及密闭机构（2）；所述反应釜体包括内外相套设的内釜体（3）与外釜体（4）；所述四氟乙烯内衬（1）贴合于内釜体（3）的内侧；所述密闭机构（2）设置于外釜体（4）的内侧底部，且能够将内釜体（3）向上顶起，抵触于外釜体（4）的顶盖（5）边缘。2.根据权利要求1所述的一种用于氟哌啶衍生物合成的四氟乙烯内衬反应装置，其特征在于：所述密闭机构（2）包括下撑杆（21）、上撑杆（22）、下固定片（23）、上调节片（24）、导线（25）、支撑弹簧（26）、压力传感器（27）、电位器（28）以及电源（29）；所述下撑杆（21）的竖直向上固定于外釜体（4）的内侧底部，顶端沿轴向向内设有支撑槽（30）；所述上撑杆（22）的底端滑动配合于支撑槽（30）内，顶端连接于内釜体（3）的内部；所述下固定片（23）为硅钢片，贴合于支撑槽（30）的槽底；所述上调节片（24）为铁片，贴合于上撑杆（22）的底端；所述支撑弹簧（26）设置于支撑槽（30）内，两端分别与下固定片（23）以及上调节片（24）相...
【专利技术属性】
技术研发人员：赵小林，汪金柱，赵兵，艾杨保，崔家乙，
申请(专利权)人：南京诺希生物科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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