掩模版组件及其制造方法技术

本申请实施例提供了一种掩模版组件及其制造方法。该掩模版组件，包括：框架、以及依次堆叠于框架上的第一掩膜件和第二掩膜件，沿第一方向，第一掩膜件的两端和第二掩膜件的两端分别固定于框架上，沿掩膜版组件的厚度的第二方向，第二掩膜件的侧边区域在第一掩膜件上存在正投影区域，其中，第一方向和所述第二方向相互垂直，从而第一掩膜件可以用于在蒸镀过程中受磁场作用朝靠近第二掩膜件的方向形变、以支撑抵接第二掩膜件的侧边区域。本申请实施例解决了现有技术存在的由于蒸镀工艺引起的边缘混色问题。缘混色问题。缘混色问题。

【技术实现步骤摘要】
掩模版组件及其制造方法


[0001]本申请涉及显示
，具体而言，本申请涉及一种掩模版组件及其制造方法。

技术介绍

[0002]掩模版组件是蒸镀工艺段必需的核心部件，蒸镀时必须使用掩模版(例如，精密金属掩膜版)才能将不同的发光材料蒸镀在玻璃基板上特定的位置上，从而制作出显示面板。蒸镀过程中被加热蒸发成气体的有机物蒸镀到基板上时，会发生有机物图案相互重叠的区间，即Shadow，Shadow会受蒸镀工艺的影响而增大，严重时Shadow会覆盖到相邻子像素上，从而导致子像素显色异常，这种不良被称为混色。

技术实现思路

[0003]本申请针对现有方式的缺点，提出一种掩模版组件及其制造方法，用以解决现有技术存在的由于蒸镀工艺引起的边缘混色问题。
[0004]第一个方面，本申请实施例提供了一种掩模版组件，包括：框架、以及依次堆叠于所述框架上的第一掩膜件和第二掩膜件，所述第二掩膜件包括构成用于蒸镀发光结构的图形区；所述第一掩膜件和所述第二掩膜件均为长条状且均沿第一方向延伸，沿所述第一方向，所述第一掩膜件的两端和所述第二掩膜件的两端分别固定于所述框架上；沿所述掩膜版组件的厚度的第二方向，所述第二掩膜件的侧边区域在所述第一掩膜件上存在正投影区域，所述第一掩膜件用于在蒸镀过程中受磁场作用朝靠近所述第二掩膜件的方向形变、以支撑抵接所述第二掩膜件的侧边区域；所述第一方向和所述第二方向相互垂直。
[0005]第二个方面，本申请实施例提供了一种模版组件的制造方法，包括：定位并拉伸支撑层，并将所述支撑层的第一连接部固定于所述框架上；定位并拉伸第一掩膜件，使得所述第一掩膜件的中间部位于所述支撑层的主体区的支持结构的容纳槽内，并使得所述第一掩膜件的第二连接部位于所述框架的第一连接槽内，将所述第二连接部固定于所述第一连接槽内；定位并拉伸第二掩膜件，使得沿所述掩膜版组件的厚度的所述第二方向，所述第二掩膜件的侧边区域在所述第一掩膜件上存在正投影区域，将所述第二掩膜件的两端固定于所述框架上，得到所述掩模版组件。
[0006]本申请实施例提供的技术方案带来的有益技术效果包括：通过在第二掩膜件和框架之间增设第一掩膜件，并且沿掩膜版组件的厚度的第二方向，第二掩膜件的侧边区域在第一掩膜件上存在正投影区域，使得在蒸镀过程中，第一掩膜件受磁场作用朝靠近第二掩膜件的方向形变、以支撑抵接第二掩膜件的侧边区域，从而能够起到对第二掩膜件的侧边区域的固定作用，能够避免第二掩膜件的侧边区域向中间隆起形成褶皱，能够提高在蒸镀过程中第二掩膜件与玻璃基板的贴合状况，能够减小被加热蒸发成气体的发光材料蒸镀到玻璃基板上时形成的发光图案相互重叠的几率，能够改善显示面板的边缘混色问题。
[0007]本申请附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，这些将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。
附图说明
[0008]本申请上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
[0009]图1为本申请实施例提供的一种掩模版组件的结构示意图；
[0010]图2为本申请实施例提供的一种框架的结构示意图；
[0011]图3为图2中A处的局部放大图；
[0012]图4为本申请实施例提供的一种支撑层的结构示意图；
[0013]图5为图4中B处的局部放大图；
[0014]图6为本申请实施例提供的一种第一掩膜件的结构示意图；
[0015]图7为本申请实施例提供的一种第二掩膜件的结构示意图；
[0016]图8为图1所示掩模版组件的焊接区沿第三方向的截面图；
[0017]图9为图1所示掩模版组件的容纳槽所在位置的截面图；
[0018]图10为本申请实施例提供的另一种掩模版组件的结构示意图；
[0019]图11为本申请实施例提供的另一种框架的结构示意图；
[0020]图12为本申请实施例提供的另一种支撑层的结构示意图；
[0021]图13为图12中C处的局部放大图；
[0022]图14为本申请实施例提供的一种掩模版组件的制造方法的流程图。
[0023]附图标记说明：
[0024]X
‑
第一方向；Z
‑
第二方向；Y
‑
第三方向；
[0025]11
‑
框架；111
‑
框体结构；112
‑
凸台结构；112a
‑
第一区域；
[0026]12
‑
第一掩膜件；121
‑
中间部；122
‑
第二连接部；
[0027]13
‑
第二掩膜件；131
‑
图形区；132
‑
侧边区域；133
‑
第三连接部；
[0028]14
‑
支撑层；141
‑
主体区；1411
‑
支撑结构；1411a
‑
第一支撑条；1411b
‑
第二支撑条；1412
‑
镂空区域；1413
‑
开口；142
‑
第一连接部；
[0029]20
‑
第一连接槽；30
‑
第二连接槽；40
‑
容纳槽；
[0030]h
‑
第一连接槽20的槽深；H
‑
第二连接槽30的槽深。
具体实施方式
[0031]下面结合本申请中的附图描述本申请的实施例。应理解，下面结合附图所阐述的实施方式，是用于解释本申请实施例的技术方案的示例性描述，对本申请实施例的技术方案不构成限制。
[0032]本
技术人员可以理解，除非特意声明，这里使用的单数形式“一”、“一个”、“所述”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是，本申请的说明书中使用的措辞“包括”是指存在所述特征、整数、步骤、操作、元件和/或组件，但不排除实现为本
所支持其他特征、信息、数据、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组合等。这里使用的术语“和/或”指该术语所限定的项目中的至少一个，例如“A和/或B”可以实现为“A”，或者实现为“B”，或者实现为“A和B”。
[0033]为使本申请的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本申请实施方式作进一步地详细描述。
[0034]本申请的专利技术人进行研究发现，蒸镀工艺中对Shadow影响最大因素的就是掩膜版(例如，精密金属掩膜版，即FMM，Fine Metal Mask)与玻璃基板之间的贴合间隙。为了减小精密金属掩膜版与玻璃基板之间的贴合间隙，高精度的蒸镀设备均配备有磁板，磁板位于玻璃基板的背面，蒸镀时玻璃基板正面与精密金属掩膜版直接接触，在玻璃基板背部的磁板的磁力作用下使精密金属掩膜版与玻璃基板紧密贴合，从而达到减小精密掩模与玻璃基本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩模版组件，其特征在于，包括：框架、以及依次堆叠于所述框架上的第一掩膜件和第二掩膜件，所述第二掩膜件包括构成用于蒸镀发光结构的图形区；所述第一掩膜件和所述第二掩膜件均为长条状且均沿第一方向延伸，沿所述第一方向，所述第一掩膜件的两端和所述第二掩膜件的两端分别固定于所述框架上；沿所述掩膜版组件的厚度的第二方向，所述第二掩膜件的侧边区域在所述第一掩膜件上存在正投影区域，所述第一掩膜件用于在蒸镀过程中受磁场作用朝靠近所述第二掩膜件的方向形变、以支撑抵接所述第二掩膜件的侧边区域；所述第一方向和所述第二方向相互垂直。2.根据权利要求1所述的掩模版组件，其特征在于，所述第一掩膜件和所述第二掩膜件的数量均为多个，多个所述第一掩膜件和多个所述第二掩膜件沿所述第三方向交错排列，所述第三方向与所述第一方向、所述第二方向均垂直；沿所述第二方向，所述第二掩膜件的两个侧边区域分别在相邻的两个所述第一掩膜件上存在正投影区域。3.根据权利要求1所述的掩模版组件，其特征在于，还包括支撑层，所述支撑层包括主体区、以及设置于所述主体区周侧的多个第一连接部；所述第一连接部固定于所述框架上；所述主体区包括支撑结构和多个镂空区域，所述镂空区域与所述第二掩膜件的图形区相匹配；所述支撑结构上设置有容纳槽，所述框架上设置有第一连接槽，所述第一掩膜件包括中间部、以及位于所述中间部两端的第二连接部，所述中间部位于所述容纳槽内，所述第二连接部固定于所述第一连接槽内。4.根据权利要求3所述的掩模版组件，其特征在于，所述容纳槽的槽深不小于所述中间部的厚度。5.根据权利要求4所述的掩模版组件，其特征在于，所述容纳槽的槽深比所述中间部的厚度大0.001毫米至0.05毫米。6.根据权利要求3所述的掩模版组件，其特征在于，所述支撑结构包括沿第一方向延伸的第一支撑条、以及沿第三方向延伸并连接相邻的第一支撑条的第二支撑条，所述容纳槽开设于所述第一支撑条上；沿所述第二方向，所述第二掩膜件的侧边区域在所述第一支撑条上存在正投...

【专利技术属性】
技术研发人员：王魁，
申请(专利权)人：成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：