一种显示基板及其制造方法、显示装置制造方法及图纸

本公开提供一种显示基板及其制造方法、显示装置，该显示基板包括：衬底基板；设置于衬底基板上的驱动电路层和像素界定层，驱动电路层位于像素界定层和衬底基板之间，像素界定层限定出多个间隔设置的像素开口；多个发光元件，每个发光元件至少部分设置于对应的像素开口中；隔离柱，隔离柱位于相邻的像素开口之间，且位于像素界定层的远离衬底基板的一侧；薄膜封装层，设置于发光元件的远离衬底基板的一侧，以封装发光元件；其中，像素界定层包括基底膜层、及随形覆盖在基底膜层的远离衬底基板的一侧的降反膜层。本公开提供一种显示基板及其制造方法、显示装置可提高显示产品品质。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示，尤其涉及一种显示基板及其制造方法、显示装置。

技术介绍

1、有机发光二极管显示装置(organic light emitting diode,简称oled)作为一种新型的平板显示逐渐受到更多的关注。oled为主动发光元件，具有亮度高、色彩饱和、超薄、广视角、较低耗电、极高反应速度和可弯曲等优点，能够较好地满足用户个性化的需求。随着显示技术的不断发展，以oled为发光元件、由薄膜晶体管(thin film transistor,简称tft)进行信号控制的显示装置已成为目前显示领域的主流产品。

技术实现思路

1、本公开实施例提供了一种显示基板及其制造方法、显示装置，能够提升产品品质。

2、本公开实施例所提供的技术方案如下：

3、第一方面，本公开实施例提供了一种显示基板，其包括：

4、衬底基板；

5、设置于所述衬底基板上的驱动电路层和像素界定层，所述驱动电路层位于所述像素界定层和所述衬底基板之间，所述像素界定层限定出多个间隔设置的像素开口；

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【技术保护点】

1.一种显示基板，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述基底膜层选用吸水率低于阈值的有机绝缘材料或无机绝缘材料制成。

3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述降反膜层的反射率大于或等于50％。

4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述降反膜层包括金属降反膜层。

5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述金属降反膜层的材料选用氮化钛、钼中至少一种。

6.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述基底膜层的邻近所述像素开口的一侧呈具有第一坡度角α的斜坡状，所述降反膜层在...

【技术特征摘要】

1.一种显示基板，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述基底膜层选用吸水率低于阈值的有机绝缘材料或无机绝缘材料制成。

3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述降反膜层的反射率大于或等于50％。

4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述降反膜层包括金属降反膜层。

5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述金属降反膜层的材料选用氮化钛、钼中至少一种。

6.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述基底膜层的邻近所述像素开口的一侧呈具有第一坡度角α的斜坡状，所述降反膜层在邻近所述像素开口的一侧呈具有第二坡度角β的斜坡状，其中所述第一坡度角α的取值范...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑克宁，王佳宇，王登宇，潘雪楠，李浪涛，吴桐，
申请(专利权)人：成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：