一种光学检测系统配置以检测具有第一线偏振片及四分之一波片的待测组件。光学检测系统包括：光源、偏光调整组件以及检测单元。光源具有出光面且配置以发射光线。偏光调整组件朝向光源的出光面。偏光调整组件配置以将光线转换为线性偏振光。第一线偏振片位于偏光调整组件与四分之一波片之间。待测组件配置以将线性偏振光转换为圆偏振光。检测单元位于待测组件背对偏光调整组件的一侧。检测单元配置以根据圆偏振光计算待测组件的第一线偏振片的吸收轴与待测组件的四分之一波片的快轴之间的相差角度。光学检测系统不需输入待测组件的材料相关参数，可节省光学检测系统进行检测的时间并降低整体操作复杂度。并降低整体操作复杂度。并降低整体操作复杂度。
【技术实现步骤摘要】
光学检测系统及其操作方法
[0001]本揭露系关于一种光学检测系统以及一种光学检测系统的操作方法。
技术介绍
[0002]一般而言，虚拟现实(Virtual reality，VR)产品中的光学组件主要以线偏光片以及四分之一波片组成，并通过检测设备判断线偏光片的线偏振方向性与四分之一波片的圆偏振方向性是否产生偏移。然而，现有的检测设备其检测过程需要输入四分之一波片以及线偏光片的材料相关参数，例如厚度、折射率以及消光系数等，增加了整体作业时间以及操作复杂度。
技术实现思路
[0003]本揭露的一技术态样为一种光学检测系统。
[0004]根据本揭露一实施方式，一种光学检测系统配置以检测具有第一线偏振片及四分之一波片的待测组件。光学检测系统包括：光源、偏光调整组件以及检测单元。光源具有出光面且配置以发射光线。偏光调整组件朝向光源的出光面。偏光调整组件配置以将光线转换为线性偏振光。第一线偏振片位于偏光调整组件与四分之一波片之间。待测组件配置以将线性偏振光转换为圆偏振光。检测单元位于待测组件背对偏光调整组件的一侧。检测单元配置以根据圆偏振光计算待测组件的第一线偏振片的吸收轴与待测组件的四分之一波片的快轴之间的相差角度。
[0005]在本揭露一实施方式中，上述偏光调整组件包括消偏器。消偏器位于光源与待测组件的第一线偏振片之间。消偏器配置以将光线转换为非偏振光。
[0006]在本揭露一实施方式中，上述偏光调整组件更包括第二线偏振片。第二线偏振片位于消偏器与待测组件的第一线偏振片之间。第二线偏振片配置以将非偏振光转换为线性偏振光。
[0007]在本揭露一实施方式中，上述光学检测系统更包括缩束镜。缩束镜位于待测组件与检测单元之间。
[0008]在本揭露一实施方式中，上述四分之一波片的中心波长相同于光线的波长。
[0009]在本揭露一实施方式中，上述光源为雷射光源。
[0010]本揭露的一技术态样为一种光学检测系统的操作方法。
[0011]根据本揭露一实施方式，一种光学检测系统的操作方法包括：通过光源发射光线至偏光调整组件；通过偏光调整组件将光线转换为线性偏振光并发射至待测组件，其中待测组件具有第一线偏振片以及四分之一波片，第一线偏振片位于偏光调整组件与四分之一波片之间；通过待测组件将线性偏振光转换为圆偏振光并发射至检测单元；以及根据圆偏振光计算待测组件的第一线偏振片的吸收轴与待测组件的四分之一波片的快轴之间的相差角度。
[0012]在本揭露一实施方式中，上述根据圆偏振光计算相差角度更包括：旋转待测组件
以获得待测组件的光强度与旋光强度；以及根据光强度与旋光强度计算待测组件的最大椭圆偏振率。
[0013]在本揭露一实施方式中，上述通过偏光调整组件将光线转换为线性偏振光并发射至待测组件更包括：通过偏光调整组件的消偏器将光线转换为非偏振光并发射至偏光调整组件的第二线偏振片；以及通过偏光调整组件的第二线偏振片将偏振光转换为线性偏振光并发射至待测组件。
[0014]在本揭露一实施方式中，上述根据圆偏振光计算相差角度更包括：旋转第二线偏振片以获得待测组件的光强度与旋光强度；以及根据光强度与旋光强度计算待测组件的最大椭圆偏振率。
[0015]在本揭露一实施方式中，上述通过待测组件将线性偏振光转换为圆偏振光并发射至检测单元更包括：通过缩束镜将经过待测组件的圆偏振光的光斑直径缩小至0.1毫米与5毫米之间并发射至检测单元。
[0016]在本揭露上述实施方式中，光学检测系统的检测单元可根据通过待测组件的圆偏振光计算待测组件的第一线偏振片的吸收轴与待测组件的四分之一波片的快轴之间的相差角度。当相差角度趋近于0时，光学检测系统可判定待测组件的第一线偏振片的吸收轴(亦即线偏振方向)以及四分之一波片的快轴(亦即圆偏振方向)并无产生偏移，可确保每一经由光学检测系统检测的待测组件皆具有相同质量表现。此外，光学检测系统的检测单元在检测待测组件时，并不需要输入待测组件的材料相关参数(例如厚度、折射率以及消光系数)，可节省光学检测系统进行检测的时间并降低整体操作复杂度。
附图说明
[0017]当结合随附诸图阅读时，得自以下详细描述最佳地理解本揭露的一实施方式。应强调，根据工业上的标准实务，各种特征并未按比例绘制且仅用于说明目的。事实上，为了论述清楚，可任意地增大或减小各种特征的尺寸。
[0018]图1绘示根据本揭露一实施方式的光学检测系统运作时的示意图。
[0019]图2绘示根据本揭露一实施方式的光学检测系统的操作方法的流程图。
[0020]图3绘示根据本揭露一实施方式的快轴与吸收轴的关系图。
[0021]图4A至图7绘示根据本揭露不同实施方式的相差角度与椭圆偏振率的关系图。
[0022]图8A绘示根据本揭露一实施方式的角度与光强度的关系图。
[0023]图8B绘示根据本揭露一实施方式的角度与椭圆偏振率的关系图。
[0024]图9绘示根据本揭露另一实施方式的光学检测系统运作时的示意图。
[0025]附图标记：100:光学检测系统
[0026]100a:光学检测系统
[0027]110:光源
[0028]112:出光面
[0029]120:偏光调整组件
[0030]122:消偏器
[0031]124:第二线偏振片
[0032]130:检测单元
[0033]132:收光面
[0034]140:缩束镜
[0035]200:待测组件
[0036]210:第一线偏振片
[0037]220:四分之一波片
[0038]230:基板
[0039]410:量测线段
[0040]420:实验线段
[0041]510:量测线段
[0042]520:实验线段
[0043]610:实验线段
[0044]620:实验线段
[0045]710:理想线段
[0046]720:量测线段
[0047]730:量测线段
[0048]810:量测线段
[0049]820:量测线段
[0050]a:角度
[0051]b:角度
[0052]L:光线
[0053]P1:非偏振光
[0054]P2:线性偏振光
[0055]P3:圆偏振光
[0056]S1:步骤
[0057]S2:步骤
[0058]S3:步骤
[0059]S4:步骤。
具体实施方式
[0060]以下揭示的实施方式内容提供了用于实施所提供的目标的不同特征的许多不同实施方式，或实例。下文描述了组件和布置的特定实例以简化本案。当然，该等实例仅为实例且并不意欲作为限制。此外，本案可在各个实例中重复组件符号及/或字母。此重复系用于简便和清晰的目的，且其本身不指定所论述的各个实施方式及/或配置之间的关系。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种光学检测系统，配置以检测具有第一线偏振片及四分之一波片的待测组件，其特征在于，该光学检测系统包含：光源，具有出光面且配置以发射光线；偏光调整组件，朝向该光源的该出光面，且配置以将该光线转换为线性偏振光，其中该第一线偏振片位于该偏光调整组件与该四分之一波片之间，该待测组件配置以将该线性偏振光转换为圆偏振光；以及检测单元，位于该待测组件背对该偏光调整组件的一侧，且配置以根据该圆偏振光计算该待测组件的该第一线偏振片的吸收轴与该待测组件的该四分之一波片的快轴之间的相差角度。2.如权利要求1所述的光学检测系统，其中该偏光调整组件包含：消偏器，位于该光源与该待测组件的该第一线偏振片之间，且配置以将该光线转换为非偏振光。3.如权利要求2所述的光学检测系统，其中该偏光调整组件更包含：第二线偏振片，位于该消偏器与该待测组件的该第一线偏振片之间，且配置以将该非偏振光转换为该线性偏振光。4.如权利要求1所述的光学检测系统，更包含：缩束镜，位于该待测组件与该检测单元之间。5.如权利要求1所述的光学检测系统，其中该四分之一波片的中心波长相同于该光线的波长。6.如权利要求1所述的光学检测系统，其中该光源为雷射光源。7.一种光学检测系统的操作方法，其特征在于，包含：通过光源发射光线至偏光调整组件；通过该偏光调整组件将该光线转换为线性偏振光并发射至待测组件...
【专利技术属性】
技术研发人员：施宏欣，叶肇懿，周蒋云，梁哲源，
申请(专利权)人：业成光电深圳有限公司业成光电无锡有限公司英特盛科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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