电子束偏转装置及镀膜设备制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种电子束偏转装置及镀膜设备，电子束偏转装置包括偏转组件，偏转组件包括线圈与偏转驱动件，电子束穿过线圈并在磁场作用下偏转，偏转驱动件与线圈连接，并在至少一个方向上驱动线圈摆动；镀膜设备包括上述的电子束偏转装置。本实用新型专利技术中，通过偏转驱动件驱动线圈摆动，使线圈产生的磁场方向发生变化，以改变电子束及等离子体的方向，扩大电子束在靶材表面分布范围，从而提升膜厚及方阻的均匀度，使靶材表面的不同区域受到均匀轰击，提高镀膜设备的上线时间。提高镀膜设备的上线时间。提高镀膜设备的上线时间。

【技术实现步骤摘要】
电子束偏转装置及镀膜设备


[0001]本技术涉及等离子体沉积镀膜
，尤其涉及一种电子束偏转装置及镀膜设备。

技术介绍

[0002]等离子体沉积是通过等离子体发生器发出电子束，经过磁场偏转后轰击靶材，激发靶材上的镀膜材料，沉积至待镀基板上，在镀膜基板上形成薄膜。相关技术中，通过线圈产生的磁场控制电子束偏转，磁场方向固定，等离子体的分布受限，影响膜层的膜厚及方阻的均匀度，并且由于电子束只能定点轰击靶材表面，造成靶材表面形状不均，降低了镀膜的均匀度及镀膜设备上线时间。

技术实现思路

[0003]本技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本技术提出一种电子束偏转装置，能够扩大等离子体的分布范围，提升膜厚及方阻的均匀度，提高镀膜设备上线时间。
[0004]本技术还提出一种具有上述电子束偏转装置的镀膜设备。
[0005]根据本技术的第一方面实施例的电子束偏转装置，用于使等离子体发生器发出的电子束射入镀膜室内并偏转，包括：
[0006]偏转组件，位于所述等离子体发生器与所述镀膜室之间，所述偏转组件包括线圈本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.电子束偏转装置，用于使等离子体发生器发出的电子束射入镀膜室内并偏转，其特征在于，包括：偏转组件，位于所述等离子体发生器与所述镀膜室之间，所述偏转组件包括线圈与偏转驱动件，所述线圈用于产生磁场，所述电子束穿过所述线圈并在所述磁场作用下偏转，所述偏转驱动件与所述线圈连接，并在至少一个方向上驱动所述线圈摆动。2.根据权利要求1所述的电子束偏转装置，其特征在于，还包括偏转调整模块，所述偏转调整模块与所述偏转驱动件通讯连接，并向所述偏转驱动件发送偏转指令。3.根据权利要求1或2所述的电子束偏转装置，其特征在于，所述偏转驱动件包括第一驱动件与第二驱动件，所述第一驱动件与所述第二驱动件均与所述线圈连接，所述第一驱动件用于驱动所述线圈绕第一方向摆动，所述第二驱动件用于驱动所述线圈绕第二方向摆动，所述第一方向与所述第二方向垂直。4.根据权利要求3所述的电子束偏转装置，其特征在于，所述偏转组件包括第一安装架与第二安装架，所述线圈架设于所述第一安装架，并与所述第一安装架转动连接，所述第一驱动件连接于所述第一安装架，并驱动所述线圈绕第一方向摆动，所述第一安装架转动连接于所述第二安装架，所述第二驱动件连接于所述第二安装架，并用于驱动所述第一安装架绕所述第二方向摆动。5.根据权利要求4所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：张勇，卢贤正，
申请(专利权)人：深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司，
类型：新型
国别省市：