一种图案成型方法技术

本发明专利技术提供一种图案成型方法，包括：提供第一基底，第一基底的相对两侧设有第一材料和第二材料；在第一材料上形成第一图案；第二材料是感光材料，根据第一图案在第二材料上形成第二图案，第二图案与第一图案相同或互补。本发明专利技术的方案通过直接利用产品中的第一图案作为光罩，加工形成第二图案，无需对位，实现提升图案间相对精度、降低后续工艺的作业难度、提升良率的技术效果。升良率的技术效果。升良率的技术效果。

【技术实现步骤摘要】
一种图案成型方法


[0001]本专利技术属于显示
，具体涉及一种图案成型方法。

技术介绍

[0002]常规的图案成型方案有印刷、黄光蚀刻、镭射等；当材料表面或正反面需要同时加工图案时，一般采用肉眼对位、CCD(Charge Coupled Device，电荷耦合器件)特征抓靶、打孔套位等方式。然而这些方式存在一些问题：由于图案成型加工偏差、材料涨缩尺寸、对位精度偏差等因素，且图案层数越多公差累积约严重，高精度贴合难度大。

技术实现思路

[0003]有鉴于此，本专利技术提供了一种图案成型方法，直接利用产品中的第一图案作为光罩，加工形成第二图案。无需对位，减少因对位产生的偏位问题，提高图案间的相对精度。
[0004]提供一种图案成型方法，包括：
[0005]提供第一基底，所述第一基底的相对两侧设有第一材料和第二材料；
[0006]在所述第一材料上形成第一图案；
[0007]所述第二材料是感光材料，根据所述第一图案在所述第二材料上形成第二图案，所述第二图案与所述第一图案相同或互补。
[00本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种图案成型方法，其特征在于，包括：提供第一基底，所述第一基底的相对两侧设有第一材料和第二材料；在所述第一材料上形成第一图案；所述第二材料是感光材料，根据所述第一图案在所述第二材料上形成第二图案，所述第二图案与所述第一图案相同或互补。2.如权利要求1所述的图案成型方法，其特征在于，根据所述第一图案在所述第二材料上形成第二图案，包括：利用光线照射所述第一图案，所述光线依次穿过所述第一图案和所述第一基底照射到所述第二材料上，使得所述第二材料上的光照区的性质发生变化，清除所述光照区或非光照区，从而形成所述第二图案。3.如权利要求2所述的图案成型方法，其特征在于，所述第二材料采用正向感光材料，清除所述正向感光材料的所述光照区形成的所述第二图案与所述第一图案在所述第一基底上的投影重叠。4.如权利要求2所述的图案成型方法，其特征在于，所述第二材料采用负向感光材料，清除所述负向感光材料的所述非光照区形成的所述第二图案与所述第一图案在所述第一基底上的投影互补。5.如权利要求1－4任一项所述的图案成型方法，其特征在于，所述第一材料采用第一透明材料，所述第一透明材料...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄嘉伟，胡康军，
申请(专利权)人：深圳市柔宇科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：