【技术实现步骤摘要】
一种高耐磨性的全抛釉料
[0001]本专利技术涉及一种高耐磨性的全抛釉料,属于建筑陶瓷领域,特别适合于家庭及公众场合的耐磨抛釉砖。
技术介绍
[0002]目前,全抛釉地砖由于具有生产工艺简单,色彩丰富,釉面平整明亮的特点而成为地砖行业的主流,然而和抛光砖比较其最大的缺点是耐磨性较差,所以在一些公众场合全抛釉地砖的应用受到限制。
技术实现思路
[0003]本专利技术为改进现有技术的不足而提供一种高耐磨性的全抛釉料,其方案如下:一种高耐磨性的全抛釉料,其釉料配方中氧化硅单质和氧化铝单质质量分数之和大于等于25%;釉料配方中包含质量分数为5
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25%的莫来石或煅烧高岭土;釉料配方中包括碱土金属氧化物含量大于25%的熔块,该熔块在配方中的质量分数为20
‑
45%,该熔块成份以氧化物质量分数计包括:SiO
2 35
‑
55%、Al2O
3 5
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20%、R2O(碱金属氧化物) 0
‑
15%、RO(碱土金属氧化物)
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种高耐磨全抛釉料,其特征在于釉料配方具有以下特征: (1).釉料配方中氧化硅单质和氧化铝单质质量分数之和大于等于25%;(2).釉料配方中包含质量分数5
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25%的莫来石或煅烧高岭土;(3).釉料配方中包括碱土金属氧化物含量大于25%的熔块,该熔块在配方中的质量分数为20
‑
45%,该熔块成份以氧化物质量分数计包括:SiO
2 35
‑
55%、Al2O
3 5
‑
20%、R2O(碱金属氧化物) 0
‑
15%、RO(碱土金属氧化物) 25
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50%、ZnO 0
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8%。2.根据权利要求1所述的高耐磨全抛釉料,其特征在于所述釉料配方中的氧化铝单质包括氧化铝的各种同质异构体和刚玉的各种同质异构体,氧化硅单质包括石英和氧化硅的各种同质异构体。3.根据权利要求1所述的高耐磨全抛釉料,其特征在于所述釉料配方中包含的莫来石是煅烧法或电熔法生产的莫来石。4.根据权利要求1所述的高耐磨全抛釉料,其特征在于所述釉料配方中包含的氧化硅、氧化铝、莫来石、煅...
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