一种使成型硅胶表面手感润滑的微纳纹理面板制造技术

技术编号:34653063 阅读:64 留言:0更新日期:2022-08-24 15:40
本实用新型专利技术公开了一种使成型硅胶表面手感润滑的微纳纹理面板,包括面板本体,以及阵列设置在面板本体表面的大凹槽;大凹槽的内壁阵列设置有小凹槽。本实用新型专利技术使用激光雕刻技术把微纳米结构直接雕刻在纹理面板表面,从而在钢模表面加工出小单元柱状排列结构的大凹槽及小凹槽,成型转印后在硅胶表面形成柱状凸起排列,由于硅胶收缩,柱状凸起的顶端形成柱状凸球表面,从而导致手感润滑;且柱状凸起形成一层隔离层使外界物体与硅胶表面由面接触转为点接触,从而减少摩擦阻力且不易沾染污染物而保持自清洁功能。物而保持自清洁功能。物而保持自清洁功能。

【技术实现步骤摘要】
一种使成型硅胶表面手感润滑的微纳纹理面板


[0001]本技术涉及汽车、电子等行业的模具面板,特别涉及一种使成型硅胶表面手感润滑的微纳纹理面板。

技术介绍

[0002]硅胶产品一直有个致命的缺陷:粘手、容易沾灰尘、容易形成指纹印等一系列的外观瑕疵,这是由于硅胶材料本身导致的缺陷,如何通过后处理工艺来解决硅胶发粘的问题,那就是在硅胶表面形成一层保护层来隔决发粘层,为此,开发出一种使成型硅胶表面手感润滑的微纳纹理面板。

技术实现思路

[0003]为解决上述技术问题,本技术提供了一种使成型硅胶表面手感润滑的微纳纹理面板,包括不锈钢材质的面板本体,以及阵列设置在所述面板本体表面的大凹槽;所述大凹槽的内壁阵列设置有小凹槽;
[0004]所述大凹槽呈深度为5

20μm、半径为5

20μm的柱状结构,且阵列的所述大凹槽之间的间距为5

20μm;
[0005]所述小凹槽呈深度为0.5

2μm、半径为0.5

2μm的柱状结构,且阵列的所述本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种使成型硅胶表面手感润滑的微纳纹理面板,其特征在于,包括不锈钢材质的面板本体(10),以及阵列设置在所述面板本体(10)表面的大凹槽(11);所述大凹槽(11)的内壁阵列设置有小凹槽(111);所述大凹槽(11)呈深度为5

20μm、半径为5

20μm的柱状结构,且阵列的所述大凹槽(11)之间的间距为5

20μm;所述小凹槽(111)呈深度为0.5

2μm、半径为0.5

2μm的柱状结构,且阵列的所述小凹槽(111)之间的间距为0.5

2μ...

【专利技术属性】
技术研发人员:简伟平
申请(专利权)人:苏州天至尊科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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