本实用新型专利技术涉及碳化硅晶片技术领域，具体为一种使用方便的碳化硅晶片清洗装置，包括底座、固定安装在底座顶部的顶架和多个分别开设在顶架顶部两侧的限位孔，还包括移位机构、拿取机构、冲洗机构和风干机构，所述移位机构设置在顶架顶部，所述移位机构包括开设在顶架一侧的安装槽、两个分别固定安装在安装槽内壁两侧的丝杆滑台，本实用新型专利技术通过设置有移位机构和风干机构，将连接板通过固定块固定安装在顶架一侧，再将烘干机固定安装在连接板顶部，当清洗筐内部的晶片清洗完成后，打开丝杆滑台使丝杆滑台的滑动块带动清洗筐进行移动，使清洗筐移动至出风管下方，再打开烘干机使烘干机的风通过出风管吹出，同时晶片表面的水渍滴落至集水箱内部。集水箱内部。集水箱内部。
【技术实现步骤摘要】
一种使用方便的碳化硅晶片清洗装置
[0001]本技术涉及碳化硅晶片
，特别是涉及一种使用方便的碳化硅晶片清洗装置。
技术介绍
[0002]碳化硅晶片的主要应用领域有LED固体照明和高频率器件。该材料具有高出传统硅数倍的禁带、漂移速度、击穿电压、热导率、耐高温等优良特性，在高温、高压、高频、大功率、光电、抗辐射、微波性等电子应用领域和航天、军工、核能等极端环境应用有着不可替代的优势，碳化硅晶片在加工完成后需要对其进行清洗，去除表面的化学制剂，以便于后续的使用。
[0003]目前使用的清洗装置在使用时通常无法更加便捷的快速的对碳化硅晶片的位置进行调节，在清洗完成后无法快速的将晶片表面的水分进行烘干，需要人工进行转移，使用不够方便。
[0004]因此，现在亟需设计一种能解决上述一个或者多个问题的一种使用方便的碳化硅晶片清洗装置。
技术实现思路
[0005]为解决现有技术中存在的一个或者多个问题，本技术提供了一种使用方便的碳化硅晶片清洗装置。
[0006]本技术为达到上述目的所采用的技术方案是：一种使用方便的碳化硅晶片清洗装置，包括底座、固定安装在底座顶部的顶架和多个分别开设在顶架顶部两侧的限位孔，还包括移位机构、拿取机构、冲洗机构和风干机构，所述移位机构设置在顶架顶部，所述移位机构包括开设在顶架一侧的安装槽、两个分别固定安装在安装槽内壁两侧的丝杆滑台、两个分别固定安装在两个丝杆滑台的滑动块一侧的支撑板和固定安装在两个支撑板底部的清洗筐，所述清洗筐内部固定安装有分离机构，所述拿取机构设置在清洗筐一侧，所述冲洗机构固定安装在顶架顶部，所述风干机构固定安装在顶架一侧。
[0007]优选的，所述分离机构包括多个分别固定安装在清洗筐内壁两侧的支撑块、多个分别开设在多个支撑块一侧的凹槽和多个分别配合安装在多个凹槽内侧的隔板。
[0008]优选的，所述分离机构还包括多个分别固定安装在多个隔板两侧的防护垫。
[0009]优选的，所述拿取机构包括活动门、两个分别固定安装在清洗筐外壁一侧的销轴，所述活动门固定安装在两个销轴一侧。
[0010]优选的，所述冲洗机构包括水箱、安装板、多个分别固定安装在水箱底部两侧的限位杆、三个分别固定连接在水箱底部的连接管、三个分别固定安装在安装板顶部的连接块和三个分别固定安装在三个连接块底部的喷嘴，所述水箱活动安装在顶架顶部，所述安装板固定安装在顶架底部。
[0011]优选的，所述风干机构包括支撑板、烘干机、出风管、集水箱和两个分别固定安装
在顶架外壁两侧的固定块，所述连接板固定安装在两个固定块一侧，所述烘干机固定安装在连接板顶部，所述出风管固定安装在烘干机底部，所述集水箱固定安装在底座一侧。
[0012]本技术的有益效果是：
[0013]其一：本技术通过设置有移位机构和风干机构，将连接板通过固定块固定安装在顶架一侧，再将烘干机固定安装在连接板顶部，当清洗筐内部的晶片清洗完成后，打开丝杆滑台使丝杆滑台的滑动块带动清洗筐进行移动，使清洗筐移动至出风管下方，再打开烘干机使烘干机的风通过出风管吹出，同时晶片表面的水渍滴落至集水箱内部，进行后续的统一清理，安装槽、丝杆滑台、支撑板和清洗筐的设置，可以更加便捷快速的对晶片的位置进行移动，无需人工进行转移，即可更加便捷的对晶片进行后续操作，有效提升了装置的使用效率，同时固定块、连接板、烘干机、出风管和集水箱，可以更加快速便捷的将晶片表面的水渍进行清理，快速的将晶片进行烘干处理，同时晶片表面的水渍滴落至集水箱内部，更加快速的进行统一清理，大大提升了装置的使用效率。
附图说明
[0014]图1为本技术的立体结构示意图；
[0015]图2为本技术的冲洗机构结构示意图；
[0016]图3为本技术的分离机构结构示意图；
[0017]图4为本技术的图1中A处放大结构示意图。
[0018]附图标记说明：1、底座；2、顶架；3、移位机构；31、安装槽；32、丝杆滑台；33、支撑板；34、清洗筐；4、分离机构；41、支撑块；42、凹槽；43、隔板；44、防护垫；5、拿取机构；51、销轴；52、活动门；6、限位孔；7、冲洗机构；71、水箱；72、限位杆；73、连接管；74、安装板；75、连接块；76、喷嘴；8、风干机构；81、固定块；82、连接板；83、烘干机；84、出风管；85、集水箱。
具体实施方式
[0019]为使本技术的上述目的、特征和优点能够更加浅显易懂，下面结合附图对本技术的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本技术。但是本技术能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本技术内涵的情况下做类似改进，因此本技术不受下面公开的具体实施例的限制。
[0020]如图1至4所示，本技术提供了一种使用方便的碳化硅晶片清洗装置，包括底座1、固定安装在底座1顶部的顶架2和多个分别开设在顶架2顶部两侧的限位孔6，还包括移位机构3、拿取机构5、冲洗机构7和风干机构8，移位机构3设置在顶架2顶部，移位机构3包括开设在顶架2一侧的安装槽31、两个分别固定安装在安装槽31内壁两侧的丝杆滑台32、两个分别固定安装在两个丝杆滑台32的滑动块一侧的支撑板33和固定安装在两个支撑板33底部的清洗筐34，清洗筐34内部固定安装有分离机构4，拿取机构5设置在清洗筐34一侧，冲洗机构7固定安装在顶架2顶部，风干机构8固定安装在顶架2一侧。
[0021]上述具体实施方案：打开丝杆滑台32使丝杆滑台32的滑动块带动清洗筐34进行移动，使清洗筐34移动至出风管84下方，可以更加便捷快速的对晶片的位置进行移动，无需人工进行转移，即可更加便捷的对晶片进行后续操作，有效提升了装置的使用效率。
[0022]具体的，分离机构4包括多个分别固定安装在清洗筐34内壁两侧的支撑块41、多个分别开设在多个支撑块41一侧的凹槽42和多个分别配合安装在多个凹槽42内侧的隔板43，通过设置有支撑块41、凹槽42和隔板43，可以更加便捷的根据晶片的大小尺寸对晶片之间进行分离隔档，确保每一个晶片都可以得到有效的清洗，使用更加的便捷。
[0023]具体的，分离机构4还包括多个分别固定安装在多个隔板43两侧的防护垫44，通过设置有防护垫44，可以更加便捷的对晶片两侧进行防护，防止晶片在清洗过程中收到水的压力进行晃动，导致晶片两侧的损坏，影响后续的使用。
[0024]具体的，拿取机构5包括活动门52、两个分别固定安装在清洗筐34外壁一侧的销轴51，活动门52固定安装在两个销轴51一侧，通过设置有销轴51和活动门52，可以更加便捷的对清洗筐34内部的零件进行检修更换，同时可以更加便捷快速的对晶片拿取。
[0025]具体的，冲洗机构7包括水箱71、安装板74、多个分别固定安装在水箱71底部两侧的限位杆72、三个分别固定连接在水箱71底部的连接管73、本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种使用方便的碳化硅晶片清洗装置，包括底座（1）、固定安装在底座（1）顶部的顶架（2）和多个分别开设在顶架（2）顶部两侧的限位孔（6），其特征在于：还包括移位机构（3）、拿取机构（5）、冲洗机构（7）和风干机构（8），所述移位机构（3）设置在顶架（2）顶部，所述移位机构（3）包括开设在顶架（2）一侧的安装槽（31）、两个分别固定安装在安装槽（31）内壁两侧的丝杆滑台（32）、两个分别固定安装在两个丝杆滑台（32）的滑动块一侧的支撑板（33）和固定安装在两个支撑板（33）底部的清洗筐（34），所述清洗筐（34）内部固定安装有分离机构（4），所述拿取机构（5）设置在清洗筐（34）一侧，所述冲洗机构（7）固定安装在顶架（2）顶部，所述风干机构（8）固定安装在顶架（2）一侧。2.根据权利要求1所述的一种使用方便的碳化硅晶片清洗装置，其特征在于：所述分离机构（4）包括多个分别固定安装在清洗筐（34）内壁两侧的支撑块（41）、多个分别开设在多个支撑块（41）一侧的凹槽（42）和多个分别配合安装在多个凹槽（42）内侧的隔板（43）。3.根据权利要求2所述的一种使用方便的碳化硅晶片清洗装置，其特征在于：所述分离机构（4）还包括多个分别固定安装在多个隔板（43）两侧的...
【专利技术属性】
技术研发人员：周杰，李有群，贺贤汉，殷雪苑，卓世异，
申请(专利权)人：上海申和投资有限公司，
类型：新型
国别省市：
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