一种基于滚珠花键的旋转升降对位的装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种基于滚珠花键的旋转升降对位的装置，包括基板，基板顶部外壁上通过螺栓安装有垫板，且垫板顶部外壁中心处插接有花键组件，基板底部外壁上通过螺栓安装有支架，且支架底部外壁上通过螺栓安装有动力组件，支架顶端通过螺栓与花键组件呈固定连接，动力组件包括固定块，固定块通过螺栓与支架呈固定连接，固定块底部外壁中心处通过螺栓安装有电机二。本发明专利技术花键组件可以实现长距离精密导向，同时丝杆二可以高精度的步进，使得该对位结构整体结构上可以实现长距离的重复精度定位，且相比传统结构，行程长，精度高，稳定性好，精密步进不会蠕动，同时可以用于有自动上下料功能的设备。下料功能的设备。下料功能的设备。

【技术实现步骤摘要】
一种基于滚珠花键的旋转升降对位的装置


[0001]本专利技术涉及曝光机对位结构分选技术，具体涉及一种基于滚珠花键的旋转升降对位的装置。

技术介绍

[0002]接近式曝光指掩膜板与光刻胶基底层保留一个微小的缝隙（Gap），Gap大约为0～200μm。可以有效避免与光刻胶直接接触而引起的掩膜板损伤，使掩膜和光刻胶基底能耐久使用；掩模寿命长（可提高10倍以上），图形缺陷少。接近式在现代光刻工艺中应用最为广泛，由于接近式掩膜曝光，需要精确的调整掩膜板和晶片之间的间隙gap。对工件台的精度要求比较高。并且一般曝光都需要多次曝光，多次曝光中上次图案和下次需要对准，称为套刻。套刻误差是指光刻机的工作过程是这样的：逐一曝光完硅片上所有的场（field），亦即分步，然后更换硅片，直至曝光完所有的硅片；当对硅片进行工艺处理结束后，更换掩模，接着在硅片上曝光第二层图形，也就是进行重复曝光。其中，第二层掩模曝光的图形必须和第一层掩模曝光准确的套叠在一起，故称之为套刻。
[0003]如授权公告号为CN205353575U，授权公告日为20160629的一种曝光机本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于滚珠花键的旋转升降对位的装置，包括基板（1），其特征在于：所述基板（1）顶部外壁上通过螺栓安装有垫板（11），且垫板（11）顶部外壁中心处插接有花键组件（12），所述基板（1）底部外壁上通过螺栓安装有支架（5），且支架（5）底部外壁上通过螺栓安装有动力组件（6），所述支架（5）顶端通过螺栓与花键组件（12）呈固定连接，所述动力组件（6）包括固定块（19），所述固定块（19）通过螺栓与支架（5）呈固定连接，所述固定块（19）底部外壁中心处通过螺栓安装有电机二（20），且电机二（20）的输出轴通过联轴器安装有丝杆二（21），所述丝杆二（21）外部螺纹连接有连接座（22），所述电机二（20）一侧外壁上电性连接有两个连接线（23），所述花键组件（12）包括花键轴（24），所述花键轴（24）外部滑动套接有花键母（25），且花键母（25）侧面外壁上分别设置有呈等距离结构分布的外圈环（28）、调整片（27）、外圈盘（26），所述调整片（27）两端分别与外圈环（28）、外圈盘（26）相互接触，所述外圈环（28）通过螺栓与支架（5）呈固定连接，所述花键母（25）底端通过螺栓与连接座（22）呈固定连接。2.根据权利要求1所述的一种基于滚珠花键的旋转升降对位的装置，其特征在于，所述花键组件（12）顶端通过螺栓安装有连接架（13），所述连接架（13）包括安装块（29），所述安装块（29）两侧外壁上均通过螺栓安装有限位板（30）。3.根据权利要求2所述的一种基于滚珠花键的旋转升降对位的装置，其特征在于，所述安装块（29）顶部外壁两侧均通过螺栓安装有卡板（31），且卡板（31）顶端通过螺栓安装有撑板（33），所述撑板（33）顶部外壁上设置有晶片台（32）。4.根据权利要求1所述的一种基于滚珠花键的旋转升降对位的装置，其特征在于，所述基...

【专利技术属性】
技术研发人员：傅舰艇，林世超，邹林，
申请(专利权)人：苏州中特微电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：