【技术实现步骤摘要】
一种新型自动化CVD设备
[0001]本技术涉及镀膜
，特别是涉及一种新型自动化CVD设备。
技术介绍
[0002]目前市场上制备parylene的热解CVD中，大多数使用的都是半自动的CVD设备，产能低，目前CVD设备大都采用单个腔体先后进行涂覆偶联剂膜和制备parylene膜层，涂覆后，产品和腔体内壁上均会涂覆一层偶联剂膜，腔体内也会残留一些偶联剂材料，需要清理腔体内材料以及内壁上的偶联剂膜才能进行制备parylene膜层，否则产尘，异物附在产品表面，在清理腔体以及内壁的过程中，清理繁琐，花费时间长，产品整体制备效率低，此外市面上腔体大都采用滚筒式的，靠离心力带动产品转动，但产品翻转有限，长出现有的区域镀膜厚，有的区域镀膜薄，镀膜不均匀。
[0003]基于以上缺陷和不足，有必要对现有的技术予以改进，设计出一种新型自动化CVD设备。
技术实现思路
[0004]本技术主要解决的技术问题是提供一种新型自动化CVD设备，设计一款自动CVD设备来面对高端硅片客户，主要目的能够增加产能，提升效率。
...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种新型自动化CVD设备，其特征在于：该种新型自动化CVD设备包括EFEM自动化设备、偶联剂镀膜沉积室、parylene派瑞林镀膜沉积室、硅烷偶联剂涂布机、二甲苯涂布机和气缸控制升降平台，所述EFEM自动化设备一侧设置有两自动化入口，EFEM自动化设备另一侧对接设置有偶联剂镀膜沉积室和parylene派瑞林镀膜沉积室，所述偶联剂镀膜沉积室侧端对接设置有硅烷偶联剂涂布机，parylene派瑞林镀膜沉积室侧端对接设置有二甲苯涂布机，所述偶联剂镀膜沉积室和...
【专利技术属性】
技术研发人员：傅其裕，
申请(专利权)人：百腾科技苏州有限公司，
类型：新型
国别省市：
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