稀释自蔓延法制备碳化硼粉体的方法技术

稀释自蔓延法制备碳化硼粉体的方法，属于陶瓷材料技术领域。其特征在于，工艺步骤为：1)将葡萄糖、氧化硼与钙粉混合均匀，得到混合原料，葡萄糖、氧化硼与钙粉的质量比为1:7～9:14～17；2)将混合原料分散装入自蔓延反应炉，在氩气保护下，采用局部点火法引发自蔓延反应，经过稀释自蔓延法制备得到碳化硼粗产物；3)将碳化硼粗产物进行酸浸、洗涤、干燥，得到碳化硼粉体。本方法通过调整反应物的配比来控制自蔓延反应发生的剧烈程度，控制整个反应体系的温度和产品的纯度及粒径。该方法工艺流程短、生产成本低。本发明专利技术制备的碳化硼粉体纯度高、粒径分布窄、粒径小等特点。粒径小等特点。

【技术实现步骤摘要】
稀释自蔓延法制备碳化硼粉体的方法


[0001]稀释自蔓延法制备碳化硼粉体的方法，属于陶瓷材料


技术介绍

[0002]碳化硼具有熔点高、硬度高、密度小、耐磨性强、化学性质稳定、耐腐蚀性强以及良好的中子吸收能力，被广泛应用于特种陶瓷、耐火材料、防辐射材料、航空航天及核工业等领域。
[0003]目前，碳化硼粉体制备方法有碳热还原法、激光化学气相反应法、直接化学合成法、机械合金化法等。其中工业生产中主要应用碳热还原法制备碳化硼，该方法主要利用高温下碳的还原性，将硼源与碳粉混合，在高温下反应生产碳化硼粉末。该方法不仅生产过程对环境的污染严重，而且制备的碳化硼粉末纯度低、粒径大小不均匀，需要经过二次粉碎工艺处理。这不仅造成碳化硼粉体杂质含量高，品质差，同时造成生产成本高，严重制约着碳化硼粉体的生产与应用。

技术实现思路

[0004]本专利技术要解决的技术问题是：克服现有技术的不足，提供一种纯度高、粒径均匀的稀释自蔓延法制备碳化硼粉体的方法。
[0005]本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是：稀释自蔓延法制备碳本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种稀释自蔓延法制备碳化硼粉体的方法，其特征在于，工艺步骤为：1)将葡萄糖、氧化硼与钙粉混合均匀，得到混合原料，葡萄糖、氧化硼与钙粉的质量比为1:7～9:14～17；2)将混合原料分散装入自蔓延反应炉，在氩气保护下，采用局部点火法引发自蔓延反应，经过稀释自蔓延法制备得到碳化硼粗产物；3)将碳化硼粗产物进行酸浸、洗涤、干燥，得到碳化硼粉体。2.根据权利要求1所述的稀释自蔓延法制备碳化硼粉体的方法，其特征在于：步骤1)中所述的葡萄糖、氧化硼与钙粉的质量比为1:7～8:15。3.根据权利要求1所述的稀释自蔓延法制备碳化硼粉体的方法，其特征在于：步骤1)中所述的混合均匀为将物料放入混料罐，密封后先进行2～5次气体置换再混料，混料时间控制在0.5h～3h。4.根据权利要求1所述的稀释自蔓延法制备碳化硼粉体的方法，其特征在于：步骤2)中所述的混合原料分散装入自蔓延反应炉后混合原料的推积密度为0.2g/cm3～0.35g/cm3。5.根据权利要求1所述的稀释自蔓延法制备碳化硼粉体的方法，其特征在于：步骤2)所述的局部点火法为在自蔓...

【专利技术属性】
技术研发人员：傅迪，王朝，王黎明，石丽丽，张健，傅禄，
申请(专利权)人：淄博晟钛复合材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：