【技术实现步骤摘要】
电子元器件近场扫描电磁图案聚类分析方法和系统
[0001]本专利技术涉及电磁图案聚类，特别是涉及一种电子元器件近场扫描系统和扫描后电磁图案聚类分析方法。
技术介绍
[0002]在现今集成技术和半导体工艺水平下，芯片/电路的集成度高，规模大。产品出现电磁可靠性问题变得越来多，对产品进行电磁辐射评估是非常有必要的。由于人工排查工作量大，存在一定的困难。
[0003]近年来，近场扫描被广泛应用于测量IC电磁辐射，高分辨率探针观察磁性材料的磁畴等，在电磁干扰诊断中起着重要作用，而近场扫描的电磁图案能直观反映EMC的设计问题，其中，通过对于近场扫描的数据进行后期处理，将处理后的数据可视化形成电磁图案，再通过肉眼人工观察电磁图案对产品芯片进行电磁辐射分析。但是，随着集成电路工作频率的不断提高，电磁干扰变得越来越复杂，人工观察电磁图案效率不高且电磁图案数量增加。
[0004]为了让后期分析变得更加智能化，提高分析效率，可以针对近场扫描电磁图案进行聚类分析，利用机器学习中的无监督学习对获取的电磁图案做聚类。聚类是研究对象分成...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种电子元器件近场扫描电磁图案聚类分析方法，其特征在于，包括：对被测器件进行近场扫描，再对扫描得到的数据进行后期处理得到电磁图像，然后利用改进的K
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Means聚类方法对得到的电磁图案进行聚类分析；其中，所述改进的K
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Means聚类方法是先通过手肘法确定K值，再利用K
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Means聚类方法对得到的电磁图案进行聚类分析。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，包括如下步骤：第一步：通过测试确保被测器件能够工作正常且表面足够平整；第二步：将被测器件水平放置在测试台上，并正常上电；第三步：调整电磁探头在被测器件上方运动的扫描平面；第四步：设置频谱仪的参数；第五步：控制电磁探头对被测器件进行扫描；第六步：导出扫描得到的电磁数据，进行后期处理并可视化，得到电磁图像；第七步：利用改进的K
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Means聚类方法对得到的电磁图案进行聚类分析。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，第三步中，将电磁探头的传感部分调整到与被测...
【专利技术属性】
技术研发人员：伍雨欣，许坤远，方文啸，黄权，
申请(专利权)人：华南师范大学，
类型：发明
国别省市：
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