一种用于平衡吸嘴的装置及固晶机制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种用于平衡吸嘴的装置及固晶机，该装置包括基板、第一模块、第二模块，所述第一模块包括第一平台，所述第二模块包括第二平台、吸嘴，所述第二平台安装有所述吸嘴，该装置还包括实现所述第一平台和所述第二平台动平衡的平衡机构，所述平衡机构安装在所述基板上，所述平衡机构一端与所述第一平台相连，所述平衡机构另一端与所述第二平台相连。本发明专利技术的有益效果是：本发明专利技术的平衡机构简单，调节灵敏，使吸嘴与晶片受力量化，受力大小可以通过砝码大小调节，结构简单，当吸嘴与晶片接触受力过大时，通过平衡机构调节使吸嘴向上回调，避免晶片损伤和吸嘴损坏，从而保证固晶压力。压力。压力。

A device for balancing suction nozzle and crystal fixing machine

【技术实现步骤摘要】
一种用于平衡吸嘴的装置及固晶机


[0001]本专利技术涉及固晶
，尤其涉及一种用于平衡吸嘴的装置及固晶机。

技术介绍

[0002]固晶机包括固晶摆臂系统，如图1所示，固晶摆臂系统包括后摆臂101、前摆臂102、调节组件103、吸嘴104等，吸嘴104在取、固晶时，晶片受力大小由调节组件103来完成调节功能，只能靠目测，晶片受力大小不能实现量化，具体压力依靠弹簧的型变，其值呈线性，不稳定，且随着时间的变化弹簧的型变系数会发生变化，调整只能靠感觉，这样不能保证吸嘴104与晶片盘105高度精确，这样易造成晶片的损坏，也影响设备效率。

技术实现思路

[0003]本专利技术提供了一种用于平衡吸嘴的装置，包括基板、第一模块、第二模块，所述第一模块包括第一平台，所述第二模块包括第二平台、吸嘴，所述第二平台安装有所述吸嘴，该装置还包括实现所述第一平台和所述第二平台动平衡的平衡机构，所述平衡机构安装在所述基板上，所述平衡机构一端与所述第一平台相连，所述平衡机构另一端与所述第二平台相连，所述第二模块的重量大于第一模块的重量，第一模块和第二模块本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于平衡吸嘴的装置，其特征在于：包括基板(1)、第一模块、第二模块，所述第一模块包括第一平台(2)，所述第二模块包括第二平台(3)、吸嘴(4)，所述第二平台(3)安装有所述吸嘴(4)，该装置还包括实现所述第一平台(2)和所述第二平台(3)动平衡的平衡机构，所述平衡机构安装在所述基板(1)上，所述平衡机构一端与所述第一平台(2)相连，所述平衡机构另一端与所述第二平台(3)相连，所述第二模块的重量大于第一模块的重量，第一模块和第二模块的重量根据基板(1)下降的距离及平衡原理计算得到。2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：该装置还包括配重块(5)、砝码(6)，所述配重块(5)设置于所述第一平台(2)上，所述砝码(6)设置于所述第二平台(3)上，所述第一平台(2)和所述配重块(5)构成第一模块，所述第二平台(3)、所述砝码(6)及所述吸嘴(4)构成第二模块。3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于：该装置还包括实现对所述第二模块进行锁定的锁定机构，且所述锁定机构能够与所述第二模块分离。4.根据权利要求3所述的装置，其特征在于：所述锁定机构包括电磁铁(7)、以及控制所述电磁铁(7)的电磁铁控制模块，所述电磁铁(7)安装在所述基板(1)上，所述电磁铁(7)用于吸附所述第二平台(3)。5.根据权利要求4所述的装置，其特征在于：所述锁定机构还包括气嘴装置(8)，所述气嘴装置(8)用于对所述第二模块提供正压吹气，使所述第二模块向下移动，使所述第二模块与所述电磁铁(7)对齐。6.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：所述第一平台(2)设有第一导轨，所述基板(1)设有第一导槽，所述第一导轨能够在所述第一导槽内滑动；所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈官海，廖志永，
申请(专利权)人：深圳市卓兴先进封装技术有限公司，
类型：发明
国别省市：