【技术实现步骤摘要】
一种单片式晶圆清洗工艺中的化学品回流装置
[0001]本技术涉及半导体制造
，尤其涉及一种单片式晶圆清洗工艺中的化学品回流装置。
技术介绍
[0002]单片式晶圆清洗工艺中常用高温硫酸清洗，采用硫酸与双氧水的混合溶液，而如若这些化学品在使用一次后就废弃，这无疑造成了巨大的浪费。因此，亟需一种单片式晶圆清洗工艺中的化学品回流装置。
技术实现思路
[0003]本技术的目的是针对现有技术中的不足，提供一种单片式晶圆清洗工艺中的化学品回流装置。
[0004]为实现上述目的，本技术采取的技术方案是：
[0005]提供一种单片式晶圆清洗工艺中的化学品回流装置，所述化学品回流装置的进液口与单片式晶圆清洗腔体的出液口管路连接，所述化学品回流装置的出液口与清洗液体储存装置的进液口管路连接；
[0006]其中，所述化学品回流装置被固液分离膜以及液体透过膜分隔为过滤腔室、水解腔室以及回流腔室，所述化学品回流装置的进液口与所述过滤腔室连通，所述过滤腔室通过所述固液分离膜与所述水解腔室连通，所述水解腔室通过液...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种单片式晶圆清洗工艺中的化学品回流装置，其特征在于，所述化学品回流装置的进液口与单片式晶圆清洗腔体的出液口管路连接，所述化学品回流装置的出液口与清洗液体储存装置的进液口管路连接；其中，所述化学品回流装置被固液分离膜(11)以及液体透过膜(22)分隔为过滤腔室(1)、水解腔室(2)以及回流腔室(3)，所述化学品回流装置的进液口与所述过滤腔室(1)连通，所述过滤腔室(1)通过所述固液分离膜(11)与所述水解腔室(2)连通，所述水解腔室(2)通过液体透过膜(22)与所述回流腔室(3)连通，所述回流腔室(3)与所述化学品回流装置的出液口连通；其中，所述水解腔室(2)内设有催化组件(21)；所述回流...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘大威，邓信甫，唐宝国，林忠宝，
申请(专利权)人：至微半导体上海有限公司，
类型：新型
国别省市：
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