一种难混溶金属的非晶态合金厚膜的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种难混溶金属的非晶态合金厚膜的制备方法，就是将难混溶的金属拼接成靶材，用聚焦离子源以一定能量轰击靶材，将本来难以混溶的原子溅射出来并沉积到旋转的衬底上，衬底的旋转使得合金成分均匀。由于冷却速度非常高，难混溶原子来不及进行相分离而形成非晶态合金。在溅射沉积的同时，用辅助离子源对正在生长的合金膜表面用较小的能量和束流进行轰击，提高薄膜在沉积过程中的致密性，从而实现对非晶态难混溶合金厚膜的制备。该方法可显著提高合金的非晶形成能力，所制备的难互溶合金膜厚度甚至可以达到100微米以上，尺寸大，致密度高。致密度高。致密度高。

【技术实现步骤摘要】
一种难混溶金属的非晶态合金厚膜的制备方法


[0001]本专利技术涉及一种非晶态合金厚膜的制备方法，属于材料科学与凝聚态物理领域。

技术介绍

[0002]非晶合金由于长程无序短程有序的结构而不仅具有独特的力学性能，如超高强度和断裂韧性、高硬度、低弹性模量和高疲劳性能等；非晶合金还具有独特的功能特性，如高磁导率、低矫顽力、低铁损、优异的催化性能、耐腐蚀性能、优异的催化性能等。在基础研究和工程应用上引起了人们广泛的研究兴趣。然而由于受到玻璃形成能力的限制，绝大数传统合金成分都没能被制备成非晶态合金。从1961年Duwez用快速凝固法制备出AuSi非晶合金开始(文献1,W.Klement,R.H.Willens,P.Duwez,Non
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crystalline structure in solidified gold
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silicon alloys,Nature 187 869
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870(1960).)，人们开始大规模探索新的非晶合金成分体系。
[0003]多年的研究经验表明，非晶合金的形成本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种难混溶金属的非晶态合金厚膜的制备方法，其特征在于，其步骤如下：将难混溶的金属拼接成靶材，用聚焦离子源轰击靶材；将本来难以混溶的难混溶的金属原子溅射出来，并沉积到旋转的衬底上；衬底台的旋转使得合金成分均匀；由于金属原子冷却速度非常高，难混溶金属原子来不及进行相分离而形成非晶态合金；在溅射和沉积的同时，用辅助离子源对正在生长的合金膜表面，用比聚焦离子源小的能量和束流进行轰击，使合金膜在沉积过程中致密化，从而实现对非晶态难混溶合金厚膜的制备。2.根据权利要求1所述的难混溶金属的非晶态合金厚膜的制备方法，其特征在于：所述的靶材是用至少两种难混溶金属拼接而成的圆片。3.根据权利要求1所述的难混溶金属的非晶态合金厚膜的制备方法，其特征在于：所述的难混溶合金为X
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Cu合金、Y
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Al合金、Ni
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Ag合金、Bi
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Ga中的至少一种；其中，X为Nb、Mo、Ta、W、Sn、Pb、Co、Cr、Zr、Bi、Fe中的至少一种，Y为Sn，Bi，In，Pb中的至少一种。4.根据权利要求1所述的难混溶金属的非晶态合金厚膜的制备方法，其特征在于：所述的聚焦离子源的能量为300
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1500eV，束流为30
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【专利技术属性】
技术研发人员：易军，贾生伟，黄波，卞西磊，贾延东，王刚，
申请(专利权)人：上海大学，
类型：发明
国别省市：