一种氧化钨纳米材料的制备方法以及在光催化脱硫中的应用技术

本发明专利技术公开了一种氧化钨纳米材料的制备方法及其在光催化脱硫上的应用，属于纳米材料制备及光催化脱硫的技术领域。其使用含氮有机物与含钨前驱体，通过较低温度的一步煅烧法直接在空气气氛中合成具有氧化钨纳米催化剂材料。通过调控该催化剂表面电子结构和微纳结构，在纳米空间内对氧分子进行诱导极化，实现氧分子的活化，提高光催化脱除硫化氢反应性能。本发明专利技术工艺简单，成本低，可大规模生产，符合实际生产需要，有较大的应用潜力。有较大的应用潜力。有较大的应用潜力。

Preparation method of tungsten oxide nano material and its application in photocatalytic desulfurization

【技术实现步骤摘要】
一种氧化钨纳米材料的制备方法以及在光催化脱硫中的应用


[0001]本专利技术属于材料制备及精脱硫
，具体涉及一种氧化钨纳米材料的制备方法以及在光催化脱硫上的应用。

技术介绍

[0002]硫化氢(H2S)气体主要来源于天然气田伴生和化石燃料的燃烧，其强腐蚀性和高毒性对工业品输送管道和人体健康有严重危害。因此，脱除H2S具有实际的经济效益和现实意义。光催化氧化脱硫是指利用催化剂在光照下生成具有高活性氧物种实现含硫污染物的转化，其特点在于：使用廉价的太阳能作为能源，最大限度降低成本。
[0003]氧化钨（WO3）作为一种n型半导体，因其无毒、成本低、带隙可调和化学性质稳定等优点在光催化领域被广泛研究。但其较低的导带还原能力和光生电荷分离效率严重阻碍了其在环境光催化方面的实际应用。
[0004]基于此，本专利技术开发一种廉价、简单和安全的制备氧化钨纳米材料的方法同时提高了氧化钨可见光吸收能力，增强其光生电荷分离效率进而提升其光催化性能，实现WO3纳米催化剂在室温条件下可见光光催化低浓度H2S去除，对WO3纳米催化剂在光催化脱除低浓本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种氧化钨纳米材料的制备方法，其特征在于：使用钨酸铵和二聚氰胺作为前驱体，通过空气煅烧法一步合成氧化钨纳米材料，其具体步骤包括：1）将一定质量比的钨酸铵和二聚氰胺研磨10min；2）将步骤1）的混合粉末在一定的温度下煅烧得到所述氧化钨纳米材料。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：钨酸铵和二聚氰胺的质量比为5:1或5:2或5: 3或5:5。3.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：阳灿，曾丽斌，杨浩，王心晨，
申请(专利权)人：福州大学，
类型：发明
国别省市：