【技术实现步骤摘要】
一种X射线荧光分析系统及其分析方法
[0001]本专利技术涉及能量色散X射线荧光
,特别涉及一种X射线荧光分析系统及其分析方法。
技术介绍
[0002]X射线荧光分析技术(X Ray Fluorescence,简称XRF)是一种成熟的的元素分析技术,因其具备非破坏性、样品制备量小和动态范围大等优点,被广泛应用于许多工业和研究领域的元素分析中。
[0003]X射线荧光分析技术通常采用X射线源(X射线光管+高压电源)产生X射线,X射线中含有靶材元素的特征谱线和连续的韧致辐射谱线。图1
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1和图1
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2均为钼靶材X射线源发出的谱线,图1
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1中的阴影部分表示了靶材的特征谱线,图1
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2的阴影部分表示韧致辐射谱线的其中一部分。当产生的X射线入射到样品时,会发生三种主要的效应,分别为光电吸收、弹性散射(也称不变质散射或瑞利散射)和非弹性散射(也称变质散射或康普顿散射),其中光电吸收效应指的是X射线可以激发样品中元素,得到样品中各元素的特征X射线荧光信 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种X射线荧光分析系统,其特征在于,包括:X射线源;单色光学器件,设于所述X射线源的输出光路上;用于接收所述X射线源发出的X射线,对所述X射线进行单色化,得到单色光束,并利用所述单色光束对待测样品进行激发;探测器,设于所述待测样品附近;用于探测所述待测样品受所述单色光束激发后所产生的X射线荧光信号;处理器,用于接收所述X射线荧光信号,并根据所述X射线荧光信号,对所述待测样品进行元素分析。2.根据权利要求1所述的X射线荧光分析系统,其特征在于,所述单色光学器件由至少一个双曲晶体构成。3.根据权利要求1所述的X射线荧光分析系统,其特征在于,所述单色光束为所述X射线的特征谱线经单色化后的光束,且所述单色光束的能量与能量带宽之比大于100。4.根据权利要求3所述的X射线荧光分析系统,其特征在于,所述单色光束的能量为4.5keV、5.4keV、8.0keV、8.4keV、9.7keV、17.5keV、20keV和22keV中任一种。5.根据权利要求1所述的X射线荧光分析系统,其特征在于,所述单色光束为所述X射线的韧致辐射谱线经单色化后的光束,且所述单色光束的能量带...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈泽武,高志帆,宋硙,张红平,王晶晶,
申请(专利权)人:苏州佳谱科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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