基板的镀膜印刷方法技术

技术编号:34091773 阅读:26 留言:0更新日期:2022-07-11 21:21
本发明专利技术提供了一种基板的镀膜印刷方法,包括提供原料基板、导电发光靶材和镀层沉积装置,镀层沉积装置包括:溅射腔室和磁力溅射部件;加工原料基板为待镀膜基板;以磁力溅射部件将导电发光靶材溅射至待镀膜基板,以得到镀膜基板;印刷镀膜基板,以得到导电发光基板。通过本发明专利技术,可解决了现有技术存在的显示方式单一以及显示效果较差的问题。一以及显示效果较差的问题。一以及显示效果较差的问题。

【技术实现步骤摘要】
基板的镀膜印刷方法


[0001]本专利技术涉及基板表面处理
,特别是涉及一种基板的镀膜印刷方法。

技术介绍

[0002]随着城市建设的不断发展,彩色印刷玻璃等基板建材以及装饰产品的需求不断攀升。现 有的玻璃印刷技术是直接分次序将图案和主色层的油墨逐层转印至基板的印刷面,现有技术 中的彩晶玻璃没有电镀层,没有镜面显示效果,且由于表面涂层为色彩涂层,无法通电发光 显示。
[0003]现有技术中的彩晶玻璃、印刷玻璃等产品存在显示方式单一以及显示效果较差的问题。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提供一种基板的镀膜印刷方法,解决了现有技术中存在的显示方式单 一以及显示效果较差的问题。
[0005]为解决上述技术问题,本专利技术是通过以下技术方案实现的:
[0006]本专利技术为一种基板的镀膜印刷方法,其至少包括以下步骤:
[0007]提供原料基板、导电发光靶材和镀层沉积装置,镀层沉积装置包括:溅射腔室和磁力溅 射部件;
[0008]加工原料基板为待镀膜基板;<br/>[0009]本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基板的镀膜印刷方法,其特征在于,包括:提供原料基板、导电发光靶材、和镀层沉积装置,所述镀层沉积装置包括:溅射腔室和磁力溅射部件;加工所述原料基板为待镀膜基板;以所述磁性溅射部件将所述导电发光靶材溅射至所述待镀膜基板,以得到镀膜基板;印刷所述镀膜基板,以得到导电发光基板。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述基板为玻璃、塑料、陶瓷及/或水晶。3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述导电发光靶材包括:导电靶材及/或非导电靶材。4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述加工待镀膜基板的步骤,包括:磨边处理所述成形基板,以得到磨边基板;基板钢化处理所述磨边基板,以得到所述待镀膜基板。5.根据权利要求1所述的方法。其特征在于,加热炉上部温度为675

695摄氏度。6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,加热炉下部温...

【专利技术属性】
技术研发人员:武大军
申请(专利权)人:滁州新彩家用玻璃有限公司
类型:发明
国别省市:

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