基板处理设备制造技术

本发明专利技术关于一种基板处理设备，包含：腔室，提供处理空间；盖件，覆盖腔室的上部；基板支撑单元，支撑着至少一个基板且可绕旋转轴旋转，以使基板穿过成像区域；气体喷射单元，用于将处理气体喷向基板支撑单元；区域摄影单元，拍摄成像区域的图像以获得成像区域的热图像；以及计算单元，自热图像计算基板的温度数据。自热图像计算基板的温度数据。自热图像计算基板的温度数据。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基板处理设备


[0001]本专利技术关于一种基板处理设备，所述基板处理设备于基板上进行诸如沉积工艺及蚀刻工艺这样的处理工艺。

技术介绍

[0002]一般而言，为了制造太阳能电池、半导体器件、平坦面板显示器等，应于基板上形成薄膜层、薄膜电路图案或光学图案。为此，需要于基板上进行处理工艺，处理工艺例如包含：将包含特定材料的薄膜沉积于基板上的沉积工艺、通过使用光敏材料而使薄膜的一部分选择性曝光的光工艺、将薄膜的选择性曝光的部分去除以形成图案的蚀刻工艺等。此类处理工艺通过基板处理设备于基板上进行。
[0003]先前技术的基板处理设备包含支撑着基板的基板支撑单元及将处理气体喷向前述基板支撑单元的气体喷射单元。基板支撑单元绕着旋转轴旋转。因基板支撑单元绕着旋转轴旋转，故由基板支撑单元所支撑的基板会穿过气体喷射单元下方的区域。在此工艺中，通过使用气体喷射单元所喷射的处理气体，于基板上进行处理工艺。
[0004]在此种处理工艺中，基板温度扮演重要的因素。在先前技术中，为了于处理工艺反映基板温度，在进行处理工艺之前，通过使用热电偶(thermoc本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于处理基板的设备，所述设备包括：腔室，提供处理空间；盖件，覆盖所述腔室的上部；基板支撑单元，支撑着至少一个基板且可绕旋转轴旋转，以使基板穿过摄影区域；气体喷射单元，将处理气体喷向所述基板支撑单元；区域摄影单元，拍摄所述摄影区域以获得所述摄影区域的热图像；以及计算单元，自所述热图像计算基板的温度数据。2.如权利要求1所述的设备，其中于所述盖件中设有设置于所述摄影区域中的测量孔，且所述区域摄影单元设置于所述盖件上方，且通过使用所述测量孔而获得所述热图像，所述热图像含有穿过所述测量孔下方的区域的基板。3.如权利要求1所述的设备，其中于所述气体喷射单元中设有设置于所述摄影区域中的测量孔，且所述区域摄影单元设置于所述气体喷射单元上方，且通过使用所述测量孔而获得所述热图像，所述热图像含有穿过所述测量孔下方的区域的基板。4.如权利要求1至3中任一项所述的设备，其中所述计算单元包括：撷取模块，自所述热图像撷取对应于第一测量线的基板的点温度的第一候选数据，且自所述热图像撷取对应于与所述第一测量线平行的第二测量线的基板的点温度的第二候选数据；以及计算模块，通过使用所述第一候选数据及所述第二候选数据计算所述热图像所含的基板的点温度的温度数据。5.如权利要求4所述的设备，其中所述计算模块确定所述第一候选数据和所述第二候选数据中的候选数据的一个片段的超过预设的参考温度的点作为其他候选数据的一个片段的温度，以及确定所述第一候选数据和所述第二候选数据所有中的等于或小于所述参考温度的点作为所述第一候选数据的温度和所述第二候选数据的温度的平均温度。6.如权利要求4所述的设备，其中所述撷取模块基于基板与所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：白寅雨，金鍾哲，边永燮，吕仁喆，
申请(专利权)人：周星工程股份有限公司，
类型：发明
国别省市：