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本发明关于一种基板处理设备，包含：腔室，提供处理空间；盖件，覆盖腔室的上部；基板支撑单元，支撑着至少一个基板且可绕旋转轴旋转，以使基板穿过成像区域；气体喷射单元，用于将处理气体喷向基板支撑单元；区域摄影单元，拍摄成像区域的图像以获得成像区域...
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