本实用新型专利技术提供了一种陶瓷上釉装置，包括机架，所述机架上设有安装座、支撑柱、下压机构、电机和喷釉机构，所述安装座通过轴套连接有转盘，所述转盘的底面与支撑柱的顶端抵接，所述下压机构与轴套配合夹紧瓷器坯料，所述电机驱动转盘转动，所述喷釉机构上设有用于给瓷器坯料外侧壁上釉的第一喷头，所述下压机构包括设于机架顶端的气缸，所述气缸的推送杆上设有压块，所述压块包括与推送杆连接的固定块，所述固定块上套设有用于下压瓷器坯料的转动环；本实用新型专利技术提供的陶瓷上釉装置结构合理，能保证上釉均匀，提升生产效率。提升生产效率。提升生产效率。
【技术实现步骤摘要】
一种陶瓷上釉装置
[0001]本技术属于陶瓷生产设备
，具体是涉及到一种陶瓷上釉装置。
技术介绍
[0002]上釉是陶瓷生产过程中的重要工序，陶瓷表面的釉质决定陶瓷的品质与档次。在陶瓷上涂上釉层主要能够起到保护和装饰的作用，传统的上釉方式为人工上釉，多为浸釉，即把陶瓷浸入到釉池中进行上釉，经过一定的时间后，将陶瓷吊出即可，这种上釉方法需要一个较大的釉池及起吊设备，且容易导致釉料被污染，成本较高，采用人工喷釉法，耗费人力，生产效率低，上釉易不均匀，不合符现代陶瓷规模化和自动化的需求。
技术实现思路
[0003]本技术要解决的技术问题是提供一种结构合理，能保证上釉均匀，提升生产效率的陶瓷上釉装置。
[0004]为了达到上述目的，本技术的技术方案如下，一种陶瓷上釉装置，包括机架，所述机架上设有安装座、支撑柱、下压机构、电机和喷釉机构，所述安装座通过轴套连接有转盘，所述转盘的底面与支撑柱的顶端抵接，所述下压机构与轴套配合夹紧瓷器坯料，所述电机驱动转盘转动，所述喷釉机构上设有用于给瓷器坯料外侧壁上釉的第一喷头，所述下压机构包括设于机架顶端的气缸，所述气缸的推送杆上设有压块，所述压块包括与推送杆连接的固定块，所述固定块上套设有用于下压瓷器坯料的转动环。
[0005]优选的，所述固定块内设有气道，所述气道的一端通过第一软管与喷釉机构连接，另一端连接有向下延伸的喷釉管，所述喷釉管上开设有喷釉孔。
[0006]优选的，所述喷釉管的底端为球形面，所述球形面上均匀分布喷釉孔。
[0007]优选的，所述固定块与推送杆通过螺纹连接，可沿推送杆的轴向方向调节位置。
[0008]优选的，所述安装座通过第二软管与喷釉机构连接，安装座的顶面上设有用于给瓷器坯料底面上釉的第二喷头。
[0009]优选的，所述支撑柱上设有开槽，所述开槽内嵌有滚珠，所述滚珠上设有限位座，所述限位座与支撑柱通过连接环连接，所述转盘的底面与滚珠的顶点抵接。
[0010]优选的，所述支撑柱通过升降机构与机架连接。
[0011]优选的，所述电机通过传动齿轮与转盘啮合，所述传动齿轮的厚度大于转盘的厚度。。
[0012]本技术的有益效果是，轴套为管状结构，一端套设在安装座上，另一端抵住瓷器坯料底面的边缘，使用时，将瓷器坯料放置在轴套上，下压机构与轴套配合夹紧瓷器坯料，电机驱动转盘匀速转动，喷釉机构通过第一喷头对瓷器坯料的外侧壁进行上釉，能保证上釉均匀，提高生产效率；还可以个性化地设置电机在小范围内往复转动，配合喷釉机构喷釉，能实现陶瓷坯料的局部上釉，满足不同的使用需求。
附图说明
[0013]图1为本技术其中一实施例的结构示意图；
[0014]图2为图1所示的下压机构的结构示意图；
[0015]图3为图1所示的支撑柱的结构示意图；
[0016]图4为图2所示的压块的结构示意图。
[0017]在图中，1、机架；2、安装座；21、第二软管；22、第二喷头；3、支撑柱；31、开槽； 32、滚珠；33、限位座；34、连接环；35、升降机构；4、下压机构；41、气缸；42、喷釉管； 43、推送杆；44、压块；441、固定块；442、转动环；45、第一软管；46、喷釉孔；47、气道；5、电机；51、传动齿轮；6、喷釉机构；61、第一喷头；7、轴套；8、转盘；10、瓷器坯料。
具体实施方式
[0018]下面结合附图和具体实施例，对本技术的技术方案作进一步具体的说明：
[0019]请一并参阅图1
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4，本实施例提供的陶瓷上釉装置，包括机架1，所述机架1上设有安装座2、支撑柱3、下压机构4、电机5和喷釉机构6，所述安装座2通过轴套7连接有转盘8，所述转盘8的底面与支撑柱3的顶端抵接，所述下压机构4与轴套7配合夹紧瓷器坯料10，所述电机5驱动转盘8转动，所述喷釉机构6上设有用于给瓷器坯料10的外侧壁进行上釉的第一喷头61；所述下压机构4包括设于机架1顶端的气缸41，所述气缸41的推送杆43上设有压块44，使用时，气缸41通过推送杆43驱动压块44向下压紧瓷器坯料10，保证在转盘 8转动时，瓷器坯料不会松脱，保证瓷器坯料10的外侧壁上釉均匀；所述压块44包括与推送杆43连接的固定块441，所述固定块441上套设有用于下压瓷器坯料的转动环442；转动时，转动环442随瓷器坯料一起转动。
[0020]轴套7为管状结构，一端套设在安装座2上，另一端抵住瓷器坯料10底面的边缘，使用时，将瓷器坯料10放置在轴套7上，下压机构4与轴套7配合夹紧瓷器坯料10，电机5驱动转盘8匀速转动，喷釉机构6通过第一喷头61对瓷器坯料10的外侧壁进行上釉，能保证上釉均匀，提高生产效率；还可以个性化地设置电机5在小范围内往复转动，配合喷釉机构 6喷釉，能实现陶瓷坯料的局部上釉，满足不同的使用需求。
[0021]更具体的，所述固定块441内设有气道47，所述气道47的一端通过第一软管45与喷釉机构6连接，另一端连接有向下延伸的喷釉管42，所述喷釉管42上开设有喷釉孔46；在进行瓶状瓷器坯料上釉时，气缸41驱动压块44压紧瓷器坯料10的同时，喷釉管42伸入行瓶状瓷器坯料内，喷釉机构6通过喷釉管42上开设的喷釉孔46对瓶状瓷器坯料的内侧壁均匀上釉，能减少加工工序，提升生产效率。
[0022]更具体的，所述喷釉管42的底端为球形面，所述球形面上均匀分布喷釉孔46；以保证对瓶状瓷器坯料的内侧壁进行均匀上釉。
[0023]更具体的，所述固定块441与推送杆43通过螺纹连接，可沿推送杆43的轴向方向调节位置；通过转动固定块441，能调节转动环442与轴套7顶端的间距，以适应不同高度瓷器坯料。
[0024]更具体的，所述安装座2通过第二软管21与喷釉机构6连接，安装座2的顶面上设有用于给瓷器坯料底面上釉的第二喷头22；能在对瓷器坯料10的侧壁进行上釉的同时，对瓷器坯料10的底面进行上釉，能提升生产效率。
[0025]更具体的，所述支撑柱3上设有开槽31，所述开槽31内嵌有滚珠32，所述滚珠32上设有限位座33，所述限位座33与支撑柱3通过连接环34连接，所述转盘8的底面与滚珠32 的顶点抵接；机架1的底面上设有呈环形阵列固定的支撑柱3，支撑柱3上的开槽31与限位座33对滚珠32的位置进行限位，使得滚珠32只能进行定心转动，能对转盘8的转动进行支撑，减小摩擦力，从而使得转盘8的转动更加稳定。
[0026]更具体的，所述支撑柱3通过升降机构35与机架1连接；升降机构35能调节转盘8离机架1底面的高度，以适应不同高度瓷器坯料。
[0027]更具体的，所述电机5通过传动齿轮51与转盘8啮合，所述传动齿轮51的厚度大于转盘8的厚度；以保证通过升降机构35调节转盘8离机架1底面的高度时，传动齿轮51与转盘8保持啮合，保证装置正常运行。
[0028]以上实施例仅用于说明本技术的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种陶瓷上釉装置，其特征在于：包括机架(1)，所述机架(1)上设有安装座(2)、支撑柱(3)、下压机构(4)、电机(5)和喷釉机构(6)，所述安装座(2)通过轴套(7)连接有转盘(8)，所述转盘(8)的底面与支撑柱(3)的顶端抵接，所述下压机构(4)与轴套(7)配合夹紧瓷器坯料，所述电机(5)驱动转盘(8)转动，所述喷釉机构(6)上设有用于给瓷器坯料外侧壁上釉的第一喷头(61)，所述下压机构(4)包括设于机架(1)顶端的气缸(41)，所述气缸(41)的推送杆(43)上设有压块(44)；所述压块(44)包括与推送杆(43)连接的固定块(441)，所述固定块(441)上套设有用于下压瓷器坯料的转动环(442)。2.如权利要求1所述的陶瓷上釉装置，其特征在于：所述固定块(441)内设有气道(47)，所述气道(47)的一端通过第一软管(45)与喷釉机构(6)连接，另一端连接有向下延伸的喷釉管(42)，所述喷釉管(42)上开设有喷釉孔(46)。3.如权利要求2所述的陶瓷上釉装置，其特征在...
【专利技术属性】
技术研发人员：彭林，汪大谷，
申请(专利权)人：湖南华联瓷业股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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