一种管路柔性适应装置及浸没式光刻机制造方法及图纸

本发明专利技术涉及光刻机技术领域，公开一种管路柔性适应装置及浸没式光刻机，其中管路柔性适应装置包括：包括连接簧片和隔振结构的柔性连接装置，连接簧片的一端通过隔振结构连接于气液分离装置上，连接簧片的另一端自由释放，连接簧片沿气液分离装置的高度方向布置；浸没流场管路，浸没流场管路包括回收管路和注入管路，回收管路的两端分别连通于浸没头和气液分离装置，注入管路的一端连通于浸没头，注入管路远离浸没头的部分连接于连接簧片上且沿连接簧片的高度方向布置，注入管路和回收管路靠近浸没头的部分布置于同一水平面上。通过上述结构，该管路柔性适应装置能够减小管路对浸没头以及气液分离装置的影响，有利于提高浸没式光刻机的精度。光刻机的精度。光刻机的精度。

【技术实现步骤摘要】
一种管路柔性适应装置及浸没式光刻机


[0001]本专利技术涉及光刻机
，尤其涉及一种管路柔性适应装置及浸没式光刻机。

技术介绍

[0002]浸没式光刻机是半导体产业中的关键设备，光刻机的精度要求极高、结构非常复杂。浸没式光刻机的浸没头布置在物镜最底面镜片的下表面和卡盘上表面之间，浸没头通过不同材质和不同直径的管路实现浸没液场的维持和稳定。其中部分管路通过宝塔接头连接在浸没头和气液分离装置之间，部分管路沿气液分离装置高度方向布置。
[0003]由于作业需要，浸没头模块需要实现垂向伺服运动控制和水平向定位，目前浸没头模块通常通过伺服电机和重力补偿器实现垂向运动控制，通过水平向连接的拉杆对浸没头进行水平向定位。但是，在浸没头模块实际运行过程中，与浸没头连接的管路会对浸没头产生牵拉力，影响浸没头的伺服运动，给其带来误差；同时，紧绷的管路还会将气液分离装置的振动传递至浸没头模块，影响浸没头工作的稳定性；而且，管路产生的振动也会传递至气液分离装置上，对与气液分离装置相连的基板产生干扰，这些都会降低光刻机的精度。
专利
技术实现思路

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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种管路柔性适应装置，其特征在于，包括：柔性连接装置，所述柔性连接装置包括连接簧片(1)和隔振结构(2)，所述连接簧片(1)的一端通过所述隔振结构(2)连接于气液分离装置(3)上，所述连接簧片(1)的另一端自由释放，所述连接簧片(1)沿所述气液分离装置(3)的高度方向布置；浸没流场管路，所述浸没流场管路包括回收管路(41)和注入管路(42)，所述回收管路(41)的两端分别连通于浸没头(5)和所述气液分离装置(3)，所述注入管路(42)的一端连通于浸没头(5)，所述注入管路(42)远离所述浸没头(5)的部分连接于所述连接簧片(1)上且沿所述连接簧片(1)的高度方向布置，所述注入管路(42)和所述回收管路(41)靠近所述浸没头(5)的部分布置于同一水平面上。2.根据权利要求1所述的管路柔性适应装置，其特征在于，所述连接簧片(1)上设有凸起部(11)，所述凸起部(11)凸向所述注入管路(42)设置并与所述注入管路(42)抵持。3.根据权利要求1所述的管路柔性适应装置，其特征在于，所述柔性连接装置还包括水平限位块(6)，所述水平限位块(6)连接于所述气液分离装置(3)上，所述水平限位块(6)上设有限位孔，所述连接簧片(1)自由释放的一端置于所述限位孔中。4.根据权利要求1所述的管路柔性适应装置，其特征在于，还包括调整结构，所述调整结构包括水平调整垫片(7)，所述水平调整垫片(7)夹设于所述隔振结构(2)和所述气液分离装置(3)之间，所述水平调整垫片(7)用于对所述连接簧片(1)的水平位置进行调整。5.根据权利要求4所述的管路柔性适应装置，其特征在于，所述调整结构还包括垂向调整组件，所述垂向调整组件包括垂向定位块(81)、垂向调整垫片(82)和垂向连接块(83)，所述垂向定位块(81)连接...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈言亭，于宁，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：