【技术实现步骤摘要】
阳极组件、电镀装置和阳极组件的制作方法
[0001]本申请涉及电镀封装领域,特别涉及一种阳极组件、电镀装置和阳极组件的制作方法。
技术介绍
[0002]在半导体封装工艺中,需要利用电镀工艺在自晶圆切割形成的待封装裸片上形成再布线层,从而将待封装裸片上的焊点向外引出,并形成引脚。然而,目前的电镀工艺无法实现电镀均一性,换言之,在待封装裸片上形成再布线层时,再布线层的远离待封装裸片的表面无法形成一个平整的表面。由于工艺的限制,无法对直接连接待封装裸片的焊点的再布线层进行研磨,而表面不平整的再布线层会影响后续层级结构的形成,最终影响半导体封装结构的可靠性。
技术实现思路
[0003]本申请提供了一种阳极组件、电镀装置和阳极组件的制作方法,其可提升电镀均一性。
[0004]根据本申请的第一方面,提供一种阳极组件,所述阳极组件包括:
[0005]不溶性阳极网,包括正面,所述正面用于朝向待镀件;
[0006]绝缘阻挡件,至少一部分设置于所述不溶性阳极网的正面。
[0007]进一步的,所述不 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种阳极组件,其特征在于,所述阳极组件包括:不溶性阳极网,包括正面,所述正面用于朝向待镀件;绝缘阻挡件,至少一部分设置于所述不溶性阳极网的正面。2.如权利要求1所述的阳极组件,其特征在于,所述不溶性阳极网上开设有沿所述不溶性阳极网的厚度方向贯穿的通孔;所述绝缘阻挡件包括遮挡部和定位部,所述定位部进入所述通孔,所述遮挡部抵靠于所述不溶性阳极网的正面。3.如权利要求2所述的阳极组件,其特征在于,所述不溶性阳极网还包括背面,所述背面和所述正面沿所述不溶性阳极网的厚度方向相对设置;所述绝缘阻挡件还包括限位部,所述遮挡部和所述限位部分别连接于所述定位部的两端,并且,所述限位部抵靠于所述不溶性阳极网的背面。4.如权利要求2所述的阳极组件,其特征在于,沿远离所述绝缘阻挡件的轴线的方向,所述遮挡部的厚度逐渐减小。5.如权利要求2所述的阳极组件,其特征在于,所述遮挡部的远离所述定位部的端面向远离所述定位部的方向隆起。6.如权利要求1所述的阳极组件,其特征在于,所述不溶性阳极网上开设有沿所述不溶性阳极网的厚度方向贯穿的通孔,所述通孔的个数为多个,所述绝缘阻挡件包括遮挡部和卡位部,所述遮挡部抵靠于所述正面,所述卡位部设置于所述遮挡部的周侧,并且,所述卡位部的个数为多个,多个...
【专利技术属性】
技术研发人员:郭忠军,
申请(专利权)人:矽磐微电子重庆有限公司,
类型:发明
国别省市:
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