一种防漏光基板制造技术

本实用新型专利技术提供一种防漏光基板，所述防漏光基板由下至上依次包括基板、感应层和温变油墨层；所述防漏光基板包括显示区域和位于显示区域四周的非显示区域。本实用新型专利技术的温变油墨层在固烤前为无色，在此状态下方便检测引线，温变油墨层在固烤后发生不可逆的颜色变化，变为黑色，可防止屏幕基板出现漏光现象。可防止屏幕基板出现漏光现象。可防止屏幕基板出现漏光现象。

【技术实现步骤摘要】
一种防漏光基板


[0001]本技术属于有机电激发光二极管
，涉及一种防漏光基板。

技术介绍

[0002]由于制造工艺的限制，多数PMOLED(Passive Matrix OLED，被动矩阵有机电激发光二极管)显示屏都存在漏光的情况，屏幕漏光是由于屏幕与背板边框封装不严、故障或者老化引起的屏幕边缘泄露出光、在纯色背景上面板出现局部发白的现象。屏幕漏光严重影响使用者的感受和操作，进而出现一些失误操作的情况。
[0003]CN210182419U公开了一种发光器件及显示设备，其中发光器件包括：基板；封装层，与所述基板相对的设置；封装胶，设于所述基板与所述封装层之间，并与所述基板、所述封装层围成空腔，所述基板、所述封装层与所述封装胶的接触面为非平面；发光层，设于所述基板上并位于所述空腔内。由于基板与封装胶的接触面为非平面、封装层与封装胶的接触面为非平面，可以阻隔发光层发出的光线沿基板与封装胶的接触面、封装层与封装胶的接触面照出来，从而可防止该发光器件侧面漏光。但是，该技术提供的发光器件结构较为复杂。
[0004]因此，在本领域中，期望开发一种能够有效防止显示屏漏光的屏幕基板。

技术实现思路

[0005]针对现有技术的不足，本技术的目的在于提供一种防漏光基板。
[0006]为达到此目的，本技术采用以下技术方案：
[0007]本技术提供一种防漏光基板，所述防漏光基板由下至上依次包括基板、感应层和温变油墨层；
[0008]所述防漏光基板包括显示区域和位于显示区域四周的非显示区域。
[0009]在本技术中，温变油墨层的设置可有效防止显示屏漏光。
[0010]在本技术中，温变油墨层在固烤前为无色，在此状态下方便检测引线，温变油墨层在固烤后发生不可逆的颜色变化，变为黑色，可防止屏幕基板出现漏光现象。
[0011]需要说明的是，温变油墨层的材料为现有技术中的温变粉，可直接购买得到。
[0012]需要说明的是，本技术对显示区域的大小没有限制，可根据具体的产品需求进行设置。
[0013]作为本技术的优选技术方案，所述感应层由下至上依次包括氧化铟锡(ITO)蚀刻层、钼铝钼(MoAlMo)蚀刻层和聚酰亚胺(PI)蚀刻层。
[0014]作为本技术的优选技术方案，所述氧化铟锡蚀刻层位于显示区域及其四周。
[0015]作为本技术的优选技术方案，所述钼铝钼蚀刻层位于显示区域的四周。
[0016]作为本技术的优选技术方案，所述聚酰亚胺蚀刻层位于显示区域，且成网格分布。
[0017]作为本技术的优选技术方案，所述温变油墨层覆盖聚酰亚胺蚀刻层。
[0018]作为本技术的优选技术方案，选择在聚酰亚胺蚀刻层区域进行温变油墨印刷，可以提高引线检测的效率。
[0019]作为本技术的优选技术方案，所述温变油墨层还覆盖了基板的其他区域。即，温变油墨层覆盖了感应层和基板上无感应层的其他区域。
[0020]作为本技术的优选技术方案，所述基板为玻璃基板。
[0021]本技术，对防漏光基板的制备方法没有特殊限制，示例性地，可以采用如下方法：
[0022](1)在屏体基板的显示区域及其四周进行氧化铟锡(ITO)蚀刻；
[0023](2)在屏体基板的显示区域的四周进行钼铝钼(MoAlMo)蚀刻；
[0024](3)在屏体基板的显示区域进行聚酰亚胺(PI)蚀刻；
[0025](4)在聚酰亚胺蚀刻层以及其他区域涂覆温变油墨；
[0026](5)固烤：将涂覆有温变油墨的基板在210℃下进行固烤，在此过程中温变油墨在一定时间内发生颜色变化(从无色变成黑色)；
[0027](6)后续其他步骤：对屏体基板进行RIB光刻以及蒸镀。
[0028]涂覆温变油墨工序可以选择屏体大片基板下进行。但尽可能选择在屏体大片切割工序前进行，大片基板使用大型丝网印刷设备作业。相比小片模组的作业方式，可以提升作业效率，提高产能。
[0029]相对于现有技术，本技术具有以下有益效果：
[0030]本技术的温变油墨层在固烤前为无色，在此状态下方便检测引线，温变油墨层在固烤后发生不可逆的颜色变化，变为黑色，可防止屏幕基板出现漏光现象。
附图说明
[0031]图1为实施例1提供的防漏光基板的结构示意图。
[0032]其中，1
‑
显示区域，2
‑
非显示区域。
[0033]图2为实施例1提供的防漏光基板的俯视结构示意图。
[0034]其中，3
‑
基板，4
‑
氧化铟锡蚀刻层，5
‑
钼铝钼蚀刻层，6
‑
聚酰亚胺蚀刻层，7
‑
RIB光刻层。
具体实施方式
[0035]下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本技术的技术方案。本领域技术人员应该明了，所述具体实施方式仅仅是帮助理解本技术，不应视为对本技术的具体限制。
[0036]实施例1
[0037]在本实施例中提供一种如图1和图2所示的防漏光基板，所述防漏光基板由下至上依次包括基板3、感应层和温变油墨层；
[0038]所述防漏光基板包括显示区域1和位于显示区域四周的非显示区域2。
[0039]其中，感应层由下至上依次包括氧化铟锡蚀刻层4、钼铝钼蚀刻层5和聚酰亚胺蚀刻层6；氧化铟锡蚀刻层位于显示区域及其四周；钼铝钼蚀刻层位于显示区域的四周；聚酰亚胺蚀刻层位于显示区域，且成网格分布；温变油墨层覆盖聚酰亚胺蚀刻层以及基板的其
他区域；基板为玻璃基板。
[0040]本实施例的防漏光基板的制备方法包括以下步骤：
[0041](1)在玻璃基板的显示区域及其四周进行氧化铟锡蚀刻；
[0042](2)在玻璃基板的显示区域的四周进行钼铝钼蚀刻；
[0043](3)在玻璃基板的显示区域进行聚酰亚胺蚀刻；
[0044](4)在聚酰亚胺蚀刻层以及其他区域涂覆温变油墨；
[0045](5)固烤：将涂覆有温变油墨的基板在210℃下进行固烤，在此过程中温变油墨在一定时间内发生颜色变化(从无色变成黑色)；
[0046](6)后续其他步骤：对玻璃基板进行RIB光刻，形成RIB光刻层7，并进行蒸镀。
[0047]对比例1
[0048]在本对比例中提供一种防漏光基板，所述防漏光基板由下至上依次包括基板和感应层；
[0049]所述防漏光基板包括显示区域和位于显示区域四周的非显示区域。
[0050]其中，感应层由下至上依次包括氧化铟锡蚀刻层、钼铝钼蚀刻层和聚酰亚胺蚀刻层；氧化铟锡蚀刻层位于显示区域及其四周；钼铝钼蚀刻层位于显示区域的四周；聚酰亚胺蚀刻层位于显示区域，且成网格分布；基板为玻璃基板。
[0051]本对比例的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种防漏光基板，其特征在于，所述防漏光基板由下至上依次包括基板、感应层和温变油墨层；所述防漏光基板包括显示区域和位于显示区域四周的非显示区域。2.根据权利要求1所述的防漏光基板，其特征在于，所述感应层由下至上依次包括氧化铟锡蚀刻层、钼铝钼蚀刻层和聚酰亚胺蚀刻层。3.根据权利要求2所述的防漏光基板，其特征在于，所述氧化铟锡蚀刻层位于显示区域及其四周。4.根据权利要求2所述的防漏光基板，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：王鹏，吴磊，刘宏俊，曹荣，
申请(专利权)人：苏州清越光电科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：