基于光传感的电镀集控区电镀废水处理记录结构制造技术

本发明专利技术涉及废水处理技术，特别是电镀行业的废水处理管理，确切说是基于光传感的电镀集控区电镀废水处理记录结构，其特征是：包括：空腔球体（6

【技术实现步骤摘要】
基于光传感的电镀集控区电镀废水处理记录结构
[0001]本案是专利技术名称“一种基于电镀集控区管道流量的生产监管方法”、申请日“2021/3/16”、“2021102828280”的分案申请。


[0002]本专利技术涉及废水处理技术，特别是电镀行业的废水处理管理，确切说是基于光传感的电镀集控区电镀废水处理记录结构。

技术介绍

[0003]电镀行业的废水产量相对于造纸、印染和化工等行业水量少，但是由于电镀厂分布广泛，电镀废水中含有的有害物质种类众多，因此，对电镀废水的处理十分重要。电镀废水中主要含有铬、锌、铜、铅、镍等重金属离子，以及容易致癌的氰化物等。这些物质如果直接排放到大自然中，一方面会对环境造成极大的污染，严重威胁动植物的生命安全。另一方面，电镀废水中的重金属离子经过回收之后还能再利用，直接排放的话会造成资源的浪费。
[0004]当下对电镀废水的处理要么是针对一两种物质进行处理，要么就是对所有的物质进行混合处理。针对一两种电镀废水进行处理的污水治理系统，不能很好的应对污水种类多的情况。而所有的电镀废水一视同仁的进行处理的系统，往往因为针对性不强，直接导致处理效果不是很好。
[0005]现有的电镀行业环境风险管理中，采用规范园区建设管理，专业电镀厂房为多层建筑结构以提高建筑用地容积率以及建筑密度；一层用于仓储及综合办公;对于质轻量少的镀种放置较高层，量大质重的镀种宜安排在低层，根据废水分类收集设置废水收集房及收集槽便于水质原因筛查，初步过滤沉淀后，利用重力作用自流排入管沟；管沟可实现巡视、检修、事故废水无外泄功能，杜绝环境污染风险。
[0006]此外，由于电镀废水中含有铬、锌、铜、铅、镍多种物质，处理后的水需要不同的管路进行排污在大自然中，什么时间排，排多少，一方面涉及电镀行业生产管控，也涉及监督管理部门对电镀行业的管控，而这者往往是矛盾的双方。
[0007]上述提到的铬、锌、铜、铅、镍等重金属离子通过重力直接排放到大自然中，也就是在出口是没有计量和检测的，或者是没有装入计量和检测设备，因此排放量或涉及的生产过程在最后一环没有管控，为监督管理部门对电镀企业的管控带来了麻烦。

技术实现思路

[0008]本专利技术的目的是提供基于光传感的电镀集控区电镀废水处理记录结构，以便能随时了解生产状态和不同时间铬、锌、铜、铅、镍处理水的排放量。
[0009]本专利技术的目的是这样实现的，基于光传感的电镀集控区电镀废水处理记录结构，其特征是：包括：空腔球体6
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3、球形透镜6
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4、四象限光电传感器6
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6、振动传感接触面6
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5、流体传感控制单元6
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1、发光管6
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2、第二支撑杆7和第一支撑杆8构成的下管路流体传感器6
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2，第二支撑杆7和第一支撑杆8一端一下一上的连接在上下隔层管架支撑
柱4上，第一支撑杆8的另一端下端与空腔球体6
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3顶部连接，第二支撑杆7一端支撑在第一支撑杆8上，第二支撑杆7、第一支撑杆8和上下隔层管架支撑柱4形成三角结构连接，空腔球体6
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3悬挂在下隔层管架固定的排放管路1上；空腔球体6
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3下端的振动传感接触面6
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5与排放管路1上的顶部动态接触；空腔球体6
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3上顶部腔体内固定流体传感控制单元6
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1，流体传感控制单元6
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1电连接有发光管6
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2，发光管6
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2发光头向腔体中心垂直向下发光，空腔球体6
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3的腔体底部有球形透镜6
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4，球形透镜6
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4下端有四象限光电传感器6
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6，在稳定状态下，发光管6
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2发光头向腔体中心垂直向下发光，通过球形透镜6
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4后投影在四象限光电传感器6
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6上，由四象限光电传感器6
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6获取稳定的信号。
[0010]所述的下管路流体传感器6
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2工作方法是：流体通过排放管路1排放液体，从而使排放管路1产生微振动，这一微振动会影响空腔球体6
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3的振动，由此使球形透镜6
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4在空腔球体6
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3内滚动，由发光管6
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2发光头向腔体中心垂直向下发光时，不会稳定的将光投在四象限光电传感器6
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6上，四象限光电传感器6
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6将输出随振动频率和幅度变化的信号，四象限光电传感器6
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6输出的幅度和频率变化的电信号由流体传感控制单元6
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1处理，通过通信网将传到上位机，由上位机随时记录和处理，并通知给相关管理人员，以确定这一位置对应管路是属铬、锌、铜、铅、镍的那一种，实现废水处理的时间和时间对应的流量的管控。
[0011]所述的下管路流体传感器6
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2或包括一对，对称固在上下隔层管架支撑柱4的两侧，同时悬挂在下隔层管架固定的左右排放管路1上。
[0012]所述的排放管路1或是铬处理水排放管路，或是锌处理水排放管路，或是铜处理水排放管路，或是铅处理水排放管路，或是镍处理水的放管路。
[0013]本专利技术的优点是：本专利技术通过在电镀集控区管道处理废水排放集中区，建立集中管路，通过合理布置和设计排放管路结构，在不破坏现有的管路状态下，实现排放管的的生产监控，以便能随时了解生产状态和不同时间铬、锌、铜、铅、镍处理水的排放量。为监督管理部门对电镀企业的管控带来了方便。
[0014]流体流动传感单元采用一体式设计，同时适应在不同状态下对排水管路的安装和布置，具有结构合理，一点可获取三路排水管的排废水信息，具有成本低的特点。
附图说明
[0015]下面结合实施例及附图对本专利技术作进一步说明：图1是本专利技术实施例结构示意图；图2是本专利技术实施例俯视结构示意图；图3
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1是本专利技术上管路流体传感器结构示意图；图3
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2是本专利技术下管路流体传感器结构示意图；图4是本专利技术实施例第二传感器结构示意图；图5是系统检测一根排放管路信号输出图；图6是系统检测多根排放管路信号输出图；图7是本专利技术网络结构示意图。
[0016]图中，1、排放管路；2、上隔层管架；3、下隔层管架；4、上下隔层管架支撑柱；5、排放
管路固定夹持架；6、流体流动传感单元；7、第二支撑杆；8、第一支撑杆；9、数字流量测量单元；10、共公网络通信单元；11、后台计算机或其它终端；12、空间分界线；13、电镀集控区管道处理费水排放集中区；1
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1、上管路；1
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2、下本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.基于光传感的电镀集控区电镀废水处理记录结构，其特征是：包括：空腔球体（6
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3）、球形透镜（6
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4）、四象限光电传感器（6
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6）、振动传感接触面（6
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5）、流体传感控制单元（6
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1）、发光管（6
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2）、第二支撑杆（7）和第一支撑杆（8）构成的下管路流体传感器（6
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2），第二支撑杆（7）和第一支撑杆（8）一端一下一上的连接在上下隔层管架支撑柱（4）上，第一支撑杆（8）的另一端（下端）与空腔球体（6
‑2‑
3）顶部连接，第二支撑杆（7）一端支撑在第一支撑杆（8）上，第二支撑杆（7）、第一支撑杆（8）和上下隔层管架支撑柱（4）形成三角结构连接，空腔球体（6
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3）悬挂在下隔层管架固定的排放管路（1）上；空腔球体（6
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3）下端的振动传感接触面（6
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5）与排放管路（1）上的顶部动态接触；空腔球体（6
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3）上顶部腔体内固定流体传感控制单元（6
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1），流体传感控制单元（6
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1）电连接有发光管（6
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2），发光管（6
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2）发光头向腔体中心垂直向下发光，空腔球体（6
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3）的腔体底部有球形透镜（6
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4），球形透镜（6
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4）下端有四象限光电传感器（6
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6），在稳定状态下，发光管（6
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2）发光头向腔体...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑志发，费西凯，吴健，余小军，李凯军，
申请(专利权)人：中国启源工程设计研究院有限公司，
类型：发明
国别省市：