一种半导体清理设备制造技术

本发明专利技术公开了一种半导体清理设备，包括水箱和清理箱，所述水箱的侧壁贯穿插设有出水管和进水管，所述出水管与水箱的下部接通，所述进水管与水箱的上部接通，所述水箱的内部固定有水泵，所述水泵出水口与进水管接通，所述水箱的内底部固定有电机，所述电机的输出轴固定有底轴，所述水箱的内壁固定有滤网，所述底轴与滤网贯穿转动连接，所述底轴的侧壁固定有刮板，所述刮板与滤网的上端面相抵。优点在于：本发明专利技术中，驱动叶能够推动底部水流，使其向上转移，结构喷气带来的动能支持，使得晶圆能够保持在清理箱中游位置而处于浮动状态，进而能够实现浸洗和冲洗的双重效果。实现浸洗和冲洗的双重效果。实现浸洗和冲洗的双重效果。

【技术实现步骤摘要】
一种半导体清理设备


[0001]本专利技术涉及半导体
，尤其涉及一种半导体清理设备。

技术介绍

[0002]在半导体的制造过程中，需要图形转移工艺，其中包括光刻工艺，光刻工艺是一种图形复印技术，是半导体制造工艺中一项关键的技术，光刻受到照相技术的启发，利用光刻胶感光特性，将光刻掩膜板的图形精确地复印到涂在晶圆上的光刻胶上。
[0003]晶圆在加工时，经历了晶棒的切割，然后表面在进行毛刺边角的打磨处理，需要进行有效的清洗才能进行后续的使用，而现有的晶圆清理设备无法做到持续高效的清洗，并且晶圆表面进行清洗后，需要对晶圆表面进行烘干，而现有设备清洗和烘干分开处理，晶圆需要转移，过程相对繁琐，并且烘干过程面临热量集聚带来的损伤风险。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的是为了解决现有技术中清理效果差的问题，而提出的一种半导体清理设备。
[0005]为了实现上述目的，本专利技术采用了如下技术方案：一种半导体清理设备，包括水箱和清理箱，所述水箱的侧壁贯穿插设有出水管和进水管，所述出水管与水箱的下部接通，所述进水管与水箱的上部接通，所述水箱的内部固定有水泵，所述水泵出水口与进水管接通，所述水箱的内底部固定有电机，所述电机的输出轴固定有底轴，所述水箱的内壁固定有滤网，所述底轴与滤网贯穿转动连接，所述底轴的侧壁固定有刮板，所述刮板与滤网的上端面相抵，所述底轴的上端固定有丝杆，所述丝杆的上端固定有顶轴，所述顶轴的上端固定有驱动叶，所述清理箱的内壁滑动连接有承载板，所述承载板的上端贯穿开设有涡流孔，所述涡流孔与驱动叶位置相对应，所述丝杆的侧壁设有推进机构，所述底轴的侧壁设有换电机构。
[0006]在上述的半导体清理设备中，所述推进机构包括与丝杆侧壁螺纹连接的滑块，所述滑块的外壁通过单向轴承转动连接有转套，所述转套的侧壁通过连杆连接有推杆，所述推杆与清理箱的底部密封贯穿滑动连接，所述推杆顶部与承载板底部相抵，所述丝杆为往复丝杆。
[0007]在上述的用于室内装潢的垂直绿化装置中，所述承载板的上端贯穿开设有多个喷孔，所述清理箱的底部贯穿固定有一组外喷头和一组内喷头，所述外喷头和内喷头均与喷孔位置对应，所述外喷头和内喷头分别与外设的两组气泵连接，所述外喷头朝向清理箱中心倾斜设置，所述内喷头朝向清理箱外围边缘倾斜设置。
[0008]在上述的用于室内装潢的垂直绿化装置中，所述换电机构包括固定于底轴周向侧壁的换电套，所述换电套的内壁通过复位弹簧连接有接电块，所述换电套的内壁固定有一对内接电板和一对外接电板，所述清理箱的上端固定有吸附套，所述底轴贯穿吸附套，所述吸附套的外壁固定有吸附块，所述吸附块为永磁铁且能够吸引接电块。
[0009]在上述的用于室内装潢的垂直绿化装置中，所述出水管位于滤网上部，所述水泵
位于滤网下部，所述顶轴与清理箱的底部密封贯穿转动连接。
[0010]与现有的技术相比，本专利技术的优点在于：
[0011]1、本专利技术中，利用两组喷头的喷气加持，使得水流充分冲击晶圆，提高清洗效果，并且内喷头和外喷头的喷射角度相反，使得晶圆能够受到不同角度的水流冲击，大幅提高清理效果，并且在长期处理过程中，晶圆收到相对平衡的处理，从而保持位置的相对稳定，避免晶圆与清理箱内壁发生不断的碰撞；
[0012]2、本专利技术中，驱动叶能够推动底部水流，使其向上转移，结构喷气带来的动能支持，使得晶圆能够保持在清理箱中游位置而处于浮动状态，进而能够实现浸洗和冲洗的双重效果；
[0013]3、本专利技术中，杂质被刮板带走后，将在刮板转动过程中受到离心力作用，进而向水箱的边缘转移，刮板表面保持一定程度的洁净，从而保证滤网中间位置的有效性，从而能够面对连续的清洗过程；
[0014]4、本专利技术中，清洗后放置在承载板上的晶圆能够随之上下转移，进而在转移过程中消除热气流的集中冲击，从而避免热气流烘干带来的损伤；
[0015]5、本专利技术中，热气流呈现间歇性喷出，而清理箱内部气流也间歇性被抽取，故而能够实现过度热量的有效转移，避免烘干带来的热量集聚，同时向下的抽吸能够更加轻易的带走表面大颗粒水珠，从而加速前期的烘干过程，提高整体的烘干效率。
附图说明
[0016]图1为本专利技术提出的一种半导体清理设备的轴侧结构示意图；
[0017]图2为本专利技术提出的一种半导体清理设备的正面结构示意图；
[0018]图3为本专利技术提出的一种半导体清理设备的侧面结构示意图；
[0019]图4为本专利技术提出的一种半导体清理设备的半剖轴侧示意图；
[0020]图5为本专利技术提出的一种半导体清理设备的半剖正面示意图；
[0021]图6为本专利技术提出的一种半导体清理设备中底轴部分的结构示意图；
[0022]图7为本专利技术提出的一种半导体清理设备的俯视结构示意图；
[0023]图8为本专利技术提出的一种半导体清理设备中换电套部分的轴侧结构示意图；
[0024]图9为本专利技术提出的一种半导体清理设备中换电套部分的俯视图。
[0025]图中：1水箱、2清理箱、3出水管、4进水管、5水泵、6电机、7底轴、8滤网、9刮板、10丝杆、11顶轴、12驱动叶、13承载板、14喷孔、15外喷头、16内喷头、17换电套、18吸附套、19吸附块、20复位弹簧、21接电块、22内接电板、23外接电板、24滑块、25转套、26连杆、27推杆、28涡流孔。
具体实施方式
[0026]以下实施例仅处于说明性目的，而不是想要限制本专利技术的范围。
[0027]实施例
[0028]参照图1
‑
9，一种半导体清理设备，包括水箱1和清理箱2，水箱1的侧壁贯穿插设有出水管3和进水管4，出水管3与水箱1的下部接通，进水管4与水箱1的上部接通，水箱1的内部固定有水泵5，水泵5出水口与进水管4接通，水箱1的内底部固定有电机6，电机6的输出轴
固定有底轴7，水箱1的内壁固定有滤网8，底轴7与滤网8贯穿转动连接，底轴7的侧壁固定有刮板9，刮板9与滤网8的上端面相抵，刮板9呈“L”形结构，能够将杂质刮取至刮板9表面，并利用离心力将杂质向边缘甩出，从而保证滤网8的有效性，底轴7的上端固定有丝杆10，丝杆10的上端固定有顶轴11，顶轴11的上端固定有驱动叶12，清理箱2的内壁滑动连接有承载板13，承载板13的上端贯穿开设有涡流孔28，涡流孔28与驱动叶12位置相对应，丝杆10的侧壁设有推进机构，底轴7的侧壁设有换电机构。
[0029]推进机构包括与丝杆10侧壁螺纹连接的滑块24，滑块24的外壁通过单向轴承转动连接有转套25，转套25的侧壁通过连杆26连接有推杆27，推杆27与清理箱2的底部密封贯穿滑动连接，推杆27顶部与承载板13底部相抵，丝杆10为往复丝杆，丝杆10的正向回转，将会带动滑块24同步回转，故而滑块24不会上下移动，而丝杆10的反向回转，将导致滑块24受到单向轴承的限制，受到推杆27的限位而无法转动，故而将上下运动，往复丝杆则能够通过丝杆10的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半导体清理设备，包括水箱(1)和清理箱(2)，其特征在于，所述水箱(1)的侧壁贯穿插设有出水管(3)和进水管(4)，所述出水管(3)与水箱(1)的下部接通，所述进水管(4)与水箱(1)的上部接通，所述水箱(1)的内部固定有水泵(5)，所述水泵(5)出水口与进水管(4)接通，所述水箱(1)的内底部固定有电机(6)，所述电机(6)的输出轴固定有底轴(7)，所述水箱(1)的内壁固定有滤网(8)，所述底轴(7)与滤网(8)贯穿转动连接，所述底轴(7)的侧壁固定有刮板(9)，所述刮板(9)与滤网(8)的上端面相抵，所述底轴(7)的上端固定有丝杆(10)，所述丝杆(10)的上端固定有顶轴(11)，所述顶轴(11)的上端固定有驱动叶(12)，所述清理箱(2)的内壁滑动连接有承载板(13)，所述承载板(13)的上端贯穿开设有涡流孔(28)，所述涡流孔(28)与驱动叶(12)位置相对应，所述丝杆(10)的侧壁设有推进机构，所述底轴(7)的侧壁设有换电机构。2.根据权利要求1所述的一种半导体清理设备，其特征在于，所述推进机构包括与丝杆(10)侧壁螺纹连接的滑块(24)，所述滑块(24)的外壁通过单向轴承转动连接有转套(25)，所述转套(25)的侧壁通过连杆(26)连接有推杆(27)，所述推杆(27)与清理箱(2)的...

【专利技术属性】
技术研发人员：梁惠平，
申请(专利权)人：梁惠平，
类型：发明
国别省市：