【技术实现步骤摘要】
自适应平参参考面的抛光吸盘
[0001]本技术涉及半导体制备技术及制备设备,具体的,其展示一种自适应平参参考面的抛光吸盘。
技术介绍
[0002]在硅片的制备过程,包括硅片的边缘抛光工序,在加工平参产品时,由于平参面长度较长,寻参仪定位后需要机械手进行传递,硅片传递到加工吸盘时,参考面很难整面和抛光垫贴合均匀,会导致硅片的两边的边抛效果不一致,且重掺产品无法通过目检辨别损伤层异常,导致产品外延后出现白边,影响产品质量。
[0003]因此,有必要提供一种自适应平参参考面的抛光吸盘来解决上述问题。
技术实现思路
[0004]本技术的目的是提供一种自适应平参参考面的抛光吸盘。
[0005]技术方案如下:
[0006]一种自适应平参参考面的抛光吸盘,包括装载块,装载块的中部设置有装载槽,装载槽内设置有吸盘设置块,吸盘设置块包括设置于装载槽内的设置块主体,设置块主体上端设置有吸盘承接块,吸盘承接块上设置有吸盘;
[0007]装载块上对应吸盘承接块设置有调节环台,吸盘承接块对应调节环台设置有调节槽,吸盘推进至抛光垫位进行抛光垫承接,后加压,吸盘承接块以调节环台为基点自适应的进行对应抛光垫调节,使抛光垫表面均匀贴合于用作平参参考面的吸盘表面,形成自适应式高质量硅片抛光加工结构。
[0008]进一步的,调节环台上设置有调节支槽,调节槽内对应调节支槽设置有调节支柱。
[0009]进一步的,调节槽内对应调节环台及吸盘承接块设置有辅助支撑块。
[0010]进一步的,装载槽 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种自适应平参参考面的抛光吸盘,其特征在于:包括装载块,装载块的中部设置有装载槽,装载槽内设置有吸盘设置块,吸盘设置块包括设置于装载槽内的设置块主体,设置块主体上端设置有吸盘承接块,吸盘承接块上设置有吸盘;装载块上对应吸盘承接块设置有调节环台,吸盘承接块对应调节环台设置有调节槽,吸盘推进至抛光垫位进行抛光垫承接,后加压,吸盘承接块以调节环台为基点自适应的进行对应抛光垫调节,使抛光垫表面均匀贴合于用作平参参考面的吸盘表面,形成自适应式高质量硅片抛光加工结构。2.根据权利要求1所述的一种自适应平参参考面的抛光吸盘,其特征在于:调节环台上设置有调节支槽,调节槽内对应调节支槽设置有调节支柱。3.根据权利要求2所述的一种自适应平参参考面的抛光吸盘,其特征在于:调节槽内对应调节环台及吸盘承接块设置有辅助支撑块。4.根据权利要求3所述的一种自适应平参参考面的抛光吸盘,其特征在于:装载槽内对应设置块主体设置有由调心滚子轴承构成的调节式固定块。5.根据权利要求4...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈良臻,沈俊熙,王维师,孙晨光,王彦君,曹锦伟,
申请(专利权)人:中环领先半导体材料有限公司,
类型:新型
国别省市:
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