一种菱形角度溅射靶材的加工方法技术

本发明专利技术提供了一种菱形角度溅射靶材的加工方法，属于靶材制备领域。本发明专利技术方法具体包括以下步骤：将靶材胚料上下面经磨削处理，得到达到最终厚度尺寸的靶材；然后将靶材的侧面经磨削处理，得到达到最终长宽尺寸的靶材；再将靶材的侧面经菱形角度边磨削处理，得到菱形角度边靶材；最后将得到的靶材的溅射面进行精磨削处理，得到菱形溅射靶材。本发明专利技术加工方法较传统方法的加工时间短，成本低，产品质量好，产品合格率高。产品合格率高。

【技术实现步骤摘要】
一种菱形角度溅射靶材的加工方法


[0001]本专利技术属于靶材制备
，具体涉及一种菱形角度溅射靶材的加工方法。

技术介绍

[0002]溅谢靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储器、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等的制造；亦可应用于玻璃镀膜制造领域；还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等制造行业。随着电子产业高速发展，集成电路制造过程中，集成电路电子器件集成度不断提高，制造工艺对溅谢靶材的要求越来越严格。其中，对于溅谢靶材而言，一般质量要求主要包括尺寸、平整度、纯度、合成含量、密度、晶粒尺寸与缺陷控制等方面。此外，还包括对于面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成分与组织均匀性、异物(氧化物)含量与尺寸、倒磁率、超高密度与超细晶粒等方面的要求。而随着技术的发展，制造领域对于溅谢靶材提出了更高和更多的质量要求。例如，需要靶材溅谢面不再是平面结构的靶材，其中包括溅谢面有V型、凹型及斜边形状的靶材。但是，目前在非平面结构的靶材制造的机械加工过程中，靶材容易出现崩边、崩角现象，存在靶材加工成品率低、成本高、加工过程费时费力的问本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种菱形角度溅射靶材的加工方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：(1)将靶材胚料上下面经磨削处理，得到达到最终厚度尺寸的靶材；(2)将步骤(1)得到靶材的侧面经磨削处理，得到达到最终长宽尺寸的靶材；(3)将步骤(2)得到的靶材的侧面经菱形角度边磨削处理，得到菱形角度边靶材；(4)将步骤(3)得到的靶材的溅射面进行精磨削处理，得到菱形溅射靶材。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤(1)至步骤(3)中，所述磨削处理使用砂轮进行磨削；所述砂轮的目数为150
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200目。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤(1)至步骤(3)中，所述磨削处理过程中砂轮的转速为3500
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4500r/min，砂轮的进给量为0.5
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1mm/次，进给速度为80
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120mm/min。4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤(1)至步骤(2)中，所述磨削处理使用平面树脂金刚石砂轮。5.根据权利要求1所述的方...

【专利技术属性】
技术研发人员：植锐俊，周荣艳，胡智向，文崇斌，
申请(专利权)人：先导薄膜材料广东有限公司，
类型：发明
国别省市：