【技术实现步骤摘要】
一种臭氧水制备装置
[0001]本技术涉及半导体加工
,尤其涉及一种臭氧水制备装置。
技术介绍
[0002]半导体加工过程中,例如晶圆湿法清洗工艺中,通常需要利用臭氧水对晶圆进行清洗,能够使得晶圆表面的有机污渍被氧化去除,通过臭氧水清洗晶圆,还能在晶圆表面形成一层致密的氧化膜以起到保护晶圆的作用。由于臭氧在水中的溶解相对不稳定,因此通常在使用时进行臭氧水的制备,相关技术中,臭氧水中臭氧的溶解效率相对较低,造成臭氧的浪费。
技术实现思路
[0003]本技术实施例提供了一种臭氧水制备装置,以解决现有臭氧水制备设备过程中臭氧溶解效率低导致臭氧浪费的问题。
[0004]本技术实施例提供了一种臭氧水制备装置,包括水箱、臭氧发生器和震荡搅拌装置,所述水箱上设置有第一进气口、进水口和出水口,所述第一进气口与所述臭氧发生器连接,所述震荡搅拌装置用于震荡搅拌所述水箱内的液体,所述出水口与所述水箱底部之间的距离大于所述第一进气口与所述水箱底部之间的距离。
[0005]在一些实施例中,所述水箱上还设置有第二进 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种臭氧水制备装置,其特征在于,包括水箱、臭氧发生器和震荡搅拌装置,所述水箱上设置有第一进气口、进水口和出水口,所述第一进气口与所述臭氧发生器连接,所述震荡搅拌装置用于震荡搅拌所述水箱内的液体,所述出水口与所述水箱底部之间的距离大于所述第一进气口与所述水箱底部之间的距离。2.根据权利要求1所述的臭氧水制备装置,其特征在于,所述水箱上还设置有第二进气口,所述第二进气口与二氧化碳发生装置连接。3.根据权利要求1所述的臭氧水制备装置,其特征在于,所述水箱上还设置有排气口,所述排气口上设置有泄压阀,所述泄压阀配置为在所述水箱内的压力大于预设压力阈值时,沿着由所述水箱内部到外部的方向开启。4.根据权利要求1所述的臭氧水制备装置,其特征在于,所述震荡搅拌装置设置于所述水箱内部,且所述震荡搅拌装置位于所述第一进气口和所述出水口之间;或者所述震荡搅拌装置贴附于所述水箱底部的外侧。5.根据权利要求1所述的臭氧水制备装置,其特征在于,所述进水口与所述水箱的顶部之间的距离小于所述出水口与所述水箱顶部之间的距离,所述水箱内还设置有稳流板,所述稳流板设置于所述进水口和所述出水口之间,所述稳流板上开设有...
【专利技术属性】
技术研发人员:苏建生,
申请(专利权)人:西安奕斯伟材料科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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