酸性制程废气的处理装置制造方法及图纸

技术编号:33747064 阅读:53 留言:0更新日期:2022-06-08 21:47
本申请提供一种酸性制程废气的处理装置,其包含一壳体,该壳体的二侧各别设有一入气口以及一出气口,一第一洒水装置设置于该壳体的一内侧,该第一洒水装置对应设置于该入气口的一侧,一第二洒水装置设置于该壳体的内侧,该第二洒水装置对应设置于该第一洒水装置以及该出气口之间,一循环组件包含的一集水箱连通该壳体的一下方,循环组件包含的一水泵的一侧连通该集水箱,该水泵的另一侧连通该第一洒水装置以及该第二洒水装置,一过滤装置连通该出气口;利用二个洒水装置增加过滤废气中酸性物质的效率。质的效率。质的效率。

【技术实现步骤摘要】
酸性制程废气的处理装置


[0001]本申请是关于一种酸性制程废气的处理装置,尤其是指一种利用水雾过滤废气中包含的酸性物质的装置。

技术介绍

[0002]硫酸气体随着高温制程的排放,于废气中易形成微小悬浮的硫酸液滴,废气中的氧化硫(SO3)遇水气会反应形成气态硫酸,当废气温度低于硫酸的露点时,气态硫酸开始冷凝成次微米尺寸的硫酸液滴,若直接排放,将对环境产生严重的污染;一直以来,硫酸废气排放为各空污去除法中困难解决的目标,因此相关产业的空污被重点管制,使相关产业纷纷被限制硫酸排放总量。
[0003]随着相关产业被限制硫酸排放总量,近年来,于高硫酸排放量的产业是半导体相关产业,于半导体制程中经常使用大量有机溶剂及酸碱溶液、气体来进行蚀刻或清洁,部分化学物质会因挥发而被排气系统收集。随着产业产能遽增,制造过程产生废气也随的增加,使半导体相关产业面临废弃包含的硫酸液滴去除的巨大挑战;因此提升废气中酸性物质的去除效率,逐渐成为此业界重要课题。
[0004]现有技术使用于酸性液滴的过滤技术,主要是静电除尘法,但此种方法于半导体业界不具适用性,其原因主要是制程废气中,通常具有一定成份的有机溶剂,因此采用静电除尘方法时,具有燃烧的风险存在,而其它现有技术过滤技术的结构体积过大,或能耗过多,例如筛板塔、填充塔,使目前仍无适当的方式可以适用于半导体厂,因此产业界急需开发一种能高效率去除酸性物质的洗涤装置。
[0005]有鉴于上述现有技术的问题,本申请提供一种酸性制程废气的处理装置,其利用壳体内设置的二组洒水装置喷洒水雾,并对应喷洒经过的流体,以去除流体所包含的酸性物质。

技术实现思路

[0006]本申请所要解决的技术问题在于提供一种酸性制程废气的处理装置,其是于壳体内设置的第一洒水装置,第一洒水装置喷洒水雾至经过的流体,以去除废气所包含的酸性物质,并于壳体内设置的第二洒水装置,再以第二洒水装置喷洒水雾至已过滤一次的流体,进一步去除流体所包含的酸性物质,利用二组洒水装置提升酸性物质的过滤效率。
[0007]为达到上述所指称的各目的与功效,本申请提供一种酸性制程废气的处理装置,其包含一壳体、一第一洒水装置、一第二洒水装置、一循环组件以及一过滤装置,该壳体的二侧各别设有一入气口以及一出气口,该第一洒水装置,其设置于该壳体的一内侧,该第一洒水装置对应设置于该入气口的一侧,该第一洒水装置包含多个第一二流体喷嘴雾化器,该第二洒水装置设置于该壳体的内侧,该第二洒水装置对应设置于该第一洒水装置的另一侧,且该第二洒水装置设置于该出气口的一下方,该第二洒水装置包含多个第二二流体喷嘴雾化器,该循环组件包含一集水箱以及一水泵,该集水箱连通该壳体的一下方,该水泵的
一侧连通该集水箱,该水泵的另一侧连通该第一洒水装置的该些个第一二流体喷嘴雾化器以及该第二洒水装置的该些个第二二流体喷嘴雾化器,其中,该些个第一二流体喷嘴雾化器以及该些个第二二流体喷嘴雾化器是二流体喷嘴雾化器,该过滤装置的一侧连通该出气口;利用此结构提供可处理酸性制程废气的装置。
[0008]本申请的一实施例中,其中一第一流体由该入气口进入至该壳体的该内侧,该第一流体再经过该第一洒水装置,该第一流体经过该第一洒水装置后,该第一流体经过该第二洒水装置,该第一流体经过该第二洒水装置后,该第一流体由该出气口排出。
[0009]本申请的一实施例中,其中该第一洒水装置喷洒一第二流体,该第二流体与经过的该第一流体混合接触,该第二流体再流至该集水箱,该水泵抽取该第二流体至该第一洒水装置;该第二洒水装置喷洒一第三流体,该第三流体与经过的该第一流体混合接触,该第三流体再流至该集水箱,该水泵抽取该第三流体至该第二洒水装置。
[0010]本申请的一实施例中,更包含一送风装置,其一侧连通该过滤装置。
[0011]本申请的一实施例中,其中该入气口的一外侧连通一入气管路,该入气管路向该入气口的方向由上往下呈一斜度设置。
[0012]本申请的一实施例中,其中该壳体的该内侧设置一隔板,该隔板设置于该第一洒水装置以及该第二洒水装置之间。
[0013]有关本申请的其它功效及实施例的详细内容,配合图式说明如下。
附图说明
[0014]为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请中记载的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它的附图。
[0015]图1是本申请的一实施例的结构示意图;
[0016]图2是本申请的一实施例的流体流动示意图;
[0017]图3是本申请的一实施例的入气结构示意图;
[0018]图4是本申请的一实施例的其他结构示意图;以及
[0019]图5是本申请的另一实施例的结构示意图。
[0020]符号说明
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酸性制程废气的处理装置
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10 壳体
[0022]12 入气口
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14 出气口
[0023]16 入气管路
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18 隔板
[0024]20 第一洒水装置
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22 第一二流体喷嘴雾化器
[0025]30 第二洒水装置
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32 第二二流体喷嘴雾化器
[0026]40 循环组件
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42 集水箱
[0027]44 水泵
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50 过滤装置
[0028]60 送风装置
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A
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第一流体
[0029]W1 第二流体
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W2 第三流体
具体实施方式
[0030]在下文的实施方式中所述的位置关系,包括:上,下,左和右,若无特别指明,皆是以图式中组件绘示的方向为基准。
[0031]有鉴于上述现有技术的问题,本申请是于一壳体的二侧各别设有一入气口以及一出气口,一第一洒水装置设置于该壳体的一内侧,该第一洒水装置对应设置于该入气口的一侧,一第二洒水装置设置于该壳体的内侧,该第二洒水装置对应设置于该第一洒水装置以及该出气口之间,一循环组件包含的一集水箱以及一水泵,用于回收该第一洒水装置以及该第二洒水装置所喷洒的流体,利用二个洒水装置增加过滤废气中酸性物质的效率,解决现有技术过滤技术的结构体积过大或能耗过多的问题。
[0032]请参阅图1,其为本申请的一实施例的结构示意图,如图所示,本实施例是一种酸性制程废气的处理装置,其包含一壳体10、一第一洒水装置20、一第二洒水装置30、一循环组件40以及一过滤装置50;于本实施例本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种酸性制程废气的处理装置,其特征在于,包含一壳体,其二侧各别设有一入气口以及一出气口;一第一洒水装置,其设置于该壳体的一内侧,该第一洒水装置对应设置于该入气口的一侧,该第一洒水装置包含多个第一二流体喷嘴雾化器;一第二洒水装置,其设置于该壳体的内侧,该第二洒水装置对应设置于该第一洒水装置的另一侧,且该第二洒水装置设置于该出气口的一下方,该第二洒水装置包含多个第二二流体喷嘴雾化器;一循环组件,其包含一集水箱以及一水泵,该集水箱连通该壳体的一下方,该水泵的一侧连通该集水箱,该水泵的另一侧连通该第一洒水装置的该些个第一二流体喷嘴雾化器以及该第二洒水装置的该些个第二二流体喷嘴雾化器;以及一过滤装置,其一侧连通该出气口。2.根据权利要求1所述的酸性制程废气的处理装置,其特征在于,一第一流体由该入气口进入至该壳体的该内侧,该第一流体再经过该第一洒水装置,该第一流体经过该第一洒水装置后,该第一流体经过该第二洒水装置,该第...

【专利技术属性】
技术研发人员:卓冠宏
申请(专利权)人:奇鼎科技股份有限公司
类型:新型
国别省市:

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