酸性制程废气的处理装置制造方法及图纸

技术编号:33747064 阅读:86 留言:0更新日期:2022-06-08 21:47
本申请提供一种酸性制程废气的处理装置,其包含一壳体,该壳体的二侧各别设有一入气口以及一出气口,一第一洒水装置设置于该壳体的一内侧,该第一洒水装置对应设置于该入气口的一侧,一第二洒水装置设置于该壳体的内侧,该第二洒水装置对应设置于该第一洒水装置以及该出气口之间,一循环组件包含的一集水箱连通该壳体的一下方,循环组件包含的一水泵的一侧连通该集水箱,该水泵的另一侧连通该第一洒水装置以及该第二洒水装置,一过滤装置连通该出气口;利用二个洒水装置增加过滤废气中酸性物质的效率。质的效率。质的效率。

【技术实现步骤摘要】
酸性制程废气的处理装置


[0001]本申请是关于一种酸性制程废气的处理装置,尤其是指一种利用水雾过滤废气中包含的酸性物质的装置。

技术介绍

[0002]硫酸气体随着高温制程的排放,于废气中易形成微小悬浮的硫酸液滴,废气中的氧化硫(SO3)遇水气会反应形成气态硫酸,当废气温度低于硫酸的露点时,气态硫酸开始冷凝成次微米尺寸的硫酸液滴,若直接排放,将对环境产生严重的污染;一直以来,硫酸废气排放为各空污去除法中困难解决的目标,因此相关产业的空污被重点管制,使相关产业纷纷被限制硫酸排放总量。
[0003]随着相关产业被限制硫酸排放总量,近年来,于高硫酸排放量的产业是半导体相关产业,于半导体制程中经常使用大量有机溶剂及酸碱溶液、气体来进行蚀刻或清洁,部分化学物质会因挥发而被排气系统收集。随着产业产能遽增,制造过程产生废气也随的增加,使半导体相关产业面临废弃包含的硫酸液滴去除的巨大挑战;因此提升废气中酸性物质的去除效率,逐渐成为此业界重要课题。
[0004]现有技术使用于酸性液滴的过滤技术,主要是静电除尘法,但此种方法于半导体业界不具适用性,本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种酸性制程废气的处理装置,其特征在于,包含一壳体,其二侧各别设有一入气口以及一出气口;一第一洒水装置,其设置于该壳体的一内侧,该第一洒水装置对应设置于该入气口的一侧,该第一洒水装置包含多个第一二流体喷嘴雾化器;一第二洒水装置,其设置于该壳体的内侧,该第二洒水装置对应设置于该第一洒水装置的另一侧,且该第二洒水装置设置于该出气口的一下方,该第二洒水装置包含多个第二二流体喷嘴雾化器;一循环组件,其包含一集水箱以及一水泵,该集水箱连通该壳体的一下方,该水泵的一侧连通该集水箱,该水泵的另一侧连通该第一洒水装置的该些个第一二流体喷嘴雾化器以及该第二洒水装置的该些个第二二流体喷嘴雾化器;以及一过滤装置,其一侧连通该出气口。2.根据权利要求1所述的酸性制程废气的处理装置,其特征在于,一第一流体由该入气口进入至该壳体的该内侧,该第一流体再经过该第一洒水装置,该第一流体经过该第一洒水装置后,该第一流体经过该第二洒水装置,该第...

【专利技术属性】
技术研发人员:卓冠宏
申请(专利权)人:奇鼎科技股份有限公司
类型:新型
国别省市:

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