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增加p侧反射出光的倒装深紫外LED芯片及其制作方法技术

技术编号:33737308 阅读:30 留言:0更新日期:2022-06-08 21:34
本发明专利技术公开了一种增加p侧反射出光的倒装深紫外LED芯片及其制作方法。所述倒装深紫外LED芯片包括外延层、第一接触层、第二接触层和第一金属反射电极,所述外延层包括依次叠层设置的n型半导体层、有源层、第一p型半导体层和第二p型半导体层,所述第一p型半导体层的表面部分区域被所述第二p型半导体层覆盖,所述第二接触层与所述第二p型半导体层电性接触,所述第一接触层与所述n型半导体层电性接触;所述第一金属反射电极覆设在所述第一p型半导体层、第二p型半导体层和第二接触层上。本发明专利技术在第一p型半导体层和第二p型半导体上覆盖高反射的第一金属反射电极来增加p侧反射出光,且使该倒装深紫外LED芯片具有高的出光效率。使该倒装深紫外LED芯片具有高的出光效率。使该倒装深紫外LED芯片具有高的出光效率。

【技术实现步骤摘要】
增加p侧反射出光的倒装深紫外LED芯片及其制作方法


[0001]本专利技术涉及一种深紫外LED芯片,特别涉及一种增加p侧反射出光的倒装深紫外LED芯片及其制作方法,属于半导体


技术介绍

[0002]固态照明因为其高效节能环保等优点深受研究人员关注,并在商用领域得到极大的发展。自从疫情以来,深紫外光因其高效灭活病毒能力,可作为公共卫生消毒的有效手段。深紫外LED具有环保便携等优点,具有很大的取代传统汞灯的潜力。但是深紫外LED的内量子效率、外量子效率、WPE依然较低,这极大的影响了其商业应用。随着Al组分增加,Mg在p

AlGaN的激活能增大,空穴浓度下降,从而导致p

AlGaN的电阻过高。另外p

AlGaN的功函数过高,很难找到材料和其形成欧姆接触。
[0003]目前采用对于深紫外有很强的吸收作用的p

GaN作为深紫外LED的p接触层,这将极大的降低了光提取效率。刻蚀部分p

GaN可以降低对紫外光的吸收,但是刻蚀过程中引入的缺陷本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种增加p侧反射出光的倒装深紫外LED芯片,其特征在于,包括外延层、第一接触层、第二接触层和第一金属反射电极;所述外延层包括依次叠层设置的n型半导体层、有源层、第一p型半导体层和第二p型半导体层,所述第一p型半导体层表面的部分区域被所述第二p型半导体层覆盖,所述第二接触层与所述第二p型半导体层电性接触,所述第一接触层与所述n型半导体层电性接触;所述第一金属反射电极连续覆设在所述第一p型半导体层、第二p型半导体层和第二接触层上,第一金属反射电极和第二接触层电连接。2.根据权利要求1所述的增加p侧反射出光的倒装深紫外LED芯片,其特征在于:所述外延层具有相对的第一面和第二面,所述第一面具有二阶台阶结构,所述二阶台阶结构包括顶面、第一台阶面和第二台阶面,所述顶面为第二p型半导体层背对有源层的第二表面,所述第一台阶面为第一p型半导体层背对有源层的第一表面,所述第二台阶面为n型半导体层的暴露在外的表面区域,所述第二接触层设置在第一台阶面上,所述第一接触层设置在第二台阶面上;所述第一接触层设置在第二台阶面上并与所述n型半导体层形成欧姆接触,所述第二接触层设置在第二p型半导体层上并与所述第二p型半导体层形成欧姆接触。3.根据权利要求1所述的增加p侧反射出光的倒装深紫外LED芯片,其特征在于:所述第二p型半导体层设置在所述第一p型半导体层的第一表面,所述第一表面面积的10

50%被所述第二p型半导体层覆盖。4.根据权利要求1或3所述的增加p侧反射出光的倒装深紫外LED芯片,其特征在于:所述第二p型半导体层的厚度为30

300nm,所述第一p型半导体层的材质包括p

AlGaN,所述第二p型半导体层的材质包括p

GaN层,所述n型半导体层的材质包括n

AlGaN。5.根据权利要求1所述的增加p侧反射出光的倒装深紫外LED芯片,其特征在于:所述第一接触层上还覆盖有第二金属反射电极,第二金属反射电极和第一接触层电连接,所述第一金属反射电极和第二金属反射电极彼此电性隔离;其中,所述第一金属反射电极和第二金属反射电极包括Mg/Al、Pd/Al、Rh/Al中的至少一种或两种以上的叠层金属,所述第一金属反射电极和第二金属反射电极的厚度为100

300nm;和/或,所述第二接触层设置在所述第二p型半导体层背对第一p型半导体层的第二表面,所述第二表面面积的30%

80%被所述第二接触层覆盖;所述第二接触层包括Ag接触层和/或Ni/Ag接触层,所述第二接触层的厚度为40

100nm。6.根据权利要求1或2所述的增加p侧反射出光的倒装深紫外LED芯片,其特征在于:所述外延层的表面还形成有钝化层,所述钝化层上设置有第二引出电极和第一引出电极,所述第二引出电极、第一引出电极分...

【专利技术属性】
技术研发人员:周玉刚潘赛许朝军谢自力刘斌张荣
申请(专利权)人:南京大学
类型:发明
国别省市:

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